Vorstellung des Belegthemas. 11. April Jana Wetzel (Matrikelnr.: )

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1 Evaluierung einer Software zur automatischen Bewertung von Defekten auf Photomasken bzgl. ihres Abbildungsverhaltens. Bewertung einer evt. prod. Nutzung in der Qimonda-Systemlandschaft. Vorstellung des Belegthemas 11. April 2007 Jana Wetzel (Matrikelnr.: )

2 Inhalt Motivation Grundlagen Vorgehensweise Ausblick Qimonda Jana Wetzel P LM DM 4/16/2007 Page 2

3 1. Motivation Motivation Qimonda Jana Wetzel P LM DM 4/16/2007 Page 3

4 1. Motivation Zur Herstellung von Wafern werden Photomasken benötigt Auftreten von Defekten an unterschiedlichen Stellen der Maske Defekte müssen vor der Verwendung der Maske beurteilt werden Lösungsvorschlag: automatische Defektbewertung durch geeignete Software Ziele: Zeiteinsparung Kostenminderung Fehlerminderung Qimonda Jana Wetzel P LM DM 4/16/2007 Page 4

5 2. Grundlagen Grundlagen Qimonda Jana Wetzel P LM DM 4/16/2007 Page 5

6 2. Grundlagen 2.1 Maskenarten und ihre Herstellung 2.2 Prinzipien der Maskeninspektion 2.3 Maskendefekte Qimonda Jana Wetzel P LM DM 4/16/2007 Page 6

7 2.1 Maskenarten und ihre Herstellung Electrical Design Layout Maskmaking Abb. 1 Qimonda Jana Wetzel P LM DM 4/16/2007 Page 7

8 2.1 Maskenarten und ihre Herstellung Lithografischer Teil der Maskenherstellung am Beispiel einer COG-Maske Chrome ätzen Lackstrukturierung durch Belichtung Entwicklung des Lackes Lack entfernen Pellicle-Montage Lack Chrome Glas Qimonda Jana Wetzel P LM DM 4/16/2007 Page 8

9 2.1 Maskenarten und ihre Herstellung COG Maske Chrome Halbton-Phasen-Maske MoSi Glas Glas 3-Ton-Maske Alternierende Phasen-Maske Chrome Chrome MoSi Glas Glas Qimonda Jana Wetzel P LM DM 4/16/2007 Page 9

10 2.1 Maskenarten und ihre Herstellung Abb. 2 Qimonda Jana Wetzel P LM DM 4/16/2007 Page 10

11 2.2 Prinzipien der Maskeninspektion Die-to-Die: Dies werden untereinander verglichen Die-To-Database: Maskenbild wird mit Design-Daten verglichen Contamination Inspection: Untersuchung nach Partikeln Qimonda Jana Wetzel P LM DM 4/16/2007 Page 11

12 2.3 Maskendefekte 1 Pellicle 4 2 Struktur (z.b. Chrome) 3 Glas 1: Defekt auf dem Pellicle 2: Defekt unter dem Pellicle 3: Defekte unter der Maske 4: Defekte auf der Struktur Qimonda Jana Wetzel P LM DM 4/16/2007 Page 12

13 2.3 Maskendefekte - Entstehung Kristallwachstum Partikel Qimonda Jana Wetzel P LM DM 4/16/2007 Page 13

14 2.3 Maskendefekte - Beispiele Spot Extension Bridge Missing Clear Kritische Extension Qimonda Jana Wetzel P LM DM 4/16/2007 Page 14

15 3. Lösungsansätze Vorgehensweise Qimonda Jana Wetzel P LM DM 4/16/2007 Page 15

16 3. Vorgehensweise 3.1 Untersuchung der aktuellen Vorgehensweise der Maskeninspektion 3.2 Charakterisierung der Software 3.3 Analyse der automatischen Defektklassifizierung 3.4 Analyse der automatischen Defektbewertung 3.5 Evaluierungsmethoden Qimonda Jana Wetzel P LM DM 4/16/2007 Page 16

17 3.1. Untersuchung der aktuellen Vorgehensweise der Maskeninspektion Maske Inspektion Qimonda Jana Wetzel P LM DM 4/16/2007 Page 17

18 3.2 Charakterisierung der Software Allgemeine Voraussetzungen (Betriebssystem, Netzwerk,...) Benutzerfreundlichkeit (Oberfläche, Geschwindigkeit,...) Funktionsweise Qimonda Jana Wetzel P LM DM 4/16/2007 Page 18

19 3.3 Analyse der automatischen Defektklassifizierung Vergleich der automatischen Defektklassifizierung der Software mit der momentanen manuellen Klassifizierung der Operator wichtige Voraussetzung für Defektbewertung Qimonda Jana Wetzel P LM DM 4/16/2007 Page 19

20 3.4 Analyse der automatischen Defektbewertung Vergleich der automatischen Defektbewertung mit Hilfe von Masken mit programmierten Defekten wichtigster Bestandteil der Software, da mit einer richtigen Einschätzung viel Zeit und Geld gespart werden kann Qimonda Jana Wetzel P LM DM 4/16/2007 Page 20

21 3.5 Evaluierungsmethoden Finden und bewerten von verschiedenen Evaluierungsmethoden zur Entscheidungsfindung und deren Anwendung auf die zu evaluierende Software Beispiel: Kepner-Tregoe-Methode Qimonda Jana Wetzel P LM DM 4/16/2007 Page 21

22 4. Ausblick Ausblick Qimonda Jana Wetzel P LM DM 4/16/2007 Page 22

23 4. Ausblick Was wurde bisher gemacht: Literaturstudium zum Erarbeiten der Grundlagen Analyse der aktuellen Arbeitsweise Einarbeiten in die Software Die nächsten Schritte: Erstellen einer Statistik von vorkommenden Defekten bei Qimonda Analyse der Software Qimonda Jana Wetzel P LM DM 4/16/2007 Page 23

24 Thank you The World s Leading Creative Memory Company

25 Quellen Abb. 1 Reticle Technology englisch, :48 (PowerPoint) Abb. 2 Bewertung_von_Defekten, :29 (PowerPoint) Qimonda Jana Wetzel P LM DM 4/16/2007 Page 25