Kraftfahrzeug Anwendungen. Oberflächenschichten

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1 Kraftfahrzeug nwendungen usgabedatum: Bezeichnung Referenz Beschichtungsverfahren Beschichtungswerkstoff GOE 200 O 2 (MoVL) Flammspritzen Molybdän GOE 201 O 4 (MP 43) Plasmaspritzen Pulver auf Mo-Basis GOE 202 O 8 (MKP 81 ) Plasmaspritzen Pulver aus Mo und Hartstoff GOE 203 O 14 (MKP 110) Plasmaspritzen Pulver aus Mo und Hartstoff GOE 204 O 12 (MKP 107 E) Plasmaspritzen Pulver aus Mo und Hartstoff GOE 205 O 6 (MP 96 ) Plasmaspritzen Pulver auf Mo-Basis GOE 210 MKJet 502 GOE 230 O 30 (CKS 36) GOE 231 CKS 38 GOE 232 GDC 50 GOE 233 GDC 52 GOE 234 CKS 37 Hochgeschwindigkeits- Flammspritzen (HVOF) Elektrochemische bscheidung Elektrochemische bscheidung Elektrochemische bscheidung Elektrochemische bscheidung Elektrochemische bscheidung Metallmatrix mit Chrom- und Wolframkarbiden Chrom und luminiumoxid Chrom und luminiumoxid Chrom und Diamant Chrom und Diamant Chrom und luminiumoxid GOE 240 PVD-Beschichtung Chromnitrid GOE 242 PVD-Beschichtung Chromnitrid GOE 243 PVD-Beschichtung Chromnitrid GOE 245 PVD-Beschichtung DLC-Schicht GOE 250 O 25, RES-M/525 Nitrieren und Nitrocarburieren legierter Stähle Nitridausscheidungen

2 Referenz: O 2 (MoVL) GOE 200 usgabedatum: Molybdän Flammspritzen hohe Brandspursicherheit ungeätzt 100 : 1 Schichtporosität: max. 20 % Es werden nur Poren mit einer Größe ab 5 µm berücksichtigt. Porengröße: 98 % aller Poren dürfen eine Größe bis max. 45 µm haben. Einzelne Poren bis 90 µm sind zulässig. Die Porengröße darf in radialer Richtung die Hälfte der vorhandenen Schichtdicke nicht überschreiten. ungeätzt 200 : 1 Schichthärte: Mittelwert HV 0,1 Festigkeit: min. 30 N/mm² Stirnzugversuch nach DIN EN 582 geätzt nach Murakami 500 : 1 Bemerkungen: ngaben über Prüf- und Meßverfahren sowie Probenvorbereitung enthält die GOE 520.

3 Referenz: O 4 (MP43) GOE 201 usgabedatum: Pulver auf Mo-Basis Plasmaspritzen hohe Brandspursicherheit und günstiges Verhältnis von Schichteigen- und Zylinderverschleiß ungeätzt 100 : 1 ungeätzt 200 : 1 geätzt nach Murakami 500 : 1 Chemische Zusammensetzung in %: Mo: Ni: Cr: 2,5-6,0 Si: 0,7-1,4 B: 0,5-1,0 Fe, Co, O und N zusammen max. 5 %. Schichtporosität: max. 10 % Es werden nur Poren mit einer Größe ab 5 μm berücksichtigt. Porengröße: 98 % aller Poren dürfen eine Größe bis max. 35 µm haben. Einzelne Poren bis 70 µm sind zulässig. Die Porengröße darf in radialer Richtung die Hälfte der vorhandenen Schichtdicke nicht überschreiten. Partikelhärte*: dunkle Phase: Mittelwert HV 0,05 weiße Phase: Mittelwert HV 0,05 Schichthärte**: Festigkeit: min. 25 N/mm 2 Stirnzugversuch nach DIN EN 582 Mittelwert HV HV 0,5 * Gemessen am mit Murakami geätzten Querschliff ** Bei Schichtdicken 100 µm Ermittlung von HV 0,5 Bemerkungen: ngaben über Prüf- und Messverfahren sowie Probenvorbereitung enthält die GOE 520.

4 Material Spezifikation GOE 202 Referenz: O 8 (MKP81) usgabedatum: ungeätzt 100 : 1 ungeätzt 500 : 1 geätzt nach Murakami 500 : 1 Spritzzusatzwerkstoff aus Mo und Hartstoff tmosphärisches Plasmaspritzen Hohe Eigenverschleißfestigkeit, geringer Zylinderverschleiß und erhöhte thermische Belastbarkeit. Chemische Zusammensetzung (Gew.-%): Mo: Ni: Cr: 3,7-7,0 C: 0,5-2,0 Fe, Co, O, N: zusammen max. 5% Schichtporosität: max. 10 % Es werden nur Poren mit einer Größe ab 5 µm berücksichtigt. Porengröße: 98% aller Poren dürfen eine Größe bis max. 35 µm haben. Einzelne Poren bis 70 µm sind zulässig. Die Porengröße darf in radialer Richtung die Hälfte der vorhandenen Schichtdicke nicht überschreiten Partikelhärte: * dunkle Phase Mittelwert HV0,05 gelbe Phase Mittelwert HV0,05 weiße Phase Mittelwert HV0,05 Schichthärte: ** Mittelwert HV1 Mittelwert HV0,5 Mittelwert HV0,1 Zugfestigkeit: min. 35 N/mm² Stirnzugversuch nach DIN EN 582 * Gemessen am mit Murakami geätzten Querschliff ** Schichthärte HV1 bei Schichtdicken > 200µm (Sollmaß auf der Zeichnung) messen, bei Schichtdicken < 200µm HV0.1. Bemerkungen: ngaben über Prüf- und Meßverfahren sowie Probenvorbereitung enthält die GOE 520

5 GOE 203 Referenz: O 14 (MKP110) usgabedatum: Pulver aus Mo und Hartstoff Plasmaspritzen hohe Eigenverschleißfestigkeit, geringer Zylinderverschleiß und erhöhte thermische Belastbarkeit ungeätzt 100 : 1 ungeätzt 200 : 1 geätzt nach Murakami 500 : 1 Chemische Zusammensetzung in %: Mo: Ni: Cr: 2,0-6,0 C: 0,5-2,0 Fe, Co, Si, B, O und N zusammen max. 5 %. Schichtporosität: max. 10 % Es werden nur Poren mit einer Größe ab 5 μm berücksichtigt. Porengröße: 98 % aller Poren dürfen eine Größe bis max. 45 µm haben. Einzelne Poren bis 90 µm sind zulässig. Die Porengröße darf in radialer Richtung die Hälfte der vorhandenen Schichtdicke nicht überschreiten. Partikelhärte*: dunkle Phase: Mittelwert HV 0,05 bräunliche Phase: Mittelwert HV 0,05 weiße Phase: Mittelwert HV 0,05 Schichthärte**: Mittelwert HV HV 0,5 Festigkeit: min. 35 N/mm 2 Stirnzugversuch nach DIN EN 582 * Gemessen am mit Murakami geätzten Querschliff ** Bei Schichtdicken 100 µm Ermittlung von HV 0,5 Bemerkungen: ngaben über Prüf- und Messverfahren sowie Probenvorbereitung enthält die GOE 520.

6 GOE 204 Referenz: O 12 (MKP107E) usgabedatum: Pulver aus Mo und Hartstoff Plasmaspritzen sehr hohe Eigenverschleißfestigkeit ungeätzt 100 : 1 ungeätzt 200 : 1 geätzt nach Murakami 500 : 1 Chemische Zusammensetzung der Schicht in Gew%: Mo: Ni: Cr: C: 0,5-2,0 Fe, Co, Mn, O und N zusammen max. 5 %. Schichtporosität: max. 10 % Es werden nur Poren mit einer Größe ab 5 μm berücksichtigt. Porengröße: 98 % aller Poren dürfen eine Größe bis max. 35 µm haben. Einzelne Poren bis 70 µm sind zulässig. Die Porengröße darf in radialer Richtung die Hälfte der vorhandenen Schichtdicke nicht überschreiten. Partikelhärte*: dunkle Phase: Mittelwert HV 0,05 gelbe Phase: Mittelwert HV 0,05 weiße Phase: Mittelwert HV 0,05 Schichthärte**: Festigkeit: min. 35 N/mm 2 Stirnzugversuch nach DIN EN 582 Mittelwert HV HV 0,5 * Gemessen am mit Murakami geätzten Querschliff ** Bei Schichtdicken 100 µm Ermittlung von HV 0,5 Bemerkungen: ngaben über Prüf- und Messverfahren sowie Probenvorbereitung enthält die GOE 520.

7 Referenz: O 6 (MP 96 ) GOE 205 usgabedatum: Pulver auf Mo-Basis Plasmaspritzen sehr hohe Eigenverschleißfestigkeit und hohe usbruchfestigkeit für schnelllaufende Motoren ungeätzt 100 : 1 ungeätzt 200 : 1 geätzt nach Murakami 500 : 1 Chemische Zusammensetzung der Schicht in Gew%: Mo: Ni: Cr: Fe, Co, O und N zusammen max. 5 %. Schichtporosität: max. 10 % Es werden nur Poren mit einer Größe ab 5 μm berücksichtigt. Porengröße: 98 % aller Poren dürfen eine Größe bis max. 35 µm haben. Einzelne Poren bis 70 µm sind zulässig. Die Porengröße darf in radialer Richtung die Hälfte der vorhandenen Schichtdicke nicht überschreiten. Partikelhärte*: dunkle Phase: Mittelwert HV 0,05 gelbe Phase: Mittelwert HV 0,05 Schichthärte**: Festigkeit: min. 35 N/mm 2 Stirnzugversuch nach DIN EN 582 Mittelwert HV HV 0,5 * Gemessen am mit Murakami geätzten Querschliff ** Bei Schichtdicken 100 µm Ermittlung von HV 0,5 Bemerkungen: ngaben über Prüf- und Messverfahren sowie Probenvorbereitung enthält die GOE 520.

8 Referenz: MKJet 502 GOE 210 usgabe: Spritzzusatzwerkstoff aus Metall-Karbid mit Karbiden auf Basis von Chrom und Wolfram Hochgeschwindigkeits-Flammspritzen (HVOF) ungeätzt 200 : 1 Extrem hohe Verschleißbeständigkeit Niedriger Zylinderverschleiß Hohe Temperaturbelastbarkeit Schichtstruktur: Zweiphasige Struktur auf Basis von CrC und WC Chemische Zusammensetzung (Gew.-%): W: 42,8 52,8 Cr: 32,2 39,4 C: 5,5 7,5 Ni: 11,2 13,7 Mo: 1,0 2,0 Rest: max. 5 % geätzt (Murakami) 200 : 1 Schichtporosität: max. 7 % Es werden nur Poren größer 5 µm berücksichtigt. Porengröße: 98 % aller Poren dürfen eine Größe bis max. 15 µm haben. Einzelne Poren bis 20 µm sind zulässig. Schichthärte*: Mittelwert Mittelwert Mittelwert HV HV HV0.1 geätzt (Murakami) 500 : 1 Zugfestigkeit**: min. 30 N/mm² Bemerkungen: * Bei Schichtdicken 100µm Ermittlung von HV0.5, 50 µm Ermittlung von HV0.1 ** Stirnzugversuch nach DIN EN 582 ngaben über Prüf- und Meßverfahren sowie Probenvorbereitung enthält die GOE 520.

9 GOE 230 Referenz: O 30 (CKS 36) usgabedatum: Chrom und luminiumoxid elektrochemische bscheidung Laufflächenschliff 200 : 1 höchste Verschleißfestigkeit geringer Zylinderverschleiß hohe thermische Belastbarkeit Schichtaufbau: Chromschicht mit luminiumoxid (l 2 O 3 ) Mikrorißdichte: Risse/mm nteil der l 2 O 3 -Partikel in der Schicht: 2 6 Vol. % Laufflächenschliff 1000 : 1 Korngröße der l2o3 -Partikel: 0,5 5 µm Schichthärte: HV 0,1 Bemerkungen: Richtlinien für die Beurteilung der Schicht enthält die GOE 530.

10 Referenz: CKS 38 GOE 231 usgabedatum: Chrom und luminiumoxid elektrochemische bscheidung hohe Verschleißfestigkeit, geringer Zylinderverschleiß Querschliff 100 : 1 Schichtaufbau: gradierte Schicht: 1. Chromschicht frei von Einlagerungen 2. Chromschicht mit luminiumoxid Chromschicht mit luminiumoxid 5/8 der Gesamtschicht Mikrorissdichte: Risse/mm (Chromschicht frei von Einlagerungen) Risse/mm (Chromschicht mit luminiumoxid) Laufflächenschliff** 200 : 1 nteil der l 2 O 3 -Partikel in der Schicht mit Einlagerungen: 2-6 Vol. % Korngröße der l 2 O 3 -Partikel: 0,5-5 µm Härte der l 2 O 3 -Partikel: HV 0,025* Schichthärte: HV 0,1 Laufflächenschliff** 1000 : 1 * Härtewerte nach Literaturangaben ** Chromschichtbereich mit Einlagerungen Bemerkungen: Richtlinien für die Beurteilung der Schicht enthält die GOE 530.

11 Referenz: GDC 50 GOE 232 usgabedatum: Chrom und Diamant elektrochemische bscheidung Laufflächenschliff 200 : 1 höchste Verschleißfestigkeit, geringer Zylinderverschleiß und hohe thermische Belastbarkeit Schichtaufbau: Chromschicht mit Diamant (C) Mikrorissdichte: Risse/mm nteil der Diamant-Partikel in der Schicht: 0,5-2,0 Vol. % Laufflächenschliff 1000 : 1 Korngröße der Diamant-Partikel: 0,1-2,0 µm Schichthärte: HV 0,1 Bemerkungen: Richtlinien für die Beurteilung der Schicht enthält die GOE 530.

12 Referenz: GDC 52 GOE 233 usgabedatum: Chrom und Diamant elektrochemische bscheidung hohe Verschleißfestigkeit, geringer Zylinderverschleiß Querschliff 200 : 1 Schichtaufbau: gradierte Schicht: 1. Chromschicht frei von Einlagerungen 2. Chromschicht mit Diamanteinlagerungen Chromschicht mit Diamanteinlagerungen 5/8 der Gesamtschicht Mikrorissdichte: Risse/mm (Chromschicht frei von Einlagerungen) Risse/mm (Chromschicht mit Diamant) Laufflächenschliff* 200 : 1 nteil der Diamant-Partikel in der Schicht mit Einlagerungen: 0,5-2,0 Vol. % Korngröße der Diamant-Partikel: 0,1-2,0 µm Schichthärte: HV 0,1 Laufflächenschliff* 1000 : 1 * Chromschichtbereich mit Einlagerungen

13 Referenz: CKS 37 GOE 234 usgabedatum: Chrom und luminiumoxid elektrochemische bscheidung Laufflächenschliff 200 : 1 höchste Verschleißfestigkeit, geringer Zylinderverschleiß, hohe thermische Belastbarkeit und geringe Rissanfälligkeit Schichtaufbau: Chromschicht mit luminiumoxid Mikrorissdichte: Risse/mm nteil der l 2 O 3 -Partikel in der Schicht: 5-12 Vol. % Laufflächenschliff* 200 : 1 Korngröße der l 2 O 3 -Partikel: 0,5-5 µm Härte der l 2 O 3 -Partikel: HV 0,025* Schichthärte: HV 0,1 * Härtewerte nach Literaturangaben Bemerkungen: Richtlinien für die Beurteilung der Schicht enthält die GOE 530.

14 Referenz: PT-13 GOE 240 usgabedatum: Material: CrN [O]-Beschichtung Physical Vapor Deposition (PVD) Hoch verschleißfeste Schicht Schichtmorphologie: CrN vorrangig (200) orientiert 1) Sauerstoffgehalt: O: 3 15 Gew. % 2) Schichthärte: HV 0,1 3) 1) Mit Röntgenstrahl Diffraktometer gemessen 2) Mit Elektronenstrahlmikrosonde gemessen 3) Gemessen von der Oberfläche aus, Last abhängig von Schichtdicke. Eindringtiefe des Prüfkörpers darf 10 % der Schichtdicke nicht überschreiten.

15 Referenz: PT-11 GOE 242 usgabedatum: Material: CrN - Beschichtung Physical Vapor Deposition (PVD) Hoch verschleißfeste Schicht Schichtmorphologie: CrN vorrangig (200) orientiert 1) Schichthärte: HV 0.1 2) 1) Mit Röntgenstrahl Diffraktometer gemessen 2) Gemessen von der Oberfläche aus, Last abhängig von Schichtdicke. Eindringtiefe des Prüfkörpers darf 10 % der Schichtdicke nicht überschreiten.

16 Referenz: PT-14 GOE 243 usgabedatum: Material: CrN [O] - Beschichtung Physical Vapor Deposition (PVD) Hochverschleißfeste und brandspursichere Beschichtung Schichtmorphologie: CrN vorrangig (200) orientiert 1) Sauerstoffgehalt: O: 3 15 Gew. % 2) Schichthärte: HV 0,1 3) 1) Mit Röntgenstrahl Diffraktometer gemessen 2) Mit Elektronenstrahlmikrosonde gemessen 3) Gemessen von der Oberfläche aus, Last abhängig von Schichtdicke. Eindringtiefe des Prüfkörpers darf 10 % der Schichtdicke nicht überschreiten.

17 Referenz: GOE 245 usgabedatum: Material: DLC - Beschichtung Physical Vapor Deposition (PVD) Reibungsminderne, hoch brandspurresistente Beschichtung geätzt mit HNO 3 Schichttyp: * a-c:h:me DLC Beschichtung Bemerkung: * Bezeichnung des Schichttyp in Bezug auf VDI 2840 Kohlenstoffschichten

18 GOE 250 Referenz: O 25, RES-M/525 usgabedatum: Schichtbezeichnung: NT Herstellungsverfahren: Nitrieren und Nitrocarburieren legierter Stähle geätzt mit HNO 3 30 : 1 Nitriertiefe: Nht 700 HV 0,1: nach Zeichnungsangabe geätzt mit HNO : HV 0,1 Typischer Härteverlauf GH Nitrierhärtetiefe Bemerkungen: Die Nitrierhärtetiefe Nht wird bestimmt nach DIN 50190, Teil 3.