CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF GRAPHENE ON COPPER



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Transkript:

DISS. ETH NO. 21458 CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF GRAPHENE ON COPPER A dissertation submitted to ETH ZURICH for the degree of DOCTOR OF SCIENCE presented by KEMAL CELEBI M. Sc. Physics, Massachusetts Institute of Technology Born on February 13th 1982, citizen of Turkey accepted on the recommendation of Prof. Dr. Hyung Gyu Park, examiner Prof. Dr. Dimos Poulikakos, co-examiner Zurich, 2013

iii Abstract The era of two-dimensional materials has begun with graphene. It is the first artificially-isolated single-atom-thick material, which is also an exceptional example of its kind. With its extraordinary physical and chemical properties, it has become hugely popular among scientists and technologists in a timeframe of less than a decade. When first isolated, graphene was a subject of the fundamental research by condensed matter physicists. Later, the hopes on graphene s applicability have leapt forward by its synthesis on sacrificial substrates by chemical vapor deposition (CVD). Thus, a great deal of interest in research and development of graphene has risen all over the world. The present thesis addresses the synthesis of graphene by CVD on copper, which has become the most popular catalyst for graphene growth. The entire CVD process, as well as the sacrificial transfer methods is studied in this project. One of the first demonstrations of ethylene-based graphene growth is presented herein. The methods for substrate selection and preparation, graphene growth and transfer to rigid and porous substrates are explained in detail. Low defect density (IG /IG = 1.82±0.25) and high monolayer covering (98.4%) have been achieved, yielding a charge mobility of 3,600 cm 2 V -1 s -1. A significant study on the graphene growth kinetics and mechanisms is also reported in the present thesis. It has been previously claimed that graphene growth on copper by CVD is dominated solely by crystallization from the surface initially supersaturated with carbon adatoms, which implies that the growth is independent of hydrocarbon addition after the nucleation phase. Here, an alternative growth model is presented, based on the observations that oppose this claim. A Gompertzian sigmoidal growth kinetics model described here supports the postulate that the graphene CVD can be controlled by adsorption-desorption dynamics and the dispersive kinetic processes of catalytic dissociation and dehydrogenation of carbon precursors on copper.

iv A quantitative analysis of the graphene crystal morphology presented in this thesis claims that the sublimation of copper catalyst is critically important in defining the crystal shapes. A suppression of this sublimation can result in improved hexagonal morphology, which could provide better grain connectivity. Finally, an improved graphene transfer method is described. The differences in the initial and recent transfer processes are explained. Substantial advancements in the cleanliness and the mechanical stability of transferred graphene are shown to yield high quality freestanding graphene on large-scale pore arrays.

v Zusammenfassung Mit der Entdeckung von Graphene hat die Ära der zweidimensionalen Materialien begonnen. Graphene ist das erste künstlich isolierte Material, das aus nur einer Lage von Atomen besteht. Mit seinen außergewöhnlichen physikalischen und chemischen Eigenschaften erfreut sich es grosser Beliebtheit unter Wissenschaftlern und Technologen. Während kurz nach der Entdeckung, Graphene vor Allem Gegenstand der Grundlagenforschung in der Festkörperphysik war, wurden schnell verschiedene Anwendungsgebiete für Graphene entdeckt. Insbesondere die Synthese von Graphene auf Opfersubstraten durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD) ermöglicht die Nutzung von Graphene in verschiedensten Anwendungen. Weltweit wurden daher große Mengen an Forschungsgeldern in die Erforschung von Graphene investiert. Die vorliegende Arbeit befasst sich mit der CVD-Synthese von Graphene auf Kupfer, dem meist benutzten Katalysator für Graphene-Wachstum. Das gesamte CVD-Syntheseverfahren, sowie die Opferschicht Transferverfahren werden in diesem Projekt untersucht. Einer der ersten Nachweise des Ethylene basierenden Graphene- Wachstums wird erbracht. Ausserdem werden Methoden der Substratauswahl und -vorbereitung, sowie die Graphene Synthese und der Transfer zum starren und porösen Substrate im Detail erläutert. Das synthetisierte Graphene weißt eine niedrige Defektdichte (IG /IG = 1.82±0.25) auf, besteht aus 98.4% Monolage und hat eine Ladungsträgerbeweglichkeit von 3600 cm2 V -1 s -1. Eine massgebliche Untersuchung der Kinetik und der Mechanismen des Graphene-Wachstums wird presentiert Bisher ging die Forschung davon aus, dass das die CVD Synthese von Graphene auf Kupfer durch die Kristallisation von Kohlenstoff auf der Oberfläche, die zuvor durch Kohlenstoff Adatome übersättigt wurde, dominiert wird. Dies wiederum bedeutet, dass das Wachstum unabhängig von Kohlenwasserstoff-Zugabe nach der Nukleationsphase ist.

vi Detaillierte Beobachtungen der Wachstumskinetik unterstützen ein alternatives Wachstumsmodell. Das Gompertz-Funktion- Wachstumskinetikmodell, das hier beschrieben wird, unterstützt das Postulat, dass das die Graphenesynthese durch Adsorptions- Desorptions-Dynamik und dispersive, kinetische Prozesse, der katalytischen Dissoziation und der Wasserstoffabspaltung des Kohlenstoff-Precursors auf Kupfer, kontrolliert werden kann. Eine quantitative Analyse der Graphen-Flocken-Morphologie in dieser Arbeit zeigt, dass die Stärke der Sublimation des Kupfer- Katalysators die Form der Graphene Flocke definiert. Wird die Sublimation unterdrückt, entsteht eine hexagonale Morphologie und die Korngrenzen Verbindung kann verbessert werden. Schließlich wird ein verbessertes Graphene-Transferverfahren beschrieben und die Unterschiede zu bisherigen Transferprozessen aufgezeigt. Erhebliche Fortschritte bei der Sauberkeit und der mechanischen Stabilität des übertragenen Graphenes, ermöglichen die Herstellung von hoch qualitativen, frei stehenden Graphenemembranen auf großen Loch-Arrays.