Trace Analysis of Surfaces

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1 Trace Analysis of Surfaces Metall-Spurenanalyse auf Oberflächen mittels VPD- Verfahren Babett Viete-Wünsche

2 2 Das Unternehmen Unser Serviceportofolio Die VPD-Analyse

3 3 Das Unternehmen:

4 4 Einige unserer Kunden:

5 5 Metallspuren-Analyse

6 6 Was wir anbieten: Reinraumlabor Klasse 4 (nach ISO ) Chemische Analysen Prozess-Komponenten-Analysen (Chemikalien, Gase, Rohmaterial) Chemische Extraktion Oberflächenanalysen VPD/TXRF und VPD/ICP-MS Direkte Totalreflexionsröntgen-fluoreszenz -analyse (TXRF) Neutronenaktivierungsanalyse (NAA) Elektronenmikroskopie (REM, TEM) Massenspektrometrie (SIMS, ToF-SIMS, ICP-MS) weitere Analysen auf Nachfrage

7 7 in Kombination mit TXRF oder ICP-MS

8 8 VPD/TXRF und VPD/ICP-MS-Analyse 1. VPD Vapor-Phase-Decomposition Probe in Vakuum-Bedampfungskammer HF-Dampf wird gleichmäßig über die Oberfläche verteilt -

9 9 VPD/TXRF und VPD/ICP-MS-Analyse 2. Droplet Collection 100µl Säurelösung werden automatisch oder manuell über eine definierte Fläche gerollt Oberfächenkontaminationen im Tropfen zusammengeführt

10 10 VPD/TXRF und VPD/ICP-MS-Analyse 3. Analyse

11 11 Periodensystem der Elemente I II III IV V VI VI I H VIII He Li Be B C N O F Ne Na Mg III IV V VI VII VIII I II Al Si P S Cl Ar K Ca Sc Ti V Cr Mn Fe Co Ni Cu Zn Ga Ge As Se Br Kr Rb Sr Y Zr Nb Mo Tc Ru Rh Pd Ag Cd In Sn Sb Te I Xe Cs Ba Hf Ta W Re Os Ir Pt Au Hg Tl Pb Bi Po At Rn Fr Ra La Ce Pr Nd Pm Sm Eu Gd Tb Dy Ho Er Tm Yb Lu Ac Th Pa U Np Pu Am Cm Bk Cf Es Fm Md No Lr

12 12 PSE detektierbare Elemente mit TXRF I II III IV V VI VI I H VIII He Li Be B C N O F Ne Na Mg III IV V VI VII VIII I II Al Si P S Cl Ar K Ca Sc Ti V Cr Mn Fe Co Ni Cu Zn Ga Ge As Se Br Kr Rb Sr Y Zr Nb Mo Tc Ru Rh Pd Ag Cd In Sn Sb Te I Xe Cs Ba Hf Ta W Re Os Ir Pt Au Hg Tl Pb Bi Po At Rn Fr Ra La Ce Pr Nd Pm Sm Eu Gd Tb Dy Ho Er Tm Yb Lu Ac Th Pa U Np Pu Am Cm Bk Cf Es Fm Md No Lr

13 13 PSE detektierbare Elemente mit TXRF I II III IV V VI VI I H VIII He Li Be B C N O F Ne Zn mit LoD von 0,016 E10Atome/cm2 Na Mg III IV V VI VII VIII I II Al Si P S Cl Ar K Ca Sc Ti V Cr Mn Fe Co Ni Cu Zn Ga Ge As Se Br Kr Rb Sr Y Zr Nb Mo Tc Ru Rh Pd Ag Cd In Sn Sb Te I Xe Cs Ba Hf Ta W Re Os Ir Pt Au Hg Tl Pb Bi Po At Rn Fr Ra La Ce Pr Nd Pm Sm Eu Gd Tb Dy Ho Er Tm Yb Lu Ac Th Pa U Np Pu Am Cm Bk Cf Es Fm Md No Lr

14 14 VPD/TXRF und VPD/ICP-MS-Analyse 3. Analyse

15 15 Periodensystem der Elemente I II III IV V VI VI I H VIII He Li Be B C N O F Ne Na Mg III IV V VI VII VIII I II Al Si P S Cl Ar K Ca Sc Ti V Cr Mn Fe Co Ni Cu Zn Ga Ge As Se Br Kr Rb Sr Y Zr Nb Mo Tc Ru Rh Pd Ag Cd In Sn Sb Te I Xe Cs Ba Hf Ta W Re Os Ir Pt Au Hg Tl Pb Bi Po At Rn Fr Ra La Ce Pr Nd Pm Sm Eu Gd Tb Dy Ho Er Tm Yb Lu Ac Th Pa U Np Pu Am Cm Bk Cf Es Fm Md No Lr

16 16 PSE detektierbare Elemente mit ICP-MS I II III IV V VI VI I H VIII He Li Be B C N O F Ne Zn mit LoD von 0,022 E10Atome/cm2 Na Mg III IV V VI VII VIII I II Al Si P S Cl Ar K Ca Sc Ti V Cr Mn Fe Co Ni Cu Zn Ga Ge As Se Br Kr Rb Sr Y Zr Nb Mo Tc Ru Rh Pd Ag Cd In Sn Sb Te I Xe Cs Ba Hf Ta W Re Os Ir Pt Au Hg Tl Pb Bi Po At Rn Fr Ra La Ce Pr Nd Pm Sm Eu Gd Tb Dy Ho Er Tm Yb Lu Ac Th Pa U Np Pu Am Cm Bk Cf Es Fm Md No Lr

17 17 VPD/TXRF und VPD/ICP-MS-Analyse 4. Einsatzmöglichkeiten der Analyse Oberflächenanalysen Schichtanalysen, Schichtabnahmen Monitoring von Geräteeinheiten Überwachung der Sauberkeit innerhalb von Prozessabläufen

18 18 VPD/TXRF und VPD/ICP-MS-Analyse 5. Zusammenfassung Erfassen der kompletten Proben-Oberfläche und der eingeschlossenen metallischen Verunreinigungen Multi-Element-Analysen mit einer hohen Empfindlichkeit auch im niedrigen Massenbereich und bei niedrigen Konzentrationen TXRF für Standardmetalle, sehr kurze Analysezeit (ab 12h) ICP-MS auch für sehr leichte Metalle, Analysezeit (ab 48h) Die Nachweisgrenzen liegen im Bereich von ppm bis ppt und es können nahezu alle Metalle detektiert werden

19 Vielen Dank für Ihre Aufmerksamkeit! Wir sind die Lösung für Ihre Oberflächen!

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