Sperrschichtphotoempfänger Aktive Halbleiter-Bauelemente einfallende Strahlung wird absorbiert und generiert Elektron-Lochpaare das innere elektrische Feld über der Sperrschicht eines p-n-überganges oder eines Metall-Halbleiterüberganges (Schottky-Barriere) trennt Elektronen und Löcher räumlich das Feld treibt im äußeren Kreis einen Photostrom bzw. erzeugt eine außen abnehmbare Photospannung nutzbar als Strahlungssensor und auch als Solarzelle
p-n-übergang schematisch Wenn p- und n- dotierte Bereiche zusammengeführt werden, kommt es zur iffusion von Ladungsträgern und zur Ausbildung von Raumladungen. Ausbildung von Raumladungszonen: positive Raumladung der onatoren im n-teil, negative Raumladung der Akzeptoren im p-teil
Ladungsträgerverteilungen über p-n-übergang im Gleichgewicht Ladungsträger- und otierungskonzentration über einem symmetrischen abrupten p-n-übergang am Beispiel von Silizium mit N A =10 16 cm -3 Boratomen/cm -3 im p - Teil und N =10 16 cm -3 Phosphoratomen/cm -3 im n-teil
iffusionsspannung Gleichgewicht: iffusionsstrom der Majoritätsträger = Feldstrom der Minoritätsträger dn enne en (für Elektronen) dx d kt dn E d dx e n n kt n e kt n kt N N ( xr) ( xl) U ln ln e n e n p A 2 n i Beispiel: iffusionsspannung in Si mit: N =N A =10 16 cm -3 n i =1,5 10 10 cm -3 T =300K U =0,695V
Poisson-Gleichung des abrupten p-n-übergangs 2 de d e 2 dx dx 0 p n N N A Näherung nach Schottky bei abruptem p-n-übergang: Nahezu konstante Ladungsdichte im p- bzw. n-teil der Raumladungszone N A N A für xl x 0 pn N N A N N für 0< x xr
Elektrisches Feld p-seitige Raumladungszone: de e dx 0 N mit E ( x ) 0 en A E ( x) ( x x l ) A 0 l n-seitige Raumladungszone: de dx e 0 N mit E ( x ) 0 en E ( x) ( x r x) 0 r Negatives elektrisches Feld mit linearem Verlauf und Maximum bei x=0 E( x0) E( x0) N x N x A l r
Elektrisches Potential d Edx Integration über x mit (x0) 0 en ( x x 0) x ( x x ) A 2 2 l 2 l l 0 en (0 x x ) x ( x x) 2 2 r 2 r r 0 Quadratischer Verlauf Feld- und Potentialverlauf über p-n-übergang
Weite der Raumladungszone e U ( x ) ( x ) N x N x 2 2 r l 2 r A l 0 Weite: W xr xl xr 1 W 2 e 0 U N A N N N A N N A wächst mit zunehmender otierung
Kapazität der Raumladungszone p-n-übergang als Plattenkondensator mit Ladungsdichte N N qen x en x e U N N A r A l 2 0 A Bei Anlegen einer äußeren Spannung U: U U U Kapazität/Flächeneinheit: C dq e 0 NAN F du 2 U U N N A
iodengleichung x eu eu eppn0 L e p nn kt n0 kt jp e 1 e analog jn e 1 Lp 1 in der RZ Ln eu kt j jp jn jse 1 bei geringer Rekombination Sättigungsstromdichte p n js e e n p n0 n p0 n p 2 i Lp Ln LnNA LpN rastischer Anstieg des Nettostroms bei Vorwärtsrichtung Schnelle Sättigung in Rückwärtsrichtung
Bänderschema des p-n-übergangs mit Vorwärtsspannung Barriere von eu auf e(u U) abgesenkt Ferminiveau EF aufgespalten in zwei Quasiferminiveaus EF,e und EF,h ifferenz der Ferminiveaus von p- und n-seite = Vorwärtsspannung Solarzelle: Bestrahlung mit Licht erzeugt Elektron-Lochpaare, senkt die Barriere und bewirkt EF,e>EF,h. Gewonnene Energie/Elektron-Lochpaar = EF,e- EF,h
Bestrahlter p-n-übergang g Generationsrate, p-n-übergang schematisch, Feldverlauf Bändermodell as Feld der RLZ treibt die durch Einstrahlung generierten Elektronen als Überschussminoritätsträger von der p- auf die n-seite und die Löcher von der n-seite auf die p-seite. Im Außenkreis fließt ohne äußere Spannung U 0 ein Photostrom in Sperrrichtung. Im Leerlauf lädt sich die n- Seite negativ, die p-seite positiv auf. ie Barriere erniedrigt sich von eu auf e(u -U OL ); U OL Leerlaufspannung bei Einstrahlung.
Photostrom z=0 z=w S h P-Schicht RLZ (Sperrschicht) N-Schicht I ph = I ph,drift + I ph,diff L p quasineutrale N- und P-Gebiete sind nahezu feldfrei nur Ladungsträger in der RLZ tragen zum Strom bei die in der RLZ optisch generierten Träger liefern den Hauptbeitrag, den riftphotostrom I ph,drift die in den Neutralgebieten erzeugten Träger müssen erst in die RLZ diffundieren, um als iffusionsphotostrom I ph,diff zum gesamten Photostrom beizutragen die iffusionslängen sollten daher hinreichend groß sein, vergleichbar groß wie der reziproke Absorptionskoeffizient die RLZ sollte breit und oberflächennah sein dünne P-Schicht!
riftphotostrom ph,drift 0 0 0 W I ea g(z)dz de g(z) (1 ) dz h az E E e E /A 0 S e(1 ) h aws I (1e ) ph,drift 0 P-Schicht dünn gegen 1/a angenommen! Bei Berücksichtigung der icke des P-Gebietes ist dieser Ausdruck noch mit exp(-aw P ) zu multiplizieren!
iffusion von Löchern in die RLZ Kontinuitätsgleichung für Löcher, wenn durch Licht g(z) Ladungsträgerpaare pro Volumen- und Zeiteinheit erzeugt und r(z) durch Rekombination vernichtet werden. Generations- und Rekombinationsrate hier ortsabhängig! 1 djp gz ( ) rz ( ) edx 2 dp d ( p) p g( z) n j 2 2 mit p ep dz dz L p p eu pz ( ) rz ( ) kt p(w S) pn0( e 1) p pz ( ) pn( z) pn0 L 2 p p p Überschussdichte am Sperrschichtrand durch Vorspannung
iffusionsphotostrom, Kurzschlussstrom bei Bestrahlung dp dz n eu /(kt) Idiff e A p unterer Iph,diff I S(e 1) RLZRand I e(1 ) a Lpe h 1aL ph,diff 0 aw p S I S Sperrsättigungsstrom eu /(kt) I I S(e 1) IKL I I (I I ) KL ph ph,drift ph,diff aw S e(1 ) e I KL 0(1 ) h 1aL p Bei Kurzschluss (U=0) fließt nur der Photostrom in Sperrrichtung! I KL Kurzschlussstrom bei Bestrahlung ist proportional der einfallenden Strahlungsleistung 0 aw e S (1 ) 1 a L p Sammelwirkungsgrad ist über Absorptionskoeffizienten wellenlängenabhängig. Er ist auch beeinflusst durch Lage und Weite der RLZ sowie durch iffusionslänge der Minoritätsträger. Ideal : W S 1/a L p!
Betriebsarten Kurzschluss (U=0): Leerlauf (I=0): Photoelement (Solarzelle) Sperrbetrieb: U << - kt/e I s U U I I KL KL I ph e(1 ) ( ) h c (1 e 1 aw a L 0 p kt KL U0L ln( 1) e I S L I L S U eu kt S ) Wegen I KL 0 logarithmische Strahlungsantwort, waagerechtes Ferminiveau, Barriere um eu 0L abgesenkt; höherdotierte Halbleiter bzw. solche mit größerem Gap haben größere Photospannung. R I U / R I ( e 1) I Generator I ( I ) S I KL KL kein unkelstrom I S linearer Sensor Offset durch unkelstrom I S, ansonsten wegen I KL 0 lineare Strahlungsanwort, wegen Sperrspannung über der Photodiode kleinere Sperrschichtkapazität und damit schnellere Antwort
Kennlinien IV: Kurzschluss- und Leerlaufbetrieb (Photozelle) und III: Sperrbetrieb (Photodiode) eines bestrahlten p-n-übergangs Kurzschlussphotostrom wächst linear mit der Bestrahlungsstärke, Leerlaufphotospannung logarithmisch mit der Bestrahlungsstärke
unkelströme unkelstrom i.w. durch den (thermischen) Sperrsättigungstrom proportional zu exp(-e G /kt) gegeben, der stark mit der Temperatur ansteigt, aber auch durch Tunnelströme durch die Sperrschicht und Oberflächenleckströme. unkelstromdichten von p-n-übergängen unterschiedlicher Halbleiter bei T = 300 K
Spektrale Empfindlichkeit als Funktion der Wellenlänge ie spektrale Empfindlichkeit Quantenausbeute Proportionalität zu und Sammelwirkungsgrad s I KL e(1 ) ( ) h c aw S e (1 1 a L 0 p ) ist über abhängig von der Wellenlänge. Sie nimmt zu kürzeren Wellenlängen ab wegen der Zunahme der Photonenenergie und wegen der Generierung von Trägern mehr nahe der Oberfläche, wo sie verstärkt rekombinieren, denn langwelligere Strahlung dringt tiefer ein, kurzwelligere wird oberflächennah absorbiert. Für die UV- etektion werden daher flache p-n-übergänge erforderlich, erzeugt durch Ionenimplantation. ie nach urchlaufen des Maximums erfolgende Abnahme der Emfindlichkeit ist i.w. durch die Grenzenergie bestimmt, die zur Erzeugung von Trägern mindestens benötigt wird. Im Vergleich zum Photoleiter ist wegen < 1 und fehlender innerer Verstärkung die Empfindlichkeit der Photodiode kleiner!
ynamisches Verhalten von Photodioden Schaltzeiten bzw. Modulationsgrenzfrequenz bestimmt durch Trägerlaufzeit 1 im Neutralgebiet(en) zur Sperrschichtgrenze, in der Regel diffusionsbestimmt: 1 2 W / 2 n,p 2-10 cm 2 /s, W= 0,1-50 µm: 1 = 10-11 -10-8 s iffusion relativ langsam gegen rift; für schnelle Photodioden ist oberflächliche p-schicht daher sehr dünn ausgeführt, die RLZ dagen breit und negativ vorgespannt. Trägerlaufzeit 2 durch die RLZ feldbestimmt: 2 W / S v s v s = 10 6-10 7 cm/s Sättigungsgeschwindigkeit, W S 1 µm: 2 10 ps Grenzfrequenz f 2 2,78 2 ergeben sich für kleine W S große Sperrschichtkapazitäten. 2 hoch für kleine Raumladungsweiten W S, allerdings
Photodiodenersatzschaltbild und RC-Zeit Umladezeit 3 der Sperrschichtkapazität C S 1 1 Meist dominante Grenzfrequenz f3 2 2C R R (1 R / R ) 3 S s L s p C S = 1-10 pf, R L = 50-100 : 3 = 50 ps - 1 ns er sehr kleine Serienwiderstand R s der Bahn und Kontaktierung ist ebenso wie der sehr große Parallelwiderstand R p (Innenwiderstand) hier i.d.r. vernachlässigbar. Insgesamt zeigt bei modulierter Einstrahlung die Photodiode Tiefpassverhalten mit der Zeitkonstanten = 1 + 2 + 3. Sie ist im Vergleich zum Photoleiter erheblich schneller. Ersatzschaltbild einer Photodiode im Sperrbetrieb
Grundbeschaltungen von Photodioden Grundlegende Betriebsschaltungen von Photodioden: Photoschaltverstärker a): Bei Unterschreitung einer gewissen Bestrahlungsstärke schaltet Transistor durch. Photodiode wirkt mit kleinem Lastwiderstand R L << R p als Stromgenerator, realisiert mit kleinem Lastwiderstand und folgender Spannungsverstärkung (b) bzw. mit arbeitspunktunabhängigem Transimpedanzverstärker (c); sie wirkt mit großem Lastwiderstand R L >> R p als Spannungsgenerator, realisiert mit Elektrometerverstärker (e) - logarithmisches Verhalten. Schaltung d) mit Vorspannung und folglich unkelstrom I 0..
Materialien für Photodioden UV Si: UV-enhanced durch ionenimplantierte flache p-n-übergänge,spektralbereich 200-1100 nm GaP: 190-550 nm (Schottky-iode) GaAsP: 300 680 nm SiC: 210-380 nm VIS, NIR Si: < 1,1 µm GaAlAsSb: 0,75-1,9 µm Ge: 0,8-1,7 µm InGaAlAs: 0,85-1,6 µm InGaAsP: 1,0-1,6 µm MIR, FIR InAs: < 3,5 µm InSb: < 5,6 µm HgCdTe, PbSnTe, PbSnSe: < 15 µm