Contents Inhalt. Evaporation and sputtering technical data Aufdampf- und zerstäubungstechnische Daten
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- Heike Böhm
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2 Contents Inhalt Evaporation and sputtering technical data Aufdampf- und zerstäubungstechnische Daten Application guidelines for special materials Anwendungshinweise für Spezialmaterialien Application matrix for optical materials Anwendungsmatrix für optische Materialien Thin film deposition is a dynamic process involving many variables. By working closely with our customers we have compiled technical data over the years which has proven to be helpful. We hope these additional tools will assist you when working with our products. Should you require more detailed technical support, or have suggestions as to how we can improve, do not hesitate to contact us on our Materials Hotline: Tel or sales.materials@umicore.com Beim Beschichtungsprozess kommt es auf viele verschiedene Parameter an. In enger Partnerschaft mit unseren Kunden haben wir über die Jahre hinweg technische Daten gesammelt, was sich als sehr hilfreich erwies. Wir hoffen, dass diese Hilfsmittel Ihnen die Arbeit mit unseren Produkten erleichtern. Benötigen Sie detailliertere technische Informationen oder haben Sie Verbesserungsvorschläge? Dann zögern Sie nicht, uns auf der Materials Hotline zu kontaktieren: Tel oder sales.materials@umicore.com 80 81
3 Evaporation and sputtering technical data Aufdampf- und zerstäubungstechnische Daten Substance Bulk Melting Boiling Temperature Transparency Refractive Evaporation source Remarks Bemerkungen Substance density at point point in C at vapor range in μm index as film =very good, =possible 20 C g/cm 3 C C pressure in mbar at 550 nm Substanz Festkörper- Schmelz- Siede- Temperatur in Durchlässigkeits- Brechzahl Verdampfungsquelle Substanz dichte bei punkt punkt C bei Dampfdruck bereich in μm als Schicht =sehr gut, =möglich 20 C g/cm 3 C C in mbar bei 550 nm low high n E-gun W Mo Ta Ag From E-gun with Mo- or C-liner. Aus E-Gun mit Mo- oder C-Liner. Ag Al From E-gun with C-liner. Aus E-gun mit C-Liner. Al Reacts with W. Reagiert mit W. Al 1 4% Cu 2.7 ~650 ~1150 Al 1 4% Cu AlF Sublimes. Maintain low rate, Sublimiert. Geringe Rate einhalten, AlF 3 solid particles can be carried along. da Festteile mitgerissen werden können. Al 2 O Al 2 O 3 As 2 S As 2 S 3 Au From E-gun with C-liner. Aus E-gun mit C-Liner. Au B Forms carbides with C. Carbidbildung mit C. B B 4 C > B 4 C BN Thermal dissociation. Thermische Zersetzung. BN B 2 O B 2 O 3 BaF BaF 2 BaTiO ~1600 ~ Dissociates. Zersetzung. BaTiO 3 Flash evaporation. Flash-Verdampfung. BeO BeO C C CaF ~1.4 CaF 2 CaO CaO Cd Protect systems with condensation surfaces. Anlage mit Kondensationsflächen schützen. Cd CdS Sublimes. Sublimiert. CdS Stoichiometry unstable. Stöchiometrie unstabil. CdSe ~ CdSe CdTe ~ (3μ) CdTe CeF CeF 3 CeO Thermal dissociation. Thermische Zersetzung. CeO 2 Evaporate under O 2 partial pressure. Unter O 2 -Partialdruck aufdampfen. Co Reacts with W. Reagiert mit W. Co Cr Sublimes. Sublimiert. Cr Cr SiO ~1600 Flash evaporation. Flash-Verdampfung. Cr SiO Cr 2 C ~2000 Cr 2 C 3 Cr 2 O ~2.5 Cr 2 O 3 Cr 2 Si Cr 2 Si 2 CsF CsF Cu From E-gun with Mo- or C-liner. Aus E-Gun mit Mo- oder C-Liner. Cu Cu 2 O ~800 Cu 2 O DyF DyF 3 Dy 2 O Dy 2 O 3 ErF ErF 3 Er 2 O Er 2 O 3 EuF ~1200 EuF 3 Eu 2 O Eu 2 O 3 Fe Reacts with W. Reagiert mit W. Fe 82 83
4 Evaporation and sputtering technical data Aufdampf- und zerstäubungstechnische Daten Substance Bulk Melting Boiling Temperature Transparency Refractive Evaporation source Remarks Bemerkungen Substance density at point point in C at vapor range in μm index as film =very good, =possible 20 C g/cm 3 C C pressure in mbar at 550 nm Substanz Festkörper- Schmelz- Siede- Temperatur in Durchlässigkeits- Brechzahl Verdampfungsquelle Substanz dichte bei punkt punkt C bei Dampfdruck bereich in μm als Schicht =sehr gut, =möglich 20 C g/cm 3 C C in mbar bei 550 nm low high n E-gun W Mo Ta Fe 2 O ~ Thermal dissociation. Thermische Zersetzung. Fe 2 O 3 Ga Reacts with metals. Reagiert mit Metallen. Ga GaAs ~1300 Flash evaporation. Flash-Verdampfung. GaAs GaP GaP GdF ~ GdF 3 Gd 2 O Gd 2 O 3 Ge (2μ) From E-gun with C-liner. Aus E-gun mit C-Liner. Ge GeO GeO 2 Hf Hf HfF ~ HfF 4 HfO ~ Evaporate under O 2 partial pressure. Unter O 2 -Partialdruck aufdampfen. HfO 2 HoF HoF 3 Ho 2 O Ho 2 O 3 In From E-gun with Mo- or C-liner. Aus E-gun mit Mo- oder C-Liner. In InSn 90: ~146 ~ Flash evaporation. Flash-Verdampfung. InSn 90:10 In 2 O ~ In 2 O 3 Ir Ir ITO In 2 O 3 SnO ~2000 ~ ITO In 2 O 3 SnO 2 LaF LaF 3 La 2 O La 2 O 3 LiF LiF LuF LuF 3 Lu 2 O Lu 2 O 3 Mg Mg MgF From E-gun with Mo-liner. Aus E-gun mit Mo-Liner. MgF 2 MgO Evaporate under O 2 partial pressure. Unter O 2 -Partialdruck aufdampfen. MgO Mn Reacts with W. Reagiert mit W. Mn MnS ~1365 MnS Mo Mo Mo 2 C ~2600 Thermal dissociation. Thermische Zersetzung. Mo 2 C MoO MoO 3 MoS ~400 Thermal dissociation. Thermische Zersetzung. MoS 2 MoSi ~2050 MoSi 2 Na 3 AlF Sublimes. Sublimiert. Na 3 AlF 6 Na 5 Al 3 F Sublimes. Sublimiert. Na 5 Al 3 F 14 NaF NaF Nb Nb Nb 2 O ~ Evaporate under O 2 partial pressure. Unter O 2 -Partialdruck aufdampfen. Nb 2 O 5 Thermal dissociation. Thermische Zersetzung. NdF NdF 3 Nd 2 O Nd 2 O 3 Ni Reacts with W. Reagiert mit W. Ni NiCr ~1500 ~1600 Flash evaporation. Flash-Verdampfung. NiCr NiO Thermal dissociation. Thermische Zersetzung. NiO 84 85
5 Evaporation and sputtering technical data Aufdampf- und zerstäubungstechnische Daten Substance Bulk Melting Boiling Temperature Transparency Refractive Evaporation source Remarks Bemerkungen Substance density at point point in C at vapor range in μm index as film =very good, =possible 20 C g/cm 3 C C pressure in mbar at 550 nm Substanz Festkörper- Schmelz- Siede- Temperatur in Durchlässigkeits- Brechzahl Verdampfungsquelle Substanz dichte bei punkt punkt C bei Dampfdruck bereich in μm als Schicht =sehr gut, =möglich 20 C g/cm 3 C C in mbar bei 550 nm low high n E-gun W Mo Ta Os Os Pb Pb PbF PbF 2 PbO PbO PbS Sublimes. Sublimiert. PbS PbSe ~650 PbSe PbTe (5μ) PbTe Pd Reacts with W. Reagiert mit W. Pd PrF PrF 3 Pr 2 O Thermal dissociation. Thermische Zersetzung. Pr 2 O 3 Pt Reacts with W. Reagiert mit W. Pt Rb Rb Re Re Rh C-boat at low rates and small quantities. C-Schiffchen bei kleinen Mengen Rh und geringen Raten. Ru Ru Sb Sb Sb 2 O Sb 2 O 3 Sb 2 S ~ Sublimes. Sublimiert. Sb 2 S 3 ScF ScF 3 Sc 2 O Sc 2 O 3 Se Protect systems with condensation surfaces. Anlagen mit Kondensationsflächen schützen. Se Si (2μ) Reacts with W. Reagiert mit W. Si O 2 getter. O 2 -Getter. From E-gun with Mo-liner. Aus E-gun mit Mo-Liner. SiC 3.2 ~ Thermal dissociation. Thermische Zersetzung. SiC Si 3 N Thermal dissociation. Thermische Zersetzung. Si 3 N 4 SiO (2μ) Sublimes. Sublimiert. SiO SiO SiO 2 SmF SmF 2 Sm 2 O Thermal dissociation. Thermische Zersetzung. Sm 2 O 3 Sn From E-gun with C-liner. Aus E-gun mit C-Liner. Sn SnO ~ Thermal dissociation. Thermische Zersetzung. SnO 2 SrF SrF 2 Ta Ta TaC ~3000 TaC TaN Thermal dissociation. Thermische Zersetzung. TaN Ta 2 O Evaporate under O 2 partial pressure. Unter O 2 -Partialdruck aufdampfen. Ta 2 O 5 TbF ~1100 TbF 3 Tb 2 O ~ Thermal dissociation. Thermische Zersetzung. Tb 2 O 3 Te (5μ) Sublimes. Sublimiert. Te ThF Radioactive. Radioaktiv. ThF 4 ThO Radioactive. Radioaktiv. ThO
6 Evaporation and sputtering technical data Aufdampf- und zerstäubungstechnische Daten Substance Bulk Melting Boiling Temperature Transparency Refractive Evaporation source Remarks Bemerkungen Substance density at point point in C at vapor range in μm index as film =very good, =possible 20 C g/cm 3 C C pressure in mbar at 550 nm Substanz Festkörper- Schmelz- Siede- Temperatur in Durchlässigkeits- Brechzahl Verdampfungsquelle Substanz dichte bei punkt punkt C bei Dampfdruck bereich in μm als Schicht =sehr gut, =möglich 20 C g/cm 3 C C in mbar bei 550 nm low high n E-gun W Mo Ta Ti O 2 getter. O 2 -Getter. Ti Reacts with W. Reagiert mit W. TiC TiC TiO > Evaporate under O 2 partial pressure. Unter O 2 -Partialdruck aufdampfen. TiO Ti 2 O Evaporate under O 2 partial pressure. Unter O 2 -Partialdruck aufdampfen. Ti 2 O 3 Ti 3 O Evaporate under O 2 partial pressure. Unter O 2 -Partialdruck aufdampfen. Ti 3 O 5 TiO ~ Evaporate under O 2 partial pressure. Unter O 2 -Partialdruck aufdampfen. TiO 2 UO Radioactive. Radioaktiv. UO 2 V Reacts with W. Reagiert mit W. V VC ~2100 VC V 2 O Thermal dissociation. Thermische Zersetzung. V 2 O 5 W W W 2 C W 2 C WO Thermal dissociation. Thermische Zersetzung. WO 3 WSi ~2200 Thermal dissociation. Thermische Zersetzung. WSi 2 WTi 14.6 WTi Y Y YF YF 3 Y 2 O ~ Y 2 O 3 YbF YbF 3 Yb 2 O Thermal dissociation. Thermische Zersetzung. Yb 2 O 3 Zn Protect systems with condensation surfaces. Anlagen mit Kondensationsflächen schützen. Zn ZnO Thermal dissociation. Thermische Zersetzung. ZnO ZnS Sublimes. Sublimiert. ZnS (10 at) ZnSe ~ ZnSe (10 at) ZnTe ~ (1μ) ZnTe Zr O 2 getter. O 2 -Getter. Zr Reacts with W. Reagiert mit W. ZrC ~3000 ZrC ZrF ~ Sublimes. Sublimiert. ZrF 4 ZrO 6.4 ~ From E-gun with Mo-liner. Aus E-gun mit Mo-Liner. ZrO Evaporate under O 2 partial pressure. Unter O 2 -Partialdruck aufdampfen. ZrO From E-gun with Mo-liner. Aus E-gun mit Mo-Liner. ZrO 2 Evaporate under O 2 partial pressure. Unter O 2 -Partialdruck aufdampfen
7 Application guidelines for special materials Anwendungshinweise für Spezialmaterialien Substance Composition Bulk Refractive Transparency Evaporation source Remarks Bemerkungen Substance density at index as film range in μm =very good, =possible 20 C g/cm 3 at 550 nm Substanz Zusammen- Festkörper- Brechzahl Durchlässigkeits- Verdampfungsquelle Substanz setzung dichte bei als Schicht bereich in μm =sehr gut, =möglich 20 C g/cm 3 bei 550 nm n low high E-gun W Mo Ta Mara Al 2 O see Al 2 O 3 siehe Al 2 O 3 Mara Lida La-Nb-Oxide Absorption free films. Absorptionsfreie Schichten. Lida Very good film hardness. Ergibt harte Schichten. Lati La-Ti-Oxide AR coatings e.g. on plastics. Reflexmindernde Schichten. Lati Filter coatings. Filter Beschichtungen. Paso I Al-Pr-Oxide AR coatings. Reflexmindernde Schichten. Paso I Paso II Al-Pr-Oxide AR coatings. Reflexmindernde Schichten. Paso II Paso III Al-Pr-Oxide AR coatings. Reflexmindernde Schichten. Paso III Orsit SiO see SiO 2 siehe SiO 2 Orsit Lima Si-Al-Oxide ~ AR coatings. Reflexmindernde Schichten. Lima Replacement for SiO 2. Ersatz for SiO 2. H 2 O Barrier. H 2 O Sperre. Environmental resistant. Resistent gegen Umwelteinflüsse. Flexo SiO see SiO siehe SiO Flexo Rena Ta 2 O 5-X Laser coatings. Laser Beschichtungen. Rena Excellent for hard and environmental Ergibt harte und unweltstabile Schichten. stable films. Wide transparency range. Grosser Durchlässigkeitsbereich. Dralo Ti-Al-Oxide AR coatings. Reflexmindernde Schichten. Dralo High index material for multi-layer coatings Hochbrechendes Material für stressreduzierte where a reduced film stress is required. Schichten. Excellent for low temperature coatings. Geeignet für Niedertermperatur Beschichtungen. Ida Ti-Pr-Oxide AR coatings. Reflexmindernde Schichten. Ida Environmental resistant. Resistent gegen Umwelteinflüsse. Ida II Ti-Pr-Oxide AR coatings. Reflexmindernde Schichten. Ida II Environmental resistant. Resistent gegen Umwelteinflüsse. Roma Zr-Ta-Oxide AR coatings. Reflexmindernde Schichten. Roma Excellent transparancy in the near UV range. Hohe Durchlässigkeit im nahen UV Bereich. IR-F625 Y-Ba-Fluoride ~ Alternative to ThF 4 in IR applications. Alternative zu ThF 4 bei IR Beschichtungen. IR-F625 IR-F900 Yb-Ca-Fluoride ~ Alternative to ThF 4 in IR applications. Alternative zu ThF 4 bei IR Beschichtungen. IR-F
8 Application matrix for optical materials Anwendungsmatrix für optische Materialien Substance Substanz Composition Zusammensetzung Transparency range Durchlässigkeitsbereich UV-Coating λ < 380 nm VIS-Coating λ nm IR-Coating λ > 800 nm Antireflection Entspiegelungen Heat reflectors/dielectric mirrors Wärmeschutzfilter/Dielektrische Spiegel Dichroics Farbfilter Narrowband filters Schmalband Filter Polarizers Polarisatoren Beamsplitters Strahlteiler Laser coatings Beschichtungen für Laseranwendungen Antistatic conductive layer Antistatische- und leitfähige Schichten Adhesion promoters Haftvermittler Coatings on plastics *) Bedampfungen auf Kunststoffen *) Color & sun-protection coatings Farb- und Sonnenschutzschichten Electrochromic coatings Elektrochrome Beschichtungen Easy to clean coatings Schmutz-/wasserabweisende Schichten Oxides Aluminium oxide Al 2 O 3 Mara Al 2 O 3 Cerium oxide CeO 2 Chromium oxide Cr 2 O 3 Hafnium oxide HfO 2 ITO 83/17 In-Sn-oxide ITO 90/10 In-Sn-oxide Lida La-Nb-oxide Lati La-Ti-oxide Magnesium oxide MgO Niobium oxide Nb 2 O 5-X Niobium oxide Nb 2 O 5 Paso I Al-Pr-oxide Paso II Al-Pr-oxide Paso III Al-Pr-oxide Scandium oxide Sc 2 O 3 Silicon dioxide SiO 2 Orsit SiO 2 Lima Si-Al-oxide Silicon monoxide SiO Flexo SiO Tantalum oxide Ta 2 O 5 Rena Ta 2 O 5-X Titanium oxides Ti-oxides Dralo Ti-Al-oxide Ida Ti-Pr-oxide Tungsten oxide WO 3 Yttrium oxide Y 2 O 3 Zirconium monoxide ZrO Zirconium dioxide ZrO 2 Roma Zr-Ta-oxide Zirconium-titanium-oxide Zr-Ti-oxide *) Please contact us for further information. Typical application. Possible in special cases; please contact us for further information. This list is not exhaustive. Subject to change without notice. *) Für weitere Informationen nehmen Sie bitte mit uns Kontakt auf. Typische Anwendung. Mögliche Anwendung unter bestimmten Voraussetzungen. Diese Liste erhebt keinen Anspuch auf Vollständigkeit. Technische Änderungen vorbehalten.
9 Substance Substanz Composition Zusammensetzung Transparency range Durchlässigkeitsbereich UV-Coating λ < 380 nm VIS-Coating λ nm IR-Coating λ > 800 nm Antireflection Entspiegelungen Heat reflectors/dielectric mirrors Wärmeschutzfilter/Dielektrische Spiegel Dichroics Farbfilter Narrowband filters Schmalband Filter Polarizers Polarisatoren Beamsplitters Strahlteiler Laser coatings Beschichtungen für Laseranwendungen Antistatic conductive layer Antistatische- und leitfähige Schichten Adhesion promoters Haftvermittler Coatings on plastics *) Bedampfungen auf Kunststoffen *) Color & sun-protection coatings Farb- und Sonnenschutzschichten Electrochromic coatings Elektrochrome Beschichtungen Easy to clean coatings Schmutz-/wasserabweisende Schichten Fluorides Barium fluoride BaF 2 Calcium fluoride CaF 2 Cerium fluoride CeF 3 Kryolithe Na 3 AlF 6 Lanthanum fluoride LaF 3 Magnesium fluoride MgF 2 Neodymium fluoride NdF 3 Ytterbium fluoride YbF 3 IR-F900 Yb-Ca-fluoride Yttrium fluoride YF 3 IR-F625 Y-Ba-fluoride Sulfide and IR Materials Zinc sulfide ZnS Silicon Si Germanium Ge Hydrophobic materials Hydrophobic tablets, Topcoat EverClean Color Materials Malbunit Meldina MG 51 Grey A Olivin C1 Olivin C2 *) Please contact us for further information. Typical application. Possible in special cases; please contact us for further information. This list is not exhaustive. Subject to change without notice. *) Für weitere Informationen nehmen Sie bitte mit uns Kontakt auf. Typische Anwendung. Mögliche Anwendung unter bestimmten Voraussetzungen. Diese Liste erhebt keinen Anspuch auf Vollständigkeit. Technische Änderungen vorbehalten
10 Transmission range of optical materials Transmissionsbereich für optische Materialien Wavelength (μm) Al 2 O 3 CeO 2 Cr 2 O 3 HfO 2 ITO (In-Sn-oxide) 83/17 ITO (In-Sn-oxide) 90/10 Lida (La-Nb-oxide) Lati (La-Ti-oxide) MgO Nb 2 O 5-X Nb 2 O 5 Paso I (Al-Pr-oxide) Paso II (Al-Pr-oxide) Paso III (Al-Pr-oxide) Sc 2 O 3 SiO 2 Lima (Si-Al-oxide) SiO Ta 2 O 5 Rena (Ta 2 O 5-X ) Ti-oxides Dralo (Ti-Al-oxide) Ida (Ti-Pr-oxide) WO 3 Y 2 O 3 ZrO ZrO 2 Roma (Zr-Ta-oxide) Zr-Ti-oxide BaF 2 CaF 2 CeF 3 Na 3 AlF 6 LaF 3 MgF 2 NdF 3 YbF 3 IR-F900 YF 3 IR-F625 ZnS Si Ge Wavelength (μm) This list is not exhaustive. Subject to change without notice. Diese Liste erhebt keinen Anspruch auf Vollständigkeit. Technische Änderungen vorbehalten.
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