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Erfinder: Schunk, Eckard Geissler Weg 35 D-4000 Düsseldorf(DE) Erfinder: Winter, Frank P.O. Box 55 Redditch WorcestershirelGB)

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PATENTANMELDUNG. int. ei s E04D 3/38, E04D 3/36

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Europäisches Patentamt European Patent Office Office europeen des brevets. (jj) Veröffentlichungsnummer: A2 EUROPÄISCHE PATENTANMELDUNG

W-7519 Oberderdingen(DE) Durch die Erfindung wird der Aufwand beim Aufbau des Gasbrenners verringert.

EUROPÄISCHE PATENTANMELDUNG. (5;) Anmeldenummer: Int. Cl.3: D 05 B 75/06 A 47 B 29/00 (22) Anmeldetag:

EP A2 (19) (11) EP A2 (12) EUROPÄISCHE PATENTANMELDUNG. (43) Veröffentlichungstag: Patentblatt 2011/52

EP A2 (19) (11) EP A2 (12) EUROPÄISCHE PATENTANMELDUNG. (43) Veröffentlichungstag: Patentblatt 2000/20

Transkript:

J ) Europäisches Patentamt European Patent Office Dffice europeen des brevets 5) Veröffentlichungsnummer: 0 387 798 A1 EUROPAISCHE PATENTANMELDUNG Anmeldenummer: 90104734.0 g) Anmeldetag: 13.03.90 lnt.ci.5 H02H 9/04, H01L 27/02, H03K 17/08 S) Prioritat: 16.03.89 EP 89104712 Anmelder: Siemens Aktiengesellschaft Wittelsbacherplatz 2 ) Veroffentlichungstag der Anmeldung: D-8000 Munchen 2(DE) 19.09.90 Patentblatt 90/38 @ Erfinder: Dietze, Andreas, Dipl.-lng. S) Benannte Vertragsstaaten: Teufelsgrabenweg 4 BE DE DK ES FR GB IT NL D-8155 Valley/Grub(DE) Erfinder: Kriedt, Hans Triesterstrasse 33 D-8000 Munchen 80(DE) 0 Monolithisch integrierbare Transistorschaltung zum Begrenzen von negativen Uberspannungen. Es wird eine monolithisch integrierte Transistorschaltung zum Schutz eines elektrischen Schalters gegen vorübergehende negative Hochspannungen beschrieben, wobei der Emitteranschluß eines NPN- Transistors an den zu schützenden Leiter angeschlossen ist, wobei der Kollektoranschluß dieses NPN-Transistors an das positive versorgungspoienual geschaltet ist und wobei der Basisanschluß dieses NPN-Transistors mit dem Anodenanschluß einer Substratdiode verbunden ist, deren Kathodenanschluß auf Bezugspotential liegt. 00 r> p> oo CO Qu LLI L1 Xerox uopy uentre

I EP 0 387 798 A1 Die Erfindung betrifft eine monolithisch integrierbare Transistorschaltung nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1 sowie Halbleiterstrukturen zur einfachen Realisierung solcher Transistorschaltungen. Aus der DE-OS 26 54 419 sind Schaltungsan- Drdnungen zur Spannungsbegrenzung auf elektrischen Leitern bekannt, bei denen eine steuerbare Strecke einer Halbleiteranordnung, insbesondere die Kollektor-Emitter-Strecke eines Transistors zwischen dem zu schützenden Leiter und dem Bezugspotential angeordnet ist. Vom Steuereingang der Halbleiteranordnung sind Dioden-Ketten jeweils in Sperrichtung zum zu schützenden Leiter bzw. zum Bezugspotential geschaltet. Zum Schutz vor positiven Hochspannungen auf dem zu schützenden Leiter ist die entsprechenden Dioden-Kette in Durchlaßrichtung vom zu schützenden Leiter zum Steuereingang der Halbleiteranordnung geschaltet, wobei die Anzahl der Dioden die maximal zulässige Spannung bestimmt. Bei integrierten Schaltungen sind solche Dioden-Ketten jedoch aufgrund ihres großen Flächenbedarfes möglichst zu vermeiden. Außerdem läßt sich der Spannungswert, bei dem die Spannungsbegrenzung eintreten soll, nur ungenau vorgeben und die Impedanz, mit dem eine solche Schaltung den zu schützenden Leiter belastet, ist relativ großen Streuungen unterworfen und begrenzt die verarbeitbare Signalfrequenz beträchtlich. Aus der DE-OS 31 25 198, insbesondere Figur 3, ist eine Transistorschutzschaltung zum Schutz von elektrischen Leitern vor vorübergehenden positiven Hochspannungen bekannt, wobei der Emitter eines PNP-Transistors an den zu schützenden Leiter an geschlossen ist, der Kollektor dieses PNP- Transistors an das Bezugspotential geschaltet ist, der Basisanschluß dieses pnp-transistors über eine Diode in Durchlaßrichtung an das Bezugspotential geschaltet ist und mit einer Bezugsvorspannung beaufschlagt ist. FIG 2 der DE-OS 31 25 198 zeigt die gleiche Schaltung mit einem NPN-Transistor, der gegen das positive Versorgungspotential geschaltet ist und somit gegen vorübergehende negative Hochspannungen schützt. Wenn der zu schützende Leiter beispielsweise an einen Bus oder einen Port eines Datensystems oder an einen Antennenausgang angeschlossen ist, so kann es vorkommen, daß auf dem Leiter Signalspannungen und auch ESD-Impulse auftreten, obwohl eine zu schützende und die Transistor-Schutzschaltung enthaltende Halbleiterschaltung außer Betrieb ist. In diesem Fall ist jedoch eine solche, aus der DE-OS 31 25 198 bekannte Transistor-Schutzschaltung ebenfalls außer Betrieb, da keine Bezugsvorspannung vorhanden ist. Zum Schutz elektrischer Leiter vor vorübergehenden negativen Hochspannungen hat sich der Einsatz von Substratdioden bewahrt. Substratdioden, die sowohl den entsprechenden Strom abführen können als auch einen geringen Wirkwiderstand aufweisen, belasten einen zu schützenden 5 Leiter mit einer Kapazität, die üblicherweise größer als 1pF ist. Bessere Hochfrequenzeigenschaften weist eine aus der DE-OS 33 01 800 bekannte Schutzschaltung zum Schutz vor negativen Hochspannungen auf. Eine solche Schutzschaltung be- io steht aus zwei zueinander komplementären Transistoren, deren Basiselektroden miteinander verbunden sind wobei der Emitter des NPN-Transistors mit dem Signaleingang der zu schützenden Schaltung verbunden ist und sein Kollektor an die Klem- 15 me für das positive Versorgungspotential geschaltet ist, wobei der Emitter und der Kollektor des PNP-Transistors zusammengeschaltet sind und auf einem festen Potential liegen. Eine solche Schaltung belastet den zu schützenden Leiter mit einer 20 zusätzlichen Kapazität von ca. 1 pf. Wenn auf dem zu schützenden Leiter jedoch höchstfrequente Signale übertragen werden sollten, so ist eine zusätzliche kapazitive Belastung von 1 pf in vielen Fällen nicht tragbar. 25 Aufgabe der Erfindung ist das Bereitstellen einer monolithisch integrierten Transistorschaltung zum Begrenzen vorübergehender negativer Hochspannungen auf einem elektrischen Leiter, die diesen zu schützenden Leiter nur sehr gering kapazitiv 30 belastet, sodaß die Übertragung von höchstfrequenten Signalen auf diesem Leiter möglich ist. Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch eine Transistorschaltung nach dem Patentanspruch gelöst. 35 Günstige Ausgestaltungsformen sind Gegenstand von Unteransprüchen. Aufbau und Funktionsweise einer erfindungsgemäßen monolithisch integrierbaren Transistorschaltung wird nachstehend anhand des in der Figur 40 gezeigten Ausführungsbeispieles näher erläutert. Die Figur zeigt als Schaltbild einer erfindungsgemäßen Transistorschaltung einen zu schützenden Leiter L1, der mit dem Emitter eines NPN- Transistors T1 verbunden ist. Der Kollektor des 45 NPN-Transistors T1 ist an das positive Versorgungspotential U1 angeschlossen, der Basisanschluß des NPN-Transistors T1 ist mit dem Kathodenanschluß einer Substratdiode Ds verbunden und der Anodenanschluß dieser Substratdiode Ds so ist an das Bezugspotential Masse angeschlossen. Hierbei ist darauf zu achten, daß die Substratdiode mit Hilfe einer möglichst kleinen Epitaxiewanne realisiert ist. Eine solche Substratdiode besteht üblicherwei- 55 se aus einer n-dotierten Epitaxiewanne auf p-dotiertem Substrat, die von einem Isolationsrahmen umgeben ist, wobei ein hochdotierter Bereich vom gleichen Leitungstyp wie die Wanne zum Herstel- 2

i EP 0 387 798 A1 4 en eines Kontaktes zwischen einem Leiter und der /Vanne vorgesehen ist. Dieser hochdotierte Bereich cann von relativ geringer Eindringtiefe sein, er kann aber auch bis in das Substrat hineinreichen. Durch Verwendung einer Substratdiode mit 5 sntsprechend kleinen Abmessungen erhält man sine erfindungsgemäße Transistorschutzschaltung, die in einer durchschnittlichen Bipolartechnologie ealisiert den zu schützenden Leiter mit einer zusätzlichen Kapazität belastet, die kleiner ist als 0,1 10 df. Bei erfindungsgemäßen Schaltungen wird der Leiter L1 zusätzlich mit einer Kapazität belastet, die sich aus der Serienschaltung aus der Sperrschichtkapazität der Basis-Emitterdiode des NPN- 15 Transistors T1 und der Sperrschichtkapazität der Substratdiode Ds zusammensetzt. Die Kapazität der Substratdiode Ds bestimmt also entscheidend die zusätzliche kapazitive Belastung des elektrischen Leiters L1. Wird anstelle der Substratdiode 20 Ds, wie aus der DE-OS 33 01 800 ein Transistor vorgesehen, so ist dessen Kapazität aufgrund der erheblich größeren Fläche der Epitaxiewanne erheblich größer. Die Epitaxiewanne einer Substratdiode Ds in 25 erfindungsgemäßen Schaltungen muß lediglich den Basisstrom des NPN-Transistors T1 führen, so daß der Wirkwiderstand dieser Substratdiode nicht kritisch ist. Ansprüche Monolithisch integrierbare Transistorschaltung zum Begrenzen vorübergehender negativer Hoch- 35 Spannungen auf einem elektrischen Leiter (L1 ), wobei der Emitteranschluß eines NPN-Transistors (T1) mit dem elektrischen Leiter (L1) verbunden ist, wobei der Kollektoranschluß dieses NPN-Transistors (T1) an ein Versorgungspotential (U1) ge- 40 schaltet ist und wobei dieser NPN-Transistor (T1) nur bei Überschreiten eines vorgegebenen gegenüber dem Bezugspotential (Masse) negativen Potentialschwell wertes leitend ist, dadurch gekennzeichnet, daß der Basisanschluß des NPN-Transi- 45 stors (T1) mit dem Kathodenanschluß einer Diode (Ds) verbunden ist, daß der Anodenanschluß dieser Diode (Ds) an ein Bezugspotential (Masse) geschaltet ist und daß die Diode (Ds) durch eine Substratdiode realisiert ist. 50 3

EP 0 387 798 A1

iropjusches itentamt r ju iu ti s^-r ategone INSCHLAU1ÜK UUKUMfclN lt, HmzCKaBUBg «es uokamems am Aipae, sonen oimmihi, der Maßgeblichen Teile @Spruch MMELDUNG (lat. CI.5) VlENT ABSTRACTS Ur JAPAN and 11, Nr. 77 (E-487)(2524), 7. Maerz 987; & JP - A - 61 232 657 (FUJITSU TD.) 16.10.1986 * das ganze Dokument * uc n 01 L w-r 27/02 03 K 17/08 ATENT ABSTRACTS OF JAPAN and 7, Nr. 272 (E-214)(1417), 3. ezember 1983; & JP - A - 58 153 361 NIPPON DENKI K.K.) 12.09.1983 * das anze Dokument * BM TECHNICAL DISCLOSURE BULLETIN and 29, Nr. 10, Maerz 1987, Seiten 677,4678, Armonk, New York, US; Electrostatic dlscharge protect device or Integrated bipolar technology" * elten 4677,4678 * E-A-2 654 419 (TELEFONBAU UND ORMALZEIT GMBH) Figuren 1-5 * ie-a-3 301 800 Figur 1 * (SIEMENS AG) IS-A-4 302 792 (L.A. HARW00D) Zusammenfassung; Figuren 2-5 * SACHGEBIETE (lat- CI.5) 1 UL n @1 01 L Hl 27/02 ^ 03 K 17/08 A 03 K 19/003 Der verbeten«* Keaiercneooencni wurnc rar aue rnoiub iiwac BERLIN 15-06-1990 KATEGORIE DfcK UtlNAiNrN uumjrannii. X: voa äcsoaaerer @eaeuiaag ninn Mna«Y: von kesoadercr Bedeutung i» Verbindung mit einer aaaerea Veröffeatlicaung derselben Kategorie A: techaologiscaer Hintergrund O : aicatscarrftllcae Offenbarung P : Zwtschealheratar E : älteres Pateatdokumeat, aas jedoca erst an oder aaca aea AsaMMadatuai veroffeatlicht wordea ist D : In der Anmeldaag angefahrtes Dokument L : aus aadera GrUadea M geführt es DakuaMat itmitgiied'der"gi^ ÜkereiBstiairaeades Dokaaieat