COMPETENCE IN LAPPING AND POLISHING BY Wentzky, Graessner, ABRALAP and JOKE SINCE MORE THAN 75 YEARS Verbrauchs- und Verschleißteilprogramm für Einscheiben- Läpp- und Poliermaschinen Product Range Wear Parts and Consumables for Single-Plate Lapping- and Polishing Machines
Inhaltsverzeichnis / Contents Seite / Page Läpp- und Polierwerkzeuge nach Kategorien Lapping and Polishing Tools categories 3 Lappscheiben Lapping Wheels 4 Polierscheiben Polishing Wheels 5 Composite Polier-Läppscheiben Composite Polishing-Lapping Wheels 6 Festkorn Flachhonscheiben / Poliertuch-Trägerscheiben Grinding Wheels for Flat Honing / Base plate for Polishing Pads 7 Abrichtringe Conditioning Rings 8 Aufnahmescheiben Carrier Wheels 9 Ausgleichsscheiben / Belastungsplatten Adapter Pads / Load Plates 10 Poliertücher Polishing Pads 11 Läppmittel Lapping Medium 12 Läppfl üssigkeiten Lapping Fluids 14 Diamantpulver Diamond Powder 15 Diamantfl üssigkeiten Diamond Fluids 18 Diamantsprüheinrichtung Mikrospray I & II Diamond Metering Unit Mikrospray I & II 19 Interferenzprüfgerät und Poliertisch Interferometer and Polishing Table 20 Plangläser / Prüfblöcke Optical Flat / Test Block 22 Ultraschallreinigungsgeräte Ultrasonic Cleaning Units 23
Läppscheiben werden grob in fünf Gruppen unterteilt: Lapping wheels are roughly divided into three categories: Ungeglühte Läppscheiben: z.b. Guss, weicher Stahl Unannealed lapping wheels: e.g. Cast, Soft Steel Gehärtete Läppscheiben: z.b. Gehärteter Guss, Hart-Keramik, gehärteter Stahl usw. Hardened lapping wheels: e.g. Hardened cast, hard ceramic, hardened steel etc. Geglühte Läppscheiben/Polierscheiben: z.b. Kupfer Zinn Kunststoffe, usw. Annealed lapping wheels: e.g. Copper, Tin, Plastics, etc. Composite Polier-Läppscheiben: Diese verbinden Merkmale des Läppens und Polierens in einer Scheibe, Materialabtrag und Oberflächengüte. Bewerkstelligt wird dies durch die Kombination mehrerer Metalle wie Guss und Kupfer bzw. Guss und Zinn usw. in einem bestimmten Verhältnis auf einer Scheibe. Composite Lapp/polishing wheels These plates serve the features of lapping and polis-hing in once (Removal performance and surface quality). The cause of these effect is an combination of several metals such as cast iron, cupper and tin. Festkornscheiben Siliziumcarbid zum Flachhonen Festkornscheiben Siliziumcarbid for flat honing Am gebräuchlichsten sind Läppscheiben mit einer radial ausgeführten Nutung, die für nahezu alle Bearbeitungsfälle eingesetzt werden können. Ungenutete Scheiben sind hingegen vorzuziehen, wenn sehr kleine Werkstücke bearbeitet werden sollen, bei denen die Gefahr des Kippens besteht. Für die Bearbeitung von Glas und Wafern hat sich die Waffelnutung bewährt. The most common lapping wheels are those with radial grooves, which can be used for nearly all processing cases. Ungrooved wheels however are preferable, if very small workpieces are to be processed, where a danger of tumbling exists. The wafer grooved wheel has proved to the best for processing glass and wafers.
Läppscheiben / Lapping wheels Läppscheiben mit Härten von 140-220 HB haben sich in der Praxis als vorteilhaft erwiesen. Diese Härten erlauben das dauerhafte Einhalten von hoher Präzision, Planheit, Parallelität, Oberflächengüte und Maßgenauigkeit. Abhängig von verschiedenen Bearbeitungsanforderungen gibt es verschiedene Ausführungen von Läppscheiben bezüglich der Nutungen. Lapping wheels with a hardness of 140-200 HB have proven advantageous in practice. These degrees of hardness allow long-term adherence to precision, flatness, parallelism, surface quality and dimensional precision. Dependent upon the various processing requirements, there are different types of lapping wheel, depending upon their intended use. 1 R 30 /1 R 300* 3 R 350* 3 R 380/EL 380* 3 R 40* 4 R 40* 3 R 50* 3 R 600* 4 R 70* EL 700* 3 R 90 / 3 R 900* 4 R 900* 4 R 100* EL 1000* 4 R 120** EL 1200* 4 R 150** EL 1500* 4 R 180** EL 1800* 4 R 215** GG ungenutet Cast Iron unserrated GG radial genutet Cast Iron radial serrated GG spiralgenutet Cast Iron spiral serated Stahl ungenutet Steel unserrate Stahl radial genutet Steel radial serrated Stahl spiralgenutet Steel spiral serrated Keramik ungenutet Ceramic unserrated Keramik radial genutet Ceramic radial serrated Keramik spiralgenutet Ceramic spiral serrated Glas ungenutet Glas unserrated Glas radial genutet Glas radial serrated Glas spiralgenute Glas spiral serratd Ab Lager From Stock Lieferzeit ca. 6 Wochen Delivery time about 6 weeks Lieferzeit ca. 12 Wochen Delivery time about 12 weeks Auf Anfrage Upon request Vollscheibe Full Plate Segmentscheibe Segmented plate * **
Polierscheiben / Polishing wheels Das Polieren wird in erster Linie auf spiral genuteten Scheiben durchgeführt. Die Spiralnutung hat den Effekt, dass sich das verhältnismäßig teure Polierkorn (Diamant) länger auf der Scheibe im Bearbeitungsprozess hält. Polishing is primarily carried out using wheels with a spiral groove. The spiral groove has the effect, that the relatively expensive polishing abrasive (diamond) remains on the wheel for longer during the polishing process. 1 R 30 /1 R 300 3 R 350 3 R 380/EL 380* 3 R 40 4 R 40 3 R 50 3 R 600 4 R 70 EL 700 3 R 90 / 3 R 900 4 R 900 4 R 100 EL 1000 Kupfer ungenutet Copper unserrated Kupfer radial genutet Copper radial serrated Kupfer spiralgenutet Copper spiral serrated Zinn ungenutet Tin unserrated Zinn radial genutet Tin radial serrated Zinn spiralgenutet Tin spiral serrated Bronze ungenutet Gunmetal unserrated Bronze radial genutet Gunmetal radial serrated Bronze spiralgenutet Gunmetal spiral serratd Ab Lager From Stock Auf Anfrage Upon request Lieferzeit ca. 6 Wochen Delivery time about 6 weeks
Composite Polier- Läppscheiben Composite Polishing- Lapping Wheels Polier-Läppscheiben sind in Bereiche unterschiedlicher Härtegrade aufgeteilt. Das aufgetragene Diamantkorn wird beim Überqueren der unterschiedlich harten Polierläppscheibenbereiche laufenden Geschwindigkeitsänderungen unterworfen. Aufgrund geringerer Scheibenhärte, im Vergleich zum Abrasiv und zu bearbeitenden Werkstoff, drückt sich das Diamantkorn zum Teil in die Scheibe ein, und erzeugt gerichtete Bearbeitungsspuren. Der entscheidende Vorteil von Polierläppscheiben ist die Oberflächenbearbeitung in nur einem Arbeitsschritt bei hohem Materialabtrag und gleichzeitiger Erzielung reflektierender Oberflächen. Polish-lapping wheels are divided in plates of different hardness. While crossing the plate the diamond corn will rotate with different speed caused of different hard areas on the plate. Compared to the lapping process the diamond corn will partly remain in the plate and finally polish the work piece. The main advantage of polish-lapping plates is an high stock removal and an reflecting surface in one step. 1 R 30 /1 R 300 3 R 350 3 R 380/EL 380 3 R 40 4 R 40 3 R 50 3 R 600 4 R 70 EL 700 3 R 90 / 3 R 900 4 R 900 4 R 100 EL 1000 Ab Lager From Stock Auf Anfrage Upon request Hart ungenutet Hard unserrated Hart radial genutet Hard radial serrated Hart spiralgenutet Hard spiral serrated Medium ungenutet Medium unserrated Medium radial genutet Medium radial serrated Medium spiralgenutet Medium spiral serrated Weich ungenutet Soft unserrated Weich radial genutet Soft radial serrated Weich spiralgenutet Soft spiral serratd Lieferzeit ca. 6 Wochen Delivery time about 6 weeks
Festkorn - Flachhonscheiben Grinding Wheels for Flat Honing 1 R 30 /1 R 300 3 R 350 3 R 380/EL 380 3 R 40 4 R 40 3 R 50 3 R 600 4 R 70 EL 700 3 R 90 / 3 R 900 4 R 900 Ab Lager From Stock Hart ungenutet Hard unserrated Hart radial genutet Hard radial serrated Hart spiralgenutet Hard spiral serrated Medium ungenutet Medium unserrated Lieferzeit ca. 6 Wochen Delivery time about 6 weeks Poliertuch-Trägerscheiben Base plates for polishing pads Sind für alle Maschinengrößen bis 900 mm ab Lager erhältlich Available ex stock for all machine sizes until 900 mm.
Abrichtringe /Conditioning rings Selbsttätig mitlaufende Abrichtringe (angetrieben durch die Läppscheibe) oder zwangsgetriebene Abrichtringe sichern stete Ebenheit der Läppscheibe. Die Abrichtringe werden seitlich durch Polyamidrollen, die in einem Führungsarm gelagert sind, abgestützt. Conditioning rings, which automatically run with the wheel (driven by the lapping wheel) or gear driven conditioning rings ensure flatness of the lapping wheel at all times. The conditioning rings are supported laterally by polyamide rollers, which are in a guide arm. Das Drehzahlverhältnis zwischen Abrichtring und Läppscheibe soll im Idealfall n = 1:1 betragen, wobei die Drehrichtung ebenfalls gleich sein muss. Einen weiteren wichtigen Einfluss auf das Abrichtverhalten hat das Gewicht und die Größe der Abrichtringe. Je größer die Auflagefläche der Ringe, desto größer der Abrichteffekt. Grundsätzlich muss darauf geachtet werden, dass das Gewicht der Abrichtringe immer größer ist als das Werkstückgewicht pro Abrichtring, da sonst die Läppscheibe nicht abgerichtet wird. The speed ratio between lapping wheel and conditioning ring should ideally be n=1:1, Whereby the direction of the ration should be the same. The weight and size of the conditioning rings also has a great influence on the conditio-ning characteristics. The larger the surface contact area of the rings, the greater the conditioning effect. It is of fundamental importance that the weight of the conditioning rings is always greater than that of the work piece weight per conditioning ring, otherwise the lapping wheel will not be trued. 1 R 30 /1 R 300 3 R 350 3 R 380/EL 380 3 R 40 4 R 40 3 R 50 3 R 600 4 R 70 EL 700 3 R 90 / 3 R 900 4 R 900 4 R 100 EL 1000 4 R 120 EL 1200 4 R 150 EL 1500 4 R 180 EL 1800 4 R 215 GG ungenutet Cast Iron unserrated GG radial genutet Cast Iron radial serrated Stahl ungenutet Steel unserrated Stahl radial genutet Steel radial serrated Keramik bestückt Stainless Steel Ceramic equipped Feuerverzikt Keramik bestückt Galvanized Steel Ceramic equipped Kunststoff bestückt Stainless Steel Plastic equipped Feuerverzikt Kunstoff bestückt Galvanized Steel Plastic equipped Bronze genutet Gunmetal serratd Rollenführung polyamid rollers Ab Lager From Stock Lieferzeit ca. 6 Wochen Delivery time about 6 weeks Nicht lieferbar Not available Auf Anfrage Upon request
Aufnahmescheiben Carrier wheels A Novellus Systems Company Aufnahmescheiben dienen dazu die Werkstücke auf der Läppscheibe zu führen. Bei der Bestückung der Aufnahmescheiben ist darauf zu achten, dass die Aufnahmescheibe im Zentrum nicht bestückt wird (siehe auch Verschleiß der Läppscheibe und Abrichtringe ). The carrier wheels serve to guide the work piece onto the lapping wheel. When charging the carrier wheel, attention must be paid to the fact that no work piece are located near the centre, (see also Lapping wheel an conditioning ring wear ) Diese Aufnahmescheiben sind erhältlich in den Stärken 1, 2, 3, 4, und 5 mm Die Werkstückaufnahme erfolgt in den Abrichtringen, je nach Geometrie und Eigengewicht in speziell adaptierten Sonderaufnahmen oder Vorrichtungen. Diese Aufnahmevorrichtungen entsprechen der Größe des Innendurchmessers der Abrichtringe. Die darin eingebrachten Aussparungen haben die Außenkontur des Werkstückes. Diese Aufnahmeschablonen sind aus unterschiedlichen Materialien, zumeist aus Kunststoff (PVC) oder Metall gefertigt. The workpieces are placed within the conditioning rings and dependent upon geometry and own weight, in specially adapted frames or devices. These frames correspond to the size of the inside diameter of the conditioning rings. The cut-out portion matches the contour of the workpiece. These carrier templates are manufactured from various materials but mainly plastic(pvc) or metal. Die Bearbeitung von Großbauteilen erfolgt außerhalb der Abrichtbzw. Aufnahmeringe, wobei grundsätzlich ein Abrichtring zum Abrichten der Läppscheibe und zur Verteilung des Läppmittels auf der Läppscheibe verbleiben muss. These carrier plates are available with 1, 2, 3, 4, and 5mm thickness Larger workpieces are processed outside the conditioning rings or carrier rings respectively, whereby one conditioning ring must be allowed to remain on the lapping wheel in order to condition the lapping wheel and distribute the lapping medium.
Ausgleichsscheiben Adapter Pads A Novellus Systems Company Scheiben aus Moosgummi bzw. Filz haben die Aufgabe Höhenunterschiede der Werkstücke auszugleichen. Diese Ausgleichsscheiben sind für alle Größen von Maschinen ab Lager lieferbar The purpose of Disc made of rubber or felt is to cover the thicknesstolerances of the work pieces. These Adapterplates are available from stock for all sizes of machines. Belastungsplatten Load plates Belastungsplatten aus Guß und sind für alle Größen von Maschinen lieferbar Load plates made of cast iron or stainless stell are available from stock for all types of machines
Poliertücher A Novellus Systems Company Polishing pads Um reflektierende Oberflächen zu erzielen, ist es notwendig, mit besonderen Werkzeugen zu arbeiten. Zu diesem Zwecke werden Poliertuchträgerscheiben mit Poliertüchern belegt. Verwendet werden Materialien, wie beispielsweise Seide Kunststofffaser Polyurethan Abhängig vom gewünschten Arbeitsergebnis werden Poliertücher eingesetzt die z.b. genoppt, gewirkt oder auch gepresst sind. Für metallographische Anwendungen stehen Ihnen SIC-Naßschleifpapiere in den Körnungen 180-1200 zur Verfügung. To reach the highest surface quality an special tool is necessary. There for an base plates will be covered with polishing cloth. For final polish will be used materials as: silk Synthetic fibre Polyurethane Depending on the required surface quality different polishing cloth will be used for instance: polishing cloth with nap pattern, weaved and pressed surface. For metallographic use we provide SIC wet polishing paper grid size 180-1200. Durchmesser/mm Diameter/mm 305 mm 365 mm 381 mm 406 mm 450 mm 500 mm 635 mm 701 mm 915 mm Typ DP-DUR Type DP-DUR Typ Pellon Type Pellon Typ PW 9450 Type PW 9450 TypPW 410 Type PW 410 Typ PW 415 Type PW 415 Typ PW 430 Type PW 430 Typ PW 432 Type PW 432 Typ PW 434 Type PW 434 Typ PW 435 Type PW 435 Typ PW 437 Type PW 437 Typ PW 444 Type PW 444 Typ PW 450 Type PW 450 Typ PW 600 Type PW 600 Typ PW 905-K Type PW 905-K Typ PW 910-K Type PW 910-K Polyurethan LP 66 Polyurethan LP 66 Andere Abmaße Other dimensions Ab Lager From stock Lieferzeit ca. 6 Wochen Delivery time about 6 weeks Auf Anfrage Upon request
Läppmittel Läppkorn + Läppfl üssigkeit A Novellus Systems Company Lapping medium Lapping grain and -fl uid Die Wahl des eingesetzten Läppkorns hängt von dem zu bearbeitenden Werkstoff ab. Die Größe des Kornes im Läppmittel richtet sich nach den Anforderungen an die Oberflächenrauhigkeit. Je nach Härte des zu bearbeitenden Werkstoffes setzt man Edelkorund (Aluminiumoxyd), Siliziumkarbid, Borkarbid oder Diamantkorn ein. Die Oualitätskriterien für das Läppkorn sind die Korngröße, Kornverteilung, die Kornhärte sowie die Kornschärfe und die Anzahl der Kanten. Die Korngröße wird entsprechend der gewünschten Rautiefe am Werkstück sowie der Materialabtragsleistung ausgewählt. Die gebräuchlichsten Läppkorngrößen nach Mesh sind 400, 500, 600 und 800. The choice of lapping abrasive depends upon the material to be processed. The lapping abrasive grain size is determined by the degree of the surface roughness required. Depending upon the hardness of the material to be processed, the following lapping abrasives can be used; special fused alumina (aluminium oxide), silicone carbide, boron carbide or diamond corn. The quality criteria for the lapping abrasive are the grain size, grain distribution, grain hardness, as well as the grain sharpness and number of edges. The grain size is chosen according to the surface roughness desired and the stock removal performance required. The most common lapping grain sizes according to mesh size are 400, 500, 600 and 800. Läppkorn / Lapping grain: Bearbeitungswerkstoffe / Material to be processed: Aluminiumoxidpulver: z.b. Halbleitermaterialien (Silizium, Germanium), Kohle, Guss, Buntmetalle (Kupfer, Bronze) Aluminium oxid powder: e.g. Semi-conductor material (Silicon, Germanium) Siliziumkarbid (SIC): z.b. gehärteter und legierter Stahl, Porzellan, Glas Silicium carbide (SIC) e.g. Hardened or alloyed steel, Porcelain, Glass Borkarbid: z.b. Keramik, Hartmetall Boron carbide: e.g. Ceramics, Hart metals Diamant: z.b. Keramik, Hartmetall, Saphir Diamond: e.g. Ceramics, Hard metals Grundsätzlich ist eine höhere Konzentration an Läppkorn sehr vorteilhaft, um den sogenannten Aquaplaning- Effekt (Flüssigkeitskeil und damit kein Spanabtrag) zu vermeiden. Das Mischungsverhältnis zwischen Läppkorn und Läppflüssigkeit sollte etwa 150-200 g/l betragen. Ein richtig gewähltes Mischungsverhältnis zeichnet sich während der Bearbeitung durch einen mattgrauen Läppfilm aus. Fundamentally, a higher concentration of lapping grain is advantageous, in order to prevent the so called aquaplaning effect. The mixing ratio of the lapping grain to lapping fluid should be appr. 150-200 g/litre. The correct mixing ratio forms a distinguishable grey lapping film during processing. When using water based lapping fluid, the fluids, the mixing ratio should be increase to 300 g/litre. In addition to the lapping medium concentration, the viscosity and quantity of lapping medium applied also have an influence on the aquaplaning effect! Bei Verwendung von Läppflüssigkeiten auf Wasserbasis sollte das Mischverhältnis auf 300 g/l erhöht werden. Neben der Läppmittelkonzentration hat auch die Viskosität und Menge der Läppflüssigkeit Einfluss auf den Aquaplaning-Effekt! When using water based lapping fluid, the fluids, the mixing ratio should be increase to 300 g/litre. In addition to the lapping medium concentration, the viscosity and quantity of lapping medium applied also have an influence on the aquaplaning effect! Soll der Prozess auf eine andere Korngröße oder ein anderes Kornmaterial umgestellt werden, ist es unbedingt erforderlich, das Läppmittelzuführungssystem und den gesamten Arbeitsbereich zu säubern. Dies gilt besonders bei einem Wechsel auf ein feineres Korn. If the process is switched to a different grain size or abrasive material, it is of the utmost importance that the lapping medium supply system and working environment are thoroughly cleaned. This is particularly true, when changing to a smaller grain size.
A Novellus Systems Company t Korund /Aluminium oxide KG 10 / PWE24 KM 10 / PWE25 KM 20 / PWE12 KF 10 KF 20 / PWE9 KE 10 / PWE7 grob coarse mittel medium mittel medium fein fine fein fine extra fein extra fine 20-24 15-18 12-15 9-12 7-9 5-7 360 400 500 600 800 900 4 µm 2 µm 0,8 µm 0,6 µm 0,5 µm 0,4 µm SG 05 SG 10 / PWS40 SG 20 / PWS32 SM 10 SM 20 / PWS18 SM 30 / PWS15 SF 10 / PWS11 SF 20 / PWS9 SE 10 / PWS6 SE 20 / PWS4 grob coarse grob coarse grob coarse mittel medium mittel medium mittel medium fein fine fein fine extra fein extra fine extra fein extra fine 40-50 35-40 27-32 21-25 15-18 12-15 8-11 6-9 4-6 2-4 220 280 320 360 400 500 600 800 900 950 7,5 µm 5,0 µm 5,0 µm 3,5 µm 2,0 µm 1,5 µm 1,0 µm 0,8 µm 0,6 µm 0,4 µm BG 10 BG 20 / PWB32 BM 10 BM 20 / PWB18 BF 10 / PWB12 BF 20 / PWB9 BE 10 / PWB6 BE 20 / PWB4 grob coarse grob coarse mittel medium mittel medium fein fine fein fine extra fein extra fein 35-40 27-32 21-25 15-18 8-12 6-9 4-6 2-4 280 320 360 400 600 800 900 950 7,5 µm 5,0 µm 4,0 µm 2,0 µm 1,0 µm 0,8 µm 0,6 µm 0,4 µm Siliziumkarbid Borkarbid Weiterhin bieten wir folgende Läppmittel in verschiedenen Gebinden an Further more we offer lapping abrasives in different sizes and packing. Bimsmehl Cerium Oxyd Linde A Linde B Linde C Poliertonerde Pumice powder Cerium oxyde Al2 O3
Läppfl üssigkeiten / A Novellus Systems Company Lapping fl uids Läppflüssigkeiten erfüllen beim Läppprozeß folgende Funktionen: Lapping fluids fulfil the following functions during the lapping process: Sie fördern das Läppkorn auf die Läppscheibe They transport the lapping grains onto the lapping wheel Sie dienen als Trägermedium und Gleitflüssigkeit. Trockenes Reiben der Werkstücke auf der Läppscheibe, das zur Kratzerbildung führen könnte, wird bei richtigem Mischungsverhältnis vermieden. They serve as both a carrier medium and lubricant. Dry friction of the workpiece against the lapping wheel, which leads to scratches being caused, can be prevented by using the correct mixing ratio. Sie kühlen die Läppscheibe während des Prozesses. They cool the lapping wheel during the process. Grundsätzlich gilt: Fundamental rule: grobes Läppkorn = hohe Viskosität feines Läppkorn = geringe Viskosität large grain lapping abrasive = high viscosity. Small grain lapping abrasive = low viscosity Für die Bearbeitung von Kohlegleitringen sollte Wasser als Läppflüssigkeit verwendet werden, da Öl aus der Kohle nicht mehr eliminiert werden kann. Water should be used as the lapping fluid when processing carbon slips rings, as oil can not be subsequently eliminated from the carbon. Läpp- und Polierflüssigkeiten / Lapp & Polishing fluids Läppflüssigkeit öllöslich / Lapping fluid oil-soluble Nr. 20 Läppflüssigk.-Konzentrat / Lapping fluid water-soluble WL 6 Polierflüssigkeit / Polishing fluid oil-soluble OL 5 / OL 10 / K 35 Alkohol 641 (Ethanol) / Alcohol 641 Reiniger etc. / Cleaner etc. Phosphatierungsmittel/Keramikreiniger/Entroster PB-C Phosphatizer / Ceramic cleaner / Deruster Ultraschallreiniger / Ultrasonic cleaner PW200 Entschäumer / Defoaming agent 79/133 Schnellentfetter / Degreaser Supra X Korrosionsschutz / Anticorrosion agent Entroster / Kriechöl / Deruster / Penetrating oil MX 500 Destilliertes Wasser / distilled water Kaltreiniger / Cold cleaner K 30
Diamantpulver / A Novellus Systems Company Diamond powder Zum Läppen bzw. Polieren werden heute meist 2 Sorten von industriell hergestellten Diamanten eingesetzt: Monokristalline und Polykristalline Im Gegensatz zu Monokristallinen Diamanten besteht der Polykristalline Diamant aus vielen Schneiden, die durch Druckbeaufschlagung frei werden. Der Monokristalline Diamant hingegen verfügt meist nur über wenige Schneidkanten, die eine relativ hohen Druck benötigen um in Werkstoffe einzudringen und Material abzutragen. Nur durch hohen Druck oder durch Ausspülen des gesamten Kornes können stumpfe Körner geschärft bzw. entfernt werden. Das bedeutet, dass polykristalline Diamanten sich durch eine deutlich besseres Schneidverhalten über einen wesentlich längeren Zeitraum. Hierdurch können die Druckverhältnisse lange gleich und relativ niedrig gehalten werden und der Verbrauch von Diamant reduziert sich deutlich. (Siehe Bilder 1-4) Today usually 2 sorts of industrially manufactured diamonds are used: Monocrystalline and polycrystalline Contrary to monocrystalline diamonds the polycrystalline diamond consists of many cutting edges which become free by pressurizing. The monocrystalline diamond however has usually only few cutting edges which need a relatively high pressure to penetrate into materials and remove material. Only through high pressure or by rinsing out the hole grain blunt grains can be sharpened and or removed. That means that polycrystalline diamonds emphasize themselves by clearly better cutting behaviour during a substantially longer period. Thereby the pressure ratios can be kept for a long time same and relatively low which results in a substantially reduction of diamond consumption. (see picture 1-4) Bild 1: Monokristalliner Diamant mit wenigen Schneiden. Großer Druck ist erforderlich um neue, wenige Schneiden zur generieren. Picture 1: Monocristalline Bild 2: Mikroskopische Aufnahme eines Monokristallinen Diamanten. Nur wenige Schneiden sind ausgebildet. Picture 2: Monokristalliner Diamant mit wenigen Schneiden. Großer Druck ist erforderlich um neue, wenige Schneiden zur generieren. Bild 3: Polykristalliner Diamant mit vielen Schneiden. Mäßiger Druck ist erforderlich um viele neue Schneiden zur generieren. Picture 3: Monokristalliner Diamant mit wenigen Schneiden. Großer Druck ist erforderlich um neue, wenige Schneiden zur generieren. Bild 4: Mikroskopische Aufnahme eines Polykristallinen Diamanten. Viele Schneiden sind ausgebildet. Picture 4: Monokristalliner Diamant mit wenigen Schneiden. Großer Druck ist erforderlich um neue, wenige Schneiden zur generieren.
Diamantpulver / A Novellus Systems Company Diamond powder Die präzise Klassierung in feinabgestufte Körnungen und die einzigartige Konstanz von Los zu Los machen in vielen Anwendungen den entscheidenden Unterschied aus. Das heißt, die Diamantpulver die von Peter Wolters zum Einsatz gebracht werden garantieren immer ein gleichbleibendes Ergebnis in puncto Oberflächengüte und Abtragsleistung. The precise grading in fine stepped grain sizes and the unique constancy from batch to batch making the decisive difference for many applications. That means, the diamond powders offered by Peter Wolters guarantee a always constant resultas regards of surface quality and stock removal. Folgende Kriterien zeichnen ein erstklassiges Diamantpulver aus: Agglomeratfreiheit: Ausschließung von Zusammenballungen durch Adhäsion / Sinterung (Bild 4 + 5) Gleichmäßige, blockige Körner Keine Nadelbildung, Körner in gleichbleibender, konstanter Form und Größe (Bild 6+7) Fein abgestufte Klassifizierung der Körner Gewährleistung eines, in sehr engen Bandbreiten, wiederholbaren Ergebnisses in Punkto Oberflächengüte. Following criteria distinguish a first class diamond powder: Agglomerate absence: Exclusion of agglomeration through adhesion / sintering of the diamond particles (Picture 4 + 5) Uniform grains: Exclusion of needle forming, grains in uniform shape and size (Picture 6 + 7) Precise grading of the grain in fine steps: Repeatable surface quality ensured by grains graded in fine steps Bild 5: Verklumpung des Diamantkorns. Agglomeratbildung Folge: Kratzer, schlechte Oberfläche. Picture 5: agglutination of the diamond grais. Agglomeration Consequence: scratches, bad surface. Bild 6: Agglomeratfreies Diamantpulver Folge: Kratzerfreie, gleichmäßige Oberfläche Picture 6: Agglomerate free Diamond powder Consequence: scratch free, even surface Bild 6 + 7: Absolut gleichförmige Blockige Diamantkörner (Monokristalliner Diamant Typ MSY 6-10 + MSY 15-25) Picture 6 + 7: Absolute uniform diamond grains (monocrystalline diamond type MSY 6-10 + MSY 15-25) Diamond Size Distribution Diamond Size Distribution Diamond Size Distribution Diamond Size (Micron) Diamond Size (Micron) Bild 8-9: Links: grobe Klassierung Mitte: feine Klassierung (Peter Wolters) Rechts: Vergleich Picture 8-9: Left: rough grading Center: fine grading (Peter Wolters) Right: comparison Diamond Size (Micron)
DP FG A Novellus Systems Company Polykristallin-synthetischer Diamant Präzisions-Kornreihe für höchste Anforderungen an Oberflächengüte und Abtragsrate. Enge Toleranzen. polycrystalline synthetic diamond, precision size range Polykristallin-synthetischer Diamant Standart-Kornreihe für allgemeine Läpp- / Polieranwendungen, gute Abtragsleistung polycrystalline synthetic diamond, standard size range standard grain for normal lapping/ polishing, good stock removal MSY Monokristallin-synthetischer Diamant monocrystalline synthetic diamond Polykristallin Korngröße in µm Polykristallin Korngröße in µm Monokristallin Korngröße in µm Polycrystalline Grain size in µm Polycrystalline Grain size in µm Monocristalline Grain size in µm DP 0-0,05 FG 0,25 MSY 0-0,05 DP 0-0,06 FG 0,5 MSY 0-0,1 DP 0-0,08 FG 1 MSY 0-0,15 DP 0-0,1 FG 1,5 MSY 0-0,2 DP 0-0,15 FG 2 MSY 0-0,25 DP 0-0,2 FG 3 MSY 0-0,35 DP 0-0,25 FG 4 MSY 0-0,5 DP 0-0,35 FG 5 MSY 0,25-0,5 DP 0-0,5 FG 6 MSY 0,25-0,75 DP 0,25-0,5 FG 9 MSY 0,5-1 DP 0,25-0,75 FG 12 MSY 0,75-1,25 DP 0,5-1 FG 15 MSY 1-1,5 DP 0,5-1,5 FG 30 MSY 1-2 DP 0,75-1,25 FG 45 MSY 1,25-2,25 DP 1-1,5 MSY 1,5-2,5 DP 1-2 MSY 1,5-3 DP 1,25-2,25 MSY 2,25-3,5 DP 1,5-2,5 MSY 2-4 DP 2-3 (1,5-3) MSY 3-5 DP 2-4 MSY 3-6 DP 2,25-3,5 MSY 4,5-7 DP 2,5-4 MSY 4-6 DP 3-5 MSY 4,5-7 DP 4-6 MSY 5,5-8 DP 4,5-7 MSY 6-10 DP 4-8 (5,5-8) MSY 8-12 DP 5,5-8 MSY 10-16 DP 6-10 MSY 10-20 DP 8-12 MSY 15-25 DP 8-15 MSY 20-30 DP 10-16 MSY 20-40 DP 10-20 MSY 30-40 DP 20-40 MSY 35-45 MSY 40-60 MSY 50-70
Diamantfl üssigkeiten / Diamond fl uids Beim Polieren von Oberflächen mit Korngrößen unter 1 Mikron sind Agglomerate die Hauptursache für Kratzer. Agglomerate sind harte Cluster von Diamant-Partikeln, die oft 10- bis 20-mal grösser sind als das einzelne Korn. OWS-DP, ME-Emulsion und MG-Emulsionen bestehen aus wasser- oder öllöslicher Trägerflüssigkeit mit im Wasser dispergierten, agglomeratfreien Mono- oder Polykristallinen Körnungen. Diese Diamantflüssigkeiten gewährleisten daher ein größtmögliche Wiederholbarkeit einmal erzielter Werte. In ultra-fine polishing applications in diamond sizes below 1 mikron, agglomerates are the main cause for scratched surfaces or inconsistent polishing result. Agglomerates are cluster of undispersed diamond particles, often 10 or 20 times the size of an individual particle. OWS-DP, ME-slurries and MG-slurries consist of water- or oilsoluable Fluid mixed with monocristalline or polycrystalline diamond. These diamondfluids ensure therefore a maximum of reproducibility of quality achievement. Diamant-Emulsionen Monokristallin (öl-löslich) Diamond Emulsions monocristalline (oil soluble) Diamant-Suspensionen Monokristallin (wasserlöslich) Diamond Suspensions monocristalline (water soluble) Id. Nr. Order No. Typ Type Körnung Grain size Gewicht Weight Id. Nr. Order No. Typ Type Körnung Grain size Gewicht Weight 265022 ME-131 20-40 µm 500 g 265062 MG-331 20-40 µm 500 g 265023 ME-131 20-40 µm 1000 g 265063 MG-331 20-40 µm 1000 g 265024 ME-132 10-20 µm 500 g 265064 MG-332 10-20 µm 500 g 265025 ME-132 10-20 µm 1000 g 265065 MG-332 10-20 µm 1000 g 265030 ME-134 8,0-12 µm 500 g 265070 MG-334 8,0-12 µm 500 g 265031 ME-134 8,0-12 µm 1000 g 265071 MG-334 8,0-12 µm 1000 g 265034 ME-135 6,0-10 µm 500 g 265072 MG-335 6,0-10 µm 500 g 265035 ME-135 6,0-10 µm 1000 g 265073 MG-335 6,0-10 µm 1000 g 265042 ME-142 5,5-8 µm 500 g 265026 MG-342 5,5-8 µm 500 g 265043 ME-142 5,5-8 µm 1000 g 265027 MG-342 5,5-8 µm 1000 g 265046 ME-143 2,5-4 µm 500 g 265032 MG-343 2,5-4 µm 500 g 265047 ME-143 2,5-4 µm 1000 g 265033 MG-343 2,5-4 µm 1000 g 265050 ME-144 1,5-3 µm 500 g 265036 MG-344 1,5-3 µm 500 g 265051 ME-144 1,5-3 µm 1000 g 265037 MG-344 1,5-3 µm 1000 g 265054 ME-145 1,0-2 µm 500 g 265040 MG-345 1,0-2 µm 500 g 265055 ME-145 1,0-2 µm 1000 g 265041 MG-345 1,0-2 µm 1000 g 265058 ME-146 0,5-1 µm 500 g 265044 MG-346 0,5-1 µm 500 g 265059 ME-146 0,5-1 µm 1000 g 265045 MG-346 0,5-1 µm 1000 g Selbstverständlich liefern wir auch viele weitere Diamantflüssigkeiten, aber auch Diamantpasten und Sticks. Fragen Sie uns! Wir haben für jedes Problem die richtige Lösung. For other grain sizes on diamond fluids, diamond sticks or diamond pastes do not hesitate to contact us. We have for every application the right solution! Polykristallin Polycristalline 261778 OWS-DP 0-0,25 µm 50 g 261781 OWS-DP 0,25-0,5 µm 200 g 261767 OWS-DP 0,75-1,5 µm 50 g 261777 OWS-DP 1,5-2,5 µm 50 g 261779 OWS-DP 1,5-2,5 µm 200 g 262761 OWS-DP 2-3,0 µm 200 g 261768 OWS-DP 2,25-3,5 µm 50 g 261782 OWS-DP 2,25-3,5 µm 200 g 261776 OWS-DP 2,5-4 µm 50 g 261769 OWS-DP 2,5-4 µm 200 g 262348 OWS-DP 4-6,0 µm 200 g 261780 OWS-DP 8-15,0 µm 200 g 262799 OWS-DP 15-30 µm 200 g
Diamant-Emulsionen Monokristallin (öl-löslich) Diamond Emulsions monocristalline (oil soluble) Id. Nr. Typ Körnung Gewicht Order No. Type Grain size Weight PW30MCOS 20-40 µm 400 gr PW30MCOS 20-40 µm 1.000 gr PW30MCOS 20-40 µm 5.000 gr PW30MCOS 20-40 µm 10.000 gr PW15MCOS 10-20 µm 400 gr PW15MCOS 10-20 µm 1.000 gr PW15MCOS 10-20 µm 5.000 gr PW15MCOS 10-20 µm 10.000 gr PW9MCOS 8-12 µm 400 gr PW9MCOS 8-12 µm 1.000 gr PW9MCOS 8-12 µm 5.000 gr PW9MCOS 8-12 µm 10.000 gr PW6MCOS 5,5-8 µm 400 gr PW6MCOS 5,5-8 µm 1.000 gr PW6MCOS 5,5-8 µm 5.000 gr PW6MCOS 5,5-8 µm 10.000 gr PW3MCOS 2,5-4 µm 400 gr PW3MCOS 2,5-4 µm 1.000 gr PW3MCOS 2,5-4 µm 5.000 gr PW3MCOS 2,5-4 µm 10.000 gr PW2MCOS 1,5-3 µm 400 gr PW2MCOS 1,5-3 µm 1.000 gr PW2MCOS 1,5-3 µm 5.000 gr PW2MCOS 1,5-3 µm 10.000 gr PW1MCOS 1-2 µm 400 gr PW1MCOS 1-2 µm 1.000 gr PW1MCOS 1-2 µm 5.000 gr PW1MCOS 1-2 µm 10.000 gr PW0,5MCOS 0,5-1 µm 400 gr PW0,5MCOS 0,5-1 µm 1.000 gr PW0,5MCOS 0,5-1 µm 5.000 gr PW0,5MCOS 0,5-1 µm 10.000 gr A Novellus Systems Company Diamant-Suspensionen Monokristallin (wasserlöslich) Diamond Suspensions monocristalline (water soluble) Id. Nr. Typ Körnung Gewicht Order No. Type Grain size Weight PW30MCWS 20-40 µm 400 gr PW30MCWS 20-40 µm 1.000 gr PW30MCWS 20-40 µm 5.000 gr PW30MCWS 20-40 µm 10.000 gr PW15MCWS 10-20 µm 400 gr PW15MCWS 10-20 µm 1.000 gr PW15MCWS 10-20 µm 5.000 gr PW15MCWS 10-20 µm 10.000 gr PW9MCWS 8-12 µm 400 gr PW9MCWS 8-12 µm 1.000 gr PW9MCWS 8-12 µm 5.000 gr PW9MCWS 8-12 µm 10.000 gr PW6MCWS 5,5-8 µm 400 gr PW6MCWS 5,5-8 µm 1.000 gr PW6MCWS 5,5-8 µm 5.000 gr PW6MCWS 5,5-8 µm 10.000 gr PW3MCWS 2,5-4 µm 400 gr PW3MCWS 2,5-4 µm 1.000 gr PW3MCWS 2,5-4 µm 5.000 gr PW3MCWS 2,5-4 µm 10.000 gr PW2MCWS 1,5-3 µm 400 gr PW2MCWS 1,5-3 µm 1.000 gr PW2MCWS 1,5-3 µm 5.000 gr PW2MCWS 1,5-3 µm 10.000 gr PW1MCWS 1-2 µm 400 gr PW1MCWS 1-2 µm 1.000 gr PW1MCWS 1-2 µm 5.000 gr PW1MCWS 1-2 µm 10.000 gr PW0,5MCWS 0,5-1 µm 400 gr PW0,5MCWS 0,5-1 µm 1.000 gr PW0,5MCWS 0,5-1 µm 5.000 gr PW0,5MCWS 0,5-1 µm 10.000 gr Diamant-Emulsionen Monokristallin (öl-löslich) Diamond Emulsions monocristalline (oil soluble) Id. Nr. Typ Körnung Gewicht Order No. Type Grain size Weight PW30MCOSOL5 20-40 µm 400 gr PW30MCOSOL5 20-40 µm 1.000 gr PW30MCOSOL5 20-40 µm 5.000 gr PW30MCOSOL5 20-40 µm 10.000 gr PW15MCOSOL5 10-20 µm 400 gr PW15MCOSOL5 10-20 µm 1.000 gr PW15MCOSOL5 10-20 µm 5.000 gr PW15MCOSOL5 10-20 µm 10.000 gr PW9MCOSOL5 8-12 µm 400 gr PW9MCOSOL5 8-12 µm 1.000 gr PW9MCOSOL5 8-12 µm 5.000 gr PW9MCOSOL5 8-12 µm 10.000 gr PW6MCOSOL5 5,5-8 µm 400 gr PW6MCOSOL5 5,5-8 µm 1.000 gr PW6MCOSOL5 5,5-8 µm 5.000 gr PW6MCOSOL5 5,5-8 µm 10.000 gr PW3MCOSOL5 2,5-4 µm 400 gr PW3MCOSOL5 2,5-4 µm 1.000 gr PW3MCOSOL5 2,5-4 µm 5.000 gr PW3MCOSOL5 2,5-4 µm 10.000 gr PW2MCOSOL5 1,5-3 µm 400 gr PW2MCOSOL5 1,5-3 µm 1.000 gr PW2MCOSOL5 1,5-3 µm 5.000 gr PW2MCOSOL5 1,5-3 µm 10.000 gr PW1MCOSOL5 1-2 µm 400 gr PW1MCOSOL5 1-2 µm 1.000 gr PW1MCOSOL5 1-2 µm 5.000 gr PW1MCOSOL5 1-2 µm 10.000 gr PW0,5MCOSOL5 0,5-1 µm 400 gr PW0,5MCOSOL5 0,5-1 µm 1.000 gr PW0,5MCOSOL5 0,5-1 µm 5.000 gr PW0,5MCOSOL5 0,5-1 µm 10.000 gr Diamant-Emulsionen Monokristallin (Alkoholbasierend) Diamond Emulsions monocristalline (alcohol based) Typ Körnung Gewicht Type Grain size Weight Id. Nr. Order No. PW30MCALCDW 20-40 µm 400 gr PW30MCALCDW 20-40 µm 1.000 gr PW30MCALCDW 20-40 µm 5.000 gr PW30MCALCDW 20-40 µm 10.000 gr PW15MCALCDW 10-20 µm 400 gr PW15MCALCDW 10-20 µm 1.000 gr PW15MCALCDW 10-20 µm 5.000 gr PW15MCALCDW 10-20 µm 10.000 gr PW9MCALCDW 8-12 µm 400 gr PW9MCALCDW 8-12 µm 1.000 gr PW9MCALCDW 8-12 µm 5.000 gr PW9MCALCDW 8-12 µm 10.000 gr PW6MCALCDW 5,5-8 µm 400 gr PW6MCALCDW 5,5-8 µm 1.000 gr PW6MCALCDW 5,5-8 µm 5.000 gr PW6MCALCDW 5,5-8 µm 10.000 gr PW3MCALCDW 2,5-4 µm 400 gr PW3MCALCDW 2,5-4 µm 1.000 gr PW3MCALCDW 2,5-4 µm 5.000 gr PW3MCALCDW 2,5-4 µm 10.000 gr PW2MCALCDW 1,5-3 µm 400 gr PW2MCALCDW 1,5-3 µm 1.000 gr PW2MCALCDW 1,5-3 µm 5.000 gr PW2MCALCDW 1,5-3 µm 10.000 gr PW1MCALCDW 1-2 µm 400 gr PW1MCALCDW 1-2 µm 1.000 gr PW1MCALCDW 1-2 µm 5.000 gr PW1MCALCDW 1-2 µm 10.000 gr PW0,5MCALCDW 0,5-1 µm 400 gr PW0,5MCALCDW 0,5-1 µm 1.000 gr PW0,5MCALCDW 0,5-1 µm 5.000 gr PW0,5MCALCDW 0,5-1 µm 10.000 gr
Diamant-Emulsionen Polykristallin (öl-löslich) Diamond Emulsions polycristalline (oil soluble) Id. Nr. Typ Körnung Gewicht Order No. Type Grain size Weight PW30PCOS 20-40 µm 400 gr PW30PCOS 20-40 µm 1.000 gr PW30PCOS 20-40 µm 5.000 gr PW30PCOS 20-40 µm 10.000 gr PW15PCOS 10-20 µm 400 gr PW15PCOS 10-20 µm 1.000 gr PW15PCOS 10-20 µm 5.000 gr PW15PCOS 10-20 µm 10.000 gr PW9PCOS 8-12 µm 400 gr PW9PCOS 8-12 µm 1.000 gr PW9PCOS 8-12 µm 5.000 gr PW9PCOS 8-12 µm 10.000 gr PW6PCOS 5,5-8 µm 400 gr PW6PCOS 5,5-8 µm 1.000 gr PW6PCOS 5,5-8 µm 5.000 gr PW6PCOS 5,5-8 µm 10.000 gr PW3PCOS 2,5-4 µm 400 gr PW3PCOS 2,5-4 µm 1.000 gr PW3PCOS 2,5-4 µm 5.000 gr PW3PCOS 2,5-4 µm 10.000 gr PW2PCOS 1,5-3 µm 400 gr PW2PCOS 1,5-3 µm 1.000 gr PW2PCOS 1,5-3 µm 5.000 gr PW2PCOS 1,5-3 µm 10.000 gr PW1PCOS 1-2 µm 400 gr PW1PCOS 1-2 µm 1.000 gr PW1PCOS 1-2 µm 5.000 gr PW1PCOS 1-2 µm 10.000 gr PW0,5PCOS 0,5-1 µm 400 gr PW0,5PCOS 0,5-1 µm 1.000 gr PW0,5PCOS 0,5-1 µm 5.000 gr PW0,5PCOS 0,5-1 µm 10.000 gr A Novellus Systems Company Diamant-Suspensionen Polykristallin (wasserlöslich) Diamond Suspensions polycristalline (water soluble) Id. Nr. Typ Körnung Gewicht Order No. Type Grain size Weight PW30PCWS 20-40 µm 400 gr PW30PCWS 20-40 µm 1.000 gr PW30PCWS 20-40 µm 5.000 gr PW30PCWS 20-40 µm 10.000 gr PW15PCWS 10-20 µm 400 gr PW15PCWS 10-20 µm 1.000 gr PW15PCWS 10-20 µm 5.000 gr PW15PCWS 10-20 µm 10.000 gr PW9PCWS 8-12 µm 400 gr PW9PCWS 8-12 µm 1.000 gr PW9PCWS 8-12 µm 5.000 gr PW9PCWS 8-12 µm 10.000 gr PW6PCWS 5,5-8 µm 400 gr PW6PCWS 5,5-8 µm 1.000 gr PW6PCWS 5,5-8 µm 5.000 gr PW6PCWS 5,5-8 µm 10.000 gr PW3PCWS 2,5-4 µm 400 gr PW3PCWS 2,5-4 µm 1.000 gr PW3PCWS 2,5-4 µm 5.000 gr PW3PCWS 2,5-4 µm 10.000 gr PW2PCWS 1,5-3 µm 400 gr PW2PCWS 1,5-3 µm 1.000 gr PW2PCWS 1,5-3 µm 5.000 gr PW2PCWS 1,5-3 µm 10.000 gr PW1PCWS 1-2 µm 400 gr PW1PCWS 1-2 µm 1.000 gr PW1PCWS 1-2 µm 5.000 gr PW1PCWS 1-2 µm 10.000 gr PW0,5PCWS 0,5-1 µm 400 gr PW0,5PCWS 0,5-1 µm 1.000 gr PW0,5PCWS 0,5-1 µm 5.000 gr PW0,5PCWS 0,5-1 µm 10.000 gr Diamant-Emulsionen Polykristallin (öl-löslich) Diamond Emulsions polycristalline (oil soluble) Id. Nr. Order No. Typ Type Körnung Grain size Gewicht Weight PW30PCOSOL5 20-40 µm 400 gr PW30PCOSOL5 20-40 µm 1.000 gr PW30PCOSOL5 20-40 µm 5.000 gr PW30PCOSOL5 20-40 µm 10.000 gr PW15PCOSOL5 10-20 µm 400 gr PW15PCOSOL5 10-20 µm 1.000 gr PW15PCOSOL5 10-20 µm 5.000 gr PW15PCOSOL5 10-20 µm 10.000 gr PW9PCOSOL5 8-12 µm 400 gr PW9PCOSOL5 8-12 µm 1.000 gr PW9PCOSOL5 8-12 µm 5.000 gr PW9PCOSOL5 8-12 µm 10.000 gr PW6PCOSOL5 5,5-8 µm 400 gr PW6PCOSOL5 5,5-8 µm 1.000 gr PW6PCOSOL5 5,5-8 µm 5.000 gr PW6PCOSOL5 5,5-8 µm 10.000 gr PW3PCOSOL5 2,5-4 µm 400 gr PW3PCOSOL5 2,5-4 µm 1.000 gr PW3PCOSOL5 2,5-4 µm 5.000 gr PW3PCOSOL5 2,5-4 µm 10.000 gr PW2PCOSOL5 1,5-3 µm 400 gr PW2PCOSOL5 1,5-3 µm 1.000 gr PW2PCOSOL5 1,5-3 µm 5.000 gr PW2PCOSOL5 1,5-3 µm 10.000 gr PW1PCOSOL5 1-2 µm 400 gr PW1PCOSOL5 1-2 µm 1.000 gr PW1PCOSOL5 1-2 µm 5.000 gr PW1PCOSOL5 1-2 µm 10.000 gr PW0,5PCOSOL5 0,5-1 µm 400 gr PW0,5PCOSOL5 0,5-1 µm 1.000 gr PW0,5PCOSOL5 0,5-1 µm 5.000 gr PW0,5PCOSOL5 0,5-1 µm 10.000 gr Diamant-Emulsionen Polykristallin (Alkoholbasierend) Diamond Emulsions polycristalline (alcohol based) Id. Nr. Typ Körnung Gewicht Order No. Type Grain size Weight PW30PCALCDW 20-40 µm 400 gr PW30PCALCDW 20-40 µm 1.000 gr PW30PCALCDW 20-40 µm 5.000 gr PW30PCALCDW 20-40 µm 10.000 gr PW15PCALCDW 10-20 µm 400 gr PW15PCALCDW 10-20 µm 1.000 gr PW15PCALCDW 10-20 µm 5.000 gr PW15PCALCDW 10-20 µm 10.000 gr PW9PCALCDW 8-12 µm 400 gr PW9PCALCDW 8-12 µm 1.000 gr PW9PCALCDW 8-12 µm 5.000 gr PW9PCALCDW 8-12 µm 10.000 gr PW6PCALCDW 5,5-8 µm 400 gr PW6PCALCDW 5,5-8 µm 1.000 gr PW6PCALCDW 5,5-8 µm 5.000 gr PW6PCALCDW 5,5-8 µm 10.000 gr PW3PCALCDW 2,5-4 µm 400 gr PW3PCALCDW 2,5-4 µm 1.000 gr PW3PCALCDW 2,5-4 µm 5.000 gr PW3PCALCDW 2,5-4 µm 10.000 gr PW2PCALCDW 1,5-3 µm 400 gr PW2PCALCDW 1,5-3 µm 1.000 gr PW2PCALCDW 1,5-3 µm 5.000 gr PW2PCALCDW 1,5-3 µm 10.000 gr PW1PCALCDW 1-2 µm 400 gr PW1PCALCDW 1-2 µm 1.000 gr PW1PCALCDW 1-2 µm 5.000 gr PW1PCALCDW 1-2 µm 10.000 gr PW0,5PCALCDW 0,5-1 µm 400 gr PW0,5PCALCDW 0,5-1 µm 1.000 gr PW0,5PCALCDW 0,5-1 µm 5.000 gr PW0,5PCALCDW 0,5-1 µm 10.000 gr
Diamantsprüheinrichtung Mikrospray I & II Diamond Metering Unit Mikrospray I & II Mikrospray I & II sind Sprühgeräte, welche zur automatischen und gleichmäßigen Besprühung von Polierscheiben, -Walzen oder -Bändern mit Diamantsuspension konzipiert wurden. Durch die präzisen und reproduzierbaren Einstellungen von Dosiermenge und Taktzeit erlauben Mikrospray I & II in vielen Anwendungen eine Reduktion des Diamantverbrauchs oder der Bearbeitungszeit. Durch die erzielten Einsparungen lassen sich die Investitionskosten für das Sprühgerät in kurzer Zeit amortisieren. Die Tröpfchengröße des Sprühnebels lässt sich durch die unabhängige Dosierung von Diamantsuspension und Sprühluft optimal und reproduzierbar einstellen. Sprüh- und Pausenzeit können am integrierten Taktgeber individuell und in weiten Bereichen eingestellt werden. Mikrospray II wird zur Vor- und Rückbewegung des Sprühkopfs über der Polierscheibe mit einem pneumatische Zylinder geliefert. Mikrospray I & II are spraying and dosing units designed for automatic and reproducible dosage of diamond slurries or suspensions. It is used to spray onto polish plates as well as onto polishing cloths, -tapes, -films and -pads. The main advantages of the Micro spray I & III unit over similar dosing devices are its easy integration in automated process lines and the precise adjustment of dosing parameters. In most applications, the optimized dosing results in a significant reduction of diamond slurry consumption, reduced cycle time, and highly consistent quality of the polished work piece. The savings in diamond slurries and increased productivity exceed the investment for the Mikrospray I &II unit after a short time of operation. Spray and pause times of the polishing cycle are individually adjustable on the built-in timing device. The spray droplets size can also be adjusted through independent control of suspension feed and spray air, allowing for optimal polishing conditions for your application. Micro spray II comes with Pneumatic cylinders for moving the spray head over the polishing plate. Mikrospray I Mikrospray II
Interferenzprüfgerät und Poliertisch Interferometer and Polishing Platen Beschreibung und Handhabung des Interferenz-Prüfgerätes Das Interferenz-Prüfgerät besteht aus einem Gehäuse, in dessen Unterteil sich ein Transformator zur Erzeugung der erforderlichen Hochspannung befindet. Im oberen Teil des Gerätes befinden sich 2 U-Röhren, die mit Heliumgas gefüllt sind und das für die Prüfung erforderliche Licht erzeugen. Dieser Teil des Geräts ist schwenkbar und kann somit den erforderlichen Arbeitssituationen angepasst werden. Durch einen Schalter am Seitenteil des Gerätes wird dieses in Betrieb gesetzt. Die Interferenz-Prüfung ist sofort möglich, da Helium gegenüber anderen Gassorten keine Vorglühzeit benötigt. Die zu prüfenden Werkstücke werden unter den Mittenbereich des Gerätes gelegt, wobei darauf zu achten ist, dass die zu prüfende Fläche vorher auf dem Poliertisch abgezogen wurde, um eine reflektierende Oberfläche zu erzeugen. Das Planglas wird nun auf die zu prüfende Fläche aufgesetzt. Dabei ist die Richtungsmarkierung auf der Mantelfläche des Glases zu beachten. Wichtig ist ferner, dass zwischen Planmessplatte und Prüffläche ein Luftkeil hergestellt wird, der Voraussetzung für eine einwandfreie Messung ist. Durch leichtes Andrücken des Planglases mit dem Finger auf der linken Seite entsteht ein Interferenzstreifenmuster, das dem Ebenheitszustand des Werkstückes entspricht (siehe schematische Darstellung). Description and operation of the Monochromatic Light The monochromatic light consists of a housing in the lower part of which there is a transformer for generating the necessary high tension. In the upper part there are two U-shaped tubes filled with helium gas that generate the light necessary for testing. This part of the tester can be swung out and can thus be adjusted to suit the necessary working situations. The tester is brought into operation by means of a switch on the side part. The interference test can be carried out immediately because helium, unlike other gases, does not need any warming-up time. The work-pieces to be tested are placed underneath the middle part of the tester. It is important to make sure first that the area to be tested has been cleaned on the polishing table in order to create a reflecting surface. The flat glass is now placed on the area to be tested. It is important to note the direction marking on the mantle area of the glass and to ensure that a wedge of air is produced between the flat measuring plate and the test area as this is essential for accurate measuring. Light pressure with one finger on the left-hand side of the flat glass will create an interference stripe pattern corresponding to the flatness state of the work-piece (see diagram). Bei konkaven oder konvexen Flächen kann die Abweichung von der Ebenheit genau bestimmt werden. Hierzu muss ermittelt werden, wie viel Interferenzstreifen durch die eingespiegelte Gerade geschnitten werden. Handelt es sich beispielsweise um 3 Streifen, so beträgt die Abweichung von der Ebenheit ca. 1 µm. (Die Wellenlänge - halber Lambda- Wert - beträgt bei Heliumgas ca. 0,3 µm. Dieser Halbwert entspricht dem Abstand zwischen 2 Interferenzstreifen.) Das Interferenz-Prüfgerät ist wartungsfrei. Durch häufige Nutzung wird die Gasfüllung der Röhren langsam abgebaut, d. h. nach ca. 2 Jahren ist ein Austausch erforderlich. If there are any concave or convex areas the deviation from flatness can be identified exactly. Here it is necessary to see how many interference stripes are cut through the reflected straight line. If there are three, for instance, the deviation from flatness is about 1µm (the wavelength or half-lambda value of helium gas is about 0.3 µm, and this half-value is equal to the distance between two interference stripes.) The interference tester does not need any maintenance. Frequent use will result in the gas filling in the tubes being gradually reduced, so it will be necessary to replace them after about two years.
Aufbau des Poliertisches Der Poliertisch besteht aus einem stabilen Aluminiumrahmen mit Handgriffen. Im Oberteil befindet sich eine hochklappbare Stahlplatte mit geläppter Oberfläche. Über diese Arbeitsfläche wird das Polierpapier gezogen, das sich im Behälter unter der Platte als Rolle befindet. Über die vorhandenen Exzenterwellen wird das Polierpapier gespannt. Construction of the polishing table The polishing table consists of a sturdy aluminium frame with hand grips. In the upper part there is a steel plate that can be folded upwards and which has a lobed upper part. The polishing paper is drawn across this working area; a reel of this paper can be found in the container underneath the plate. Das Polierpapier unterliegt einem Verschleiß und muss nach einer bestimmten Zeit ersetzt werden. (Öffnen der Exzenter -Abwickeln von weiterem Papier von der Vorratsrolle.) Der Poliertisch kann für alle Werkstoffe - außer sehr harten Materialien - verwendet werden. Bei Werkstoffen aus Keramik, Hartmetall, Titan etc. kann die Politur der Oberfläche nur durch Verwendung einer Handpolierplatte und Diamantpaste erreicht werden. Handpolierplatten sind in 2 Größen mit 160 und 300 mm lieferbar - die erforderliche Diamantpaste gibt es in den Körnungen 0-2,2-4 und 3-6 ).1m sowie in den Konzentraten 75 und 100. Vor dem Abziehen der Werkstücke muss das Polierpapier geglättet werden. Hierzu wird das neue Papier mit gebrauchtem Papier aufgerauht und anschließend mit Vaseline oder einer ähnlichen Creme geglättet. Der Poliertisch ist jetzt betriebsbereit. Durch das Abziehen der Werkstücke entsteht Materialabrieb, der sich in den Poren des Polierpapiers festsetzt. Zur Erhaltung der Funktion des Papiers ist es erforderlich, dass die Arbeitsfläche regelmäßig mit Waschbenzin oder einem ähnlichen Reinigungsmittel abgerieben wird. Nach Abschluss dieses Vorganges muss das Polierpapier wieder mit Vaseline geglättet werden. The paper is drawn taught over the existing eccentric shafts; it is subject to wear and has to be replaced after a certain time. (Open the eccentric and unwind more paper from the reel.) The polishing table can be used for all materials except the hardest. In the case of materials made from ceramics, hardened metal, or titanium, etc, the polishing of the surface is only possible if a hand polishing plate and diamond paste are used. Hand polishing plates are available in two sizes, 160 and 300 mm, and the necessary diamond paste is available in grain sizes 0-2.2-4 and 3-6 (1 metre and in the concentrates 75 and 100. The polishing paper must be smoothed before the workpieces are drawn off. Here the new paper is roughened with the used paper and then smoothed with Vaseline or a similar crème. The polishing table is now ready for operation. The drawing-off of the work-pieces creates a mineral abrasion that settles in the pores of the polishing paper. To retain the function of the paper it is necessary for the working area to be rubbed down regularly with wash-benzene or a similar cleaning agent. When this work is finished the polishing paper must be smoothed again with Vaseline.
Plangläser Optical Flats Ø 25 ¼ Lambda - einseitig / single sided Ø 25 ¼ Lambda - beidseitig / double sided Ø 50 ¼ Lambda - einseitig / single sided Ø 50 ¼ Lambda - beidseitig / double sided Ø 75 ¼ Lambda - einseitig / single sided Ø 75 ¼ Lambda - beidseitig / double sided Ø 100 ¼ Lambda - einseitig / single sided Ø 100 ¼ Lambda - beidseitig / double sided Ø 125 ¼ Lambda - einseitig / single sided Ø 125 ¼ Lambda - beidseitig / double sided Ø 150 ¼ Lambda - einseitig / single sided Ø 150 ¼ Lambda - beidseitig / double sided Ø 200 ¼ Lambda - einseitig / single sided Ø 200 ¼ Lambda - beidseitig / double sided Ø 250 ¼ Lambda - einseitig / single sided Ø 250 ¼ Lambda - beidseitig / double sided Ø 300 ¼ Lambda - einseitig / single sided Ø 300 ¼ Lambda - beidseitig / double sided Ø 25 1/10 Lambda - einseitig / single sided Ø 25 1/10 Lambda - beidseitig / double sided Ø 50 1/10 Lambda - einseitig / single sided Ø 50 1/10 Lambda - beidseitig / double sided Ø 75 1/10 Lambda - einseitig / single sided Ø 75 1/10 Lambda - beidseitig / double sided Ø 100 1/10 Lambda - einseitig / single sided Ø 100 1/10 Lambda - beidseitig / double sided Ø 125 1/10 Lambda - einseitig / single sided Ø 125 1/10 Lambda - beidseitig / double sided Ø 150 1/10 Lambda - einseitig / single sided Ø 150 1/10 Lambda - beidseitig / double sided Ø 200 1/10 Lambda - einseitig / single sided Ø 200 1/10 Lambda - beidseitig / double sided Ø 250 1/10 Lambda - einseitig / single sided Ø 250 1/10 Lambda - beidseitig / double sided Ø 300 1/10 Lambda - einseitig / single sided Ø 300 1/10 Lambda - beidseitig / double sided Prüfblöcke Test blocks Messing - Prüfblock / Brass testblock Ø 50mm Messing - Prüfblock / Brass testblock Ø 75mm Messing - Prüfblock / Brass testblock Ø 100mm Messing - Prüfblock / Brass testblock Ø 125mm Messing - Prüfblock / Brass testblock Ø 150mm Messing - Prüfblock / Brass testblock Ø 200mm Messing - Prüfblock / Brass testblock Ø 250mm Messing - Prüfblock / Brass testblock Ø 300mm
Ultraschallreinigungsgeräte Ultrasonic Cleaning Units Der ideale Reinigungsprozess nach dem Läppen / Polieren. Die Werkstücke sollten nach dem Reinigen frei von Abtrag und Fluid sein. Das Ultraschallreinigungsgerät erzeugt in der Flüssigkeit unterschiedliche Druckwellen welche die Verunreinigungen vom Werkstücke lösen. Ultraschallgeräte reinigen die Werkstückoberfläche nicht nur von sichtbaren sonder auch von feineren Verschmutzungen. The ideal cleaning process when finished lapped, parts need to be completely free from all residue abrasives and lapping vehicles. The Ultrasonic cleaning units work by electronic agitation of a suitable cleaning fluid which separates the impurities from the items being cleaned. Not only do Ultrasonic clean- ing units clean the visible surfaces, but also the surface that cannot be seen. Schwingwanne Inhalt Gerätetyp Außenmaße Ablauf Spitzen Heiz Stromauf Gewicht innen Kugel- leistung leistung nahme (L x B x H) (L x B x H) hahn max kg Oscillating tray Volume Model Outside Outlet Peak Heating Power Weigh t Dimensions Ball valve power power consumption kg (L xd x H) (L xd x H) mm Liter mm W/Per. W A netto brutto mm litre mm W/Per. W A net gross 190 x 85 x 60 0,9 RK 31 H 205 x 100 x 155-120 70 0,5 1,9 2,4 240 x 140 x 100 3,0 RK 100 H 260 x 160 x 250-2 x 160 140 1,0 3,6 4,6 240 x 140 x 100 3,0 RK 102 H 260 x 160 x 250 G ¼ 2 x 240 140 1,2 4,5 5,6 Ø245 x 130 5,6 RK 106 Ø265 x 270 G ¼ 2 x 240-0,6 5,5 6,4 500 x 140 x 150 9,0 RK 156 BH 530 x 165 x 300 G ¼ 2 x 300 600 3,4 7,3 8,9 1000 x 200 x 200 39,0 RK 170 H 1050 x 250 x 385 G ¼ 2 x 600 1600 8,3 26,5 69,5 300 x 150 x 150 5,7 RK 255 H 325 x 175 x 305 G ¼ 2 x 320 280 2,0 5,3 6,6 300 x 240 x 150 9,7 RK 510 H 325 x 265 x 305 G ½ 2 x 320 400 2,5 7,6 9,6 325 x 300 x 150 13,5 RK 514 H 355 x 325 x 305 G ½ 2 x 450 600 3,6 8,8 10,8 325 x 300 x 200 18,7 RK 514 BH 355 x 325 x 385 G ½ 2 x 450 600 3,6 9,8 12,1 500 x 300 x 200 28,0 RK 1028 H 535 x 325 x 400 G ½ 2 x 600 1300 7,0 15,4 18,8 500 x 300 x 300 45,0 RK 1028 C 540 x 340 x 500 G ½ 2 x 1000-2,2 27,5 31,1 500 x 300 x 300 45,0 RK 1028 CH 540 x 340 x 500 G ½ 2 x 600 1300 7,0 24,4 28,0 600 x 500 x 300 90,0 RK 1050 CH 640 x 540 x 530 G ½ 2 x 1200 1950 11,1 37,0 67,0 Geräteausstattung Robuste PZT-Großflächen-Schwingsysteme erzeugen im gesamten Schwingwannenvolumen Hochleistungsultraschall. Leistungskonstanz und Frequenzautomatik sorgen unabhängig von der Größe des Reinigungsobjektes immer für optimale Ultraschallverteilung und für reproduzierbare Ergebnisse. Besonders intensiv durch die vorteilhafte Frequenz von 35 khz. Alle Geräte sind mit einer Schaltuhr für 1-15 min und Dauerbetrieb ausgestattet. H-Typen werden mit eingebauter Heizung geliefert. Diese ist thermostatisch regelbar von 30 bis 80 C (RK 31 H mit Heizung 65 C, fest). Das robuste gehäuse ist pflegeleicht und tropfwassergeschützt. Alle Schwingwannen aus rostfreiem, ab RK 1028 C aus 1.4571, geschweißt. Ab RK 102 H mit einem Ablauf zum leichten Entleeren. SONOREX SUPER Geräte sind funkentstört und mit CE-Kennzeichnung. 230 V, alternativ 115 V, 50/60 Hz. Instrumentation Robust PZT wide area oscillating systems generate high performance ultrasonic within the complete oscillating chamber Power stabilisation and frequency automatic ensuring, independently of the size of the cleaning object, always for a optimum ultrasonic distribution and for repeatable results. Especially intensive through the beneficial frequency of 35 khz. All units are equipped with a timer for 1-15 minutes and continuously operation. H- types are supplied with a build in heater. This heater is thermostatically controlled from 30 C till 80 C (RK 31 H with heater 65 C constant) The robust stainless steel housing is easy-care and drip proof. All oscillating trays are made of stainless steel from RK 1028 made of 1.4571, welded. From RK 102 H with ball valve for easy drainage. SONOREX SUPER units are radio-screened and according to the CE marked.
Zubehör Accessories A Novellus Systems Company Material RK 31 H RK 100 H RK 102 H RK 106 RK 156 BH RK 170 H RK 255 H Deckel Head Stainless steel D 08 D 100 D 6 D 156 D 7 D 255 Einhängekörbe Insert basket Stainless steel K 08 K 3 170 x 65 x 50 200 x 113 x 40 K 6 Ø218 x 55 K 6 BL 450 x 97 x 50 - K 5 260 x 113 x 40 Einhängekörbe Insert basket Kunststoff Plastic - K 3 P 195 x 115 x 88 - - - K 5 P 254 x 96 x 130 Gerätehalter Equipment holder Stainless steel - GH 1 SH 1 - - - Einhängewanne Insert tray Kunststoff Plastic - KW 3 - - - KW 5 Lochdeckel Perforated head Stainless steel DE 08 DE 100 DE 6 DE 156 - DE 255 Einsatzgefäße 400 ml Insert vessel Kunststoff Plastic KB 04 - - - - - Einsatzgefäße 600 ml Insert vessel Glas - SD 06 SD 06 SD 06 - SD 06 Einsatzgefäße 600 ml Insert vessel Stainless steel - EB 05 EB 05 EB 05 - EB 05 Einsatzgefäße 600 ml Insert vessel Kunststoff Plastic - PD 06 PD 06 PD 06 - PD 06 Einsatzgefäße 1000 ml Insert vessel Glas - SD 09 SD 09 SD 09 - SD 09 Plattenhalter Plate holder Stainless steel - - - - - - Einspritzdüsenaufnahme Injection nozzle holder Stainless steel - ED 9 DE 822 - - - - Transportwagen Transport trolley Stainless steel - - - - - - Material RK 510 H RK 514 H RK 514 BH RK 1028 H RK 1028 H RK 1028 CH RK 1050 CH Deckel Head Stainless steel D 510 D 514 D 514 D 1028 D 1028 D 50 C Einhängekörbe K 10 K 14 K 14 B K 28 K 28 C K 50 C Insert basket Stainless steel 250 x 190 x 50 270 x 240 x 50 270 x 240 x 50 450 x 240 x 50 450 x 240 x 50 540 x 445 x 50 Einhängekörbe Insert basket Kunststoff Plastic - - - - - - Gerätehalter Equipment holder Stainless steel GH 10 - GH 14 B GH 28 GH 28 C GH 50 C Einhängewanne Insert tray Kunststoff Plastic - KW 14 KW 14 B KW 28-0 - KW 50 B-0 Lochdeckel Perforated head Stainless steel DE 510 DE 514 DE 514 ES 4 ES 4 ES 4 Einsatzgefäße 400 ml Insert vessel Kunststoff Plastic - - - - - - Einsatzgefäße 600 ml Insert vessel Glas SD 06 SD 06 SD 06 SD 06 SD 06 SD 06 Einsatzgefäße 600 ml Insert vessel Stainless steel EB 05 EB 05 EB 05 EB 05 EB 05 EB 05 Einsatzgefäße 600 ml Insert vessel Kunststoff Plastic PD 06 PD 06 PD 06 PD 06 PD 06 PD 06 Einsatzgefäße 1000 ml Insert vessel Glas SD 09 SD 09 SD 09 SD 09 SD 09 SD 09 Plattenhalter Plate holder Stainless steel - - LP 14 - LP 14 - Einspritzdüsenaufnahme Injection nozzle holder Stainless steel ED 9 - ED 14 - - - Transportwagen Transport trolley Stainless steel - - - TW 40 TW 40 TW 40