49. Vorlesung. Wiederholung: 52.0 Grenz- und Oberflächen Oberflächenladung Adsorbate Austrittsarbeit
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- Arwed Böhm
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1 Prof. C. von Borczyskowski Physik für CS +SK 49. Vorlesung Wiederholung: 52.0 Grenz- und Oberflächen 52.1 Oberflächenladung 52.2 Adsorbate 52.3 Austrittsarbeit Nanomaterialien 53.1 Oberflächenstrukturen 53.2 Quantendots 53.3 Quantenwells 54.0 Festkörperanalytik 54.1 Spektroskopie 54.2 Streuexperimente 54.3 Kalorimetrie 54.4 Mikroskopie Verwendete Literatur: : Göpel/Ziegler Struktur der Materie Teubner 1993, Tipler Versuche:
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5 Methoden Spektroskopische Verfahren Mikroskopische Verfahren Streuverfahren Kalorimetrische Verfahren
6 Literatur D. Haarer, H.W. Spiess (Hrsg.): Spektroskopie amorpher und kristtiner Festkörper Steinkopf Verlag Darmstadt 1995 M.D. Morris (Ed.): Microscopic and Spectroscopic Imaging of the chemical State Practical Spectroscopy Series Volume 16, Marcel Dekker N.Y. 1993
7 Weiche Materie - Soft Matter Kondensierte Phase Festkörper Flüssigkeiten Oberflächen Grenzflächen Filme Moleküle
8 Wechselwirkungen elektronisch magnetisch mechanisch chemisch Struktur mikroskopisch mesoskopisch nanoskopisch Dynamik elektronische Zustände Phasenübergänge chemische Reaktionen Eigenschaften elektrisch/magnetisch optisch mechanisch chemisch/sensorisch
9 Methoden zur Strukturbestimmung Streuverfahren Mikroskopie optische (konfokale) elektronische TEM, SEM Nahfeld: STM AFM SNOM Kernmagnetische Resonanz (NMR) Label-, Markertechniken
10 Methoden zur Bestimmung von Wechselwirkungen Energiebestimmung Optische Spektroskopie Infrarot-/Raman - Spektroskopie Photoelektronenspektroskopie Magnetische Resonanztechniken Kernphysikalische Techniken Kraftmessungen AFM Kräftewaagen
11 Methoden zur Bestimmung der Dynamik Zeitaufgelöste optische Verfahren Streuexperimente Kalorimetrie
12 Methoden zur Eigenschaftsbestimmung Optische Verfahren (Polarisation) Strom - Spannungskennlinien Reibung/Viskosität
13 Spektroskopie Absorption, Emission von elektromagnetischer Strahlung (Optische, Infrarot, Raman, Magnetische Resonanz, Photoelektronen), Dieelektrische Spektroskopie, Akustische Spektroskopie Quantenmechanischer Ansatz: Energien,Wellenfunktionen, Übergangsmomente Born-Oppenheimer Näherung: Separation von Elektron-, Kernbewegungen (Schwingungen) Heisenbergsche Unschärfe-Relation Kohärenz Kontinuums Ansatz: Dielektrische Konstante, Absorption, Brechungsindex, Reflexion, Polarisation Spektrale-, zeitliche Auflösung, Empfindlichkeit, Mikroskopie
14 Spektrale Auflösung Heisenbergsche Unschärferelation Homogene Verbreiterung durch dynamische Prozesse Inhomogene Verbreiterung durch statische Unordnung Ensemble- Zeitmittelung Kohärente Verfahren, Doppel- Resonanz verfahren Spektrale Selektion Lochbrennen), Einzelmolekültechniken
15 Zeitauflösung, Empfindlichkeit Femtosekunden - Monate (22 Größenordnungen) Isolation Stabilität Detektoren Effekt - Modulation Kodierung Markierung
16 Streuverfahren Röntgenstreuung Neutronenstreuung Lichtstreuung Brillouin Mie Rayleigh Ramanstreuung
17 Röntgen- /Neutronenstreuung Elastische, inelastische Streuung Strukturbestimmung: Kristalle (Braggreflexe), amorphe Materialien (Nahordnung) Kleinwinkelstreuung: Beugung (Aggregate, Partikel) Ineleastische Streuung: Bestimmung von Phononen (Schwingungen) Quasi elstische Streuung: langsame Bewegungen (Diffusion)
18 Lichtstreuung Photonenstreuung Dynamik von Dichte- (Molekulargewicht) und Anisotropie (Orientierungs) - Fluktuationen Brownsche Molekularbewegung Quasielastische Streuung Photonenkorrelationsspektroskopie: Diffusion Rayleigh-Brillouin Streuung: Dichteschwankungen (mechanische Größen, Phasenübergänge)
19 Mikroskopie / Manipulation Optische (NMR) Mikroskopie: einfach, Auflösung ~ 300 nm, in vivo konfokale Mikroskopie (scannend) Fluoreszenzmikroskopie (Marker, Kontrast) 2- Photonen Mikroskopie Elektronenmikroskopie: Metallbeschichtung, Auflösung ~ atomar, aufwendig Transmission scannend Nahfeld - Mikroskopie: Oberflächen, relativ einfach Scanning Tunneling Microscopy (STM): leitende Proben, Auflösung ~atomar Atomic Force Microscopy (AFM): Auflöung ~ molekular Scanning Near Field Optical Microscopy (SNOM): Auflösung ~ 10 nm Chemisches Mikroskop
20 Kalorimetrische Verfahren
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25 Tunnelmikroskopie
26 Oberflächenstruktur
27 Bandgap Engineering Electron-hole pair CdSe ZnS Energy CB VB E B E G,Bulk Size dependence
28 Introduction E Bulk 3D E 1/2 Quantum dot 0D E N(E) N(E) Core/shell QD Optical tunability Increased quantum efficiency Extended semiconductor Continum of electron energies Quantum Dot Discrete electronic energies E h 2 π = s1 s E g R 2 m * m * e h e 2 ε 2 R + Small polarization term at the surface
29 Lithography Etch pillars in quantum well heterostructures Quantum well heterostructures give 1D confinement Mismatch of bandgaps potential energy well Pillars provide confinement in the other 2 dimensions Electron beam lithography Disadvantages: Slow, contamination, low density, defect formation A. Scherer and H.G. Craighead. Fabrication of small laterally patterned multiple quantum wells. Appl. Phys. Lett., Nov 1986.
30 Stranski-Krastanow Wachstum z.b. InGaAs on GaAs SiGe on Si Oliver G. Schmidt Uncapped indium arsenide (InAs) self-assembled quantum Dots grown on gallium arsenide (GaAs). images.pennnet.com
31 Quantenwellstrukturen
32 Laserkristall (GaAs) 850 nm homo hetero Inversionsdichte Doppel- hetero
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35 Nano - Materialien Halbleiter Nanopartikel Quantum-Well-Strukturen Metallische Nanopartikel
36 SAM
37 Halbleiter Nanopartikel Warum Nanopartikel? Volumen Oberflächenverhältnis Qualitative Änderung von Eigenschaften Vom Atom zum Festkörper quantum size Effekte Optische Eigenschaften Silizium Nanopartikel Poröses Silizium Kolloidale Halbleiter Epitaktische Halbleiter
38 Warum Nanopartikel? Nano entspricht m = 1 nm Atomdurchmesser Silizium (Si): 0,12 nm Bindungslänge Si-Si: 0,233 nm Grobe Abschätzung Würfel: Kantenlänge d =10 nm: ca Si Atome -19 Kantenlänge d= 1nm: ca 100 Si Atome, alle an der Oberfläche
39 Warum Nanopartikel? Qualitative Änderung von Eigenschaften als Funktion der Größe, z.b. Leitfähigkeit Farbe Thermische Eigenschaften Oberflächen : Volumenverhältnis (reaktive) Grenzflächen Interface
40 Oberflächen reaktiv!! Passivierung: H, O In the basic unit of a crystalline silicon solid, a silicon atom shares each of its four valence electrons with each of four neighboring atoms
41 Eigenschaften Elektrische Leitfähigkeit Ohmscher Widerstand eines makroskopischen Drahts: R = ρ Länge l/querschnitt A Einzelelektronen Transistor
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43 Tunnelmikroskopie STM
44 Eigenschaften Optische Eigenschaften Absorption Metalle Halbleiter Emission Halbleiter Streuung Metalle
45 Semiconductor Quantum - Dots Linnros CdSe Silicon Meier
46 Größenabhängige Farbe
47 Quantum Confinement
48 Quantum Confinement Bulkcrystal Thin film Quantum wire Quantum dot 3D 2D 1D 0D E E 1/2 E E E -1/2 E N(E) N(E) N(E) N(E) Example: CdSe
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50 Halbleiter Quantum Dots (QD s) : Quantenpunkte E g E g E g
51 Exzitonen:Quantum Confinement Elektron - Lochpaar e- e- h+ a B a B e- h+ a B h+ Wannier Exziton: H_Atom : Halbleiter Frenkel Exziton: Lokalisierung: Moleküle
52 CdSe e d c b a Absorbance (a.u.) c b a PL Intensity (a.u.) d e Wavelength (nm) Wavelength (nm) Absorption (left) and PL (right) spectra of alloyed Zn x Cd 1-x Se QDs 2 nm a 5.2 nm CdSe b 5.8 nm Zn 0.28 Cd 0.72 Se c 6.3 nm Zn 0.44 Cd 0.56 Se d 6.8 nm Zn 0.55 Cd 0.45 Se e 7.5 nm Zn 0.67 Cd 0.33 Se Knoll, MPI Mainz
53 Quntendots in Lösungen
54 Kolloidale Quantum Dots - Oberfläche CdSe Core ZnS Shell TOPO O P H3 C Evident Technologies, Inc. H3 C H3 C
55 QDs Oligo target Oligo-probe Streptavidin matrix Binary thiol layer Au - surface Schematic illustration of the interfacial multilayer architecture for the fluorescence detection of hybridization events.
56 Stranski-Krastanow Wachstum z.b. InGaAs auf GaAs SiGe auf Si Oliver G. Schmidt Uncapped indium arsenide (InAs) self-assembled quantum Dots grown on gallium arsenide (GaAs). images.pennnet.com
57 Caption: Micrograph of pyramid-shaped quantum dots grown from indium, gallium, and arsenic. Each dot is about 20 nanometers wide and 8 nanometers in height.
58 QD - Leuchtdioden DEAK-LAM, Inc. New York...Hong Kong...London
59 Lithography Etch pillars in quantum well heterostructures Quantum well heterostructures give 1D confinement Mismatch of bandgaps potential energy well Pillars provide confinement in the other 2 dimensions Electron beam lithography Disadvantages: Slow, contamination, low density, defect formation A. Scherer and H.G. Craighead. Fabrication of small laterally patterned multiple quantum wells. Appl. Phys. Lett., Nov 1986.
60 Halbleiter Quanten Well Strukturen Halbleitereigenschaften Dotierte Halbleiter pn-übergänge Optische Eigenschaften von Halbleitern Absorption, Emission, stimulierte Emission Lasereigenschaften Halbleiterlaser Quantenwell - Strukturen und Laser Quantendot Laser
61 Diodenlaser
62 Halbleiter
63 Rekombination von Elektron-Loch Paaren Energieschema einer GaAlP-Laserdiode. Die aktive Zone ist zwischen einer p- und einer n-dotierten Schicht eingeschlossen.
64 Bandlücken von Halbleitermaterialien
65 Laserkristall (GaAs) 850 nm homo hetero Inversionsdichte Doppel- hetero
66 Miniaturisierung
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68 Färbung von Glas vorne: Goldrubinglas in Überfangtechnik mitte: Überfangkappen aus reinem Goldrubinglas, vor dem Sintern klar, nach dem Sintern rubinrot, hinten: Glas mit Färbung aus Silber-Nanopartikeln) (Hersteller: Nachtmann)
69 Farbdreieck: Absorption
70 Rayleigh Streuung/Mie-Streuung
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Methoden. Spektroskopische Verfahren. Mikroskopische Verfahren. Streuverfahren. Kalorimetrische Verfahren
Methoden Spektroskopische Verfahren Mikroskopische Verfahren Streuverfahren Kalorimetrische Verfahren Literatur D. Haarer, H.W. Spiess (Hrsg.): Spektroskopie amorpher und kristalliner Festkörper Steinkopf
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