Projektträger/Auftraggeber. Schlussbericht. für die Zeit vom : bis Abschluss des Vorhabens am :

Größe: px
Ab Seite anzeigen:

Download "Projektträger/Auftraggeber. Schlussbericht. für die Zeit vom : 01.05.2011 bis 30.04.2014. Abschluss des Vorhabens am : 30.04.2014"

Transkript

1

2

3

4 NaMLab ggmbh Nöthnitzer Strasse Dresden Telefon (0351) Telefax (0351) Forschungsinstitut für Leder und Kunststoffbahnen ggmbh Meißner Ring Freiberg Telefon (03731) Telefax (03731) TU Dresden, Fakultät Elektrotechnik und Informationstechnik, Institut für Halbleiter- und Mikrosystemtechnik, Mierdel-Bau Nöthnitzer Straße Dresden Telefon (0351) Telefax (0351) Ausbildung von transparenten Wasser- und Sauerstoff- Barriereschichten auf temperaturempfindlichen flexiblen Substraten zur Verkapselung von organischen Leuchtdioden Projektträger/Auftraggeber Registrier-Nr. Schlussbericht : BMWi : BR für die Zeit vom : bis Abschluss des Vorhabens am : Dresden, den Prof. Dr. T. Mikolajick Institutsdirektor Dr. Uwe Schröder Projektverantwortlicher Prof. Dr. M. Stoll Institutsdirektor Dr. Frauke Junghans Projektverantwortliche Prof. Dr. J. W. Bartha Institutsdirektor Dr. Matthias Albert Projektverantwortlicher

5 Inhaltsverzeichnis 1 Zusammenfassung Einleitung und Motivation Zielstellungen Wissenschaftlich-technische Zielstellung Wirtschaftliche Zielstellung Durchführung der Untersuchungen Materialbeschaffung Atomic Layer Deposition (ALD) Plasmaprozesse Bestimmung der Barriereeigenschaften mittels Kalziumtest Schichtcharakterisierung Ergebnisse Charakterisierungen der Polymerfolien Dynamische Differenzkalorimetrie Thermische Stabilität der Folien Folientransparenz Quellverhalten der Folien in Lösungsmittel Biegesteifigkeit Statische Deformation Charakterisierung der Diffusionsbarrieren Der elektrische und optische Ca-Testaufbau und dessen Optimierung Einfluss von Temperatur und Feuchtigkeit auf die Barrierewirkung CVD- und PVD-Abscheidung im Niederdruck Plasmareinigung der Polymerfolien Herstellung von Barriereschichten ALD-Einzelschicht-Barrieren Wechselwirkungen zwischen ALD-Prozess und Foliensubstraten Initiales Schichtwachstum bei der ALD von Al 2 O 3 aus TMA und Ozon Einzelschicht-Barrieren aus Al 2 O Einzelschicht-Barrieren aus HfO ALD-Multischicht-Barrieresysteme Charakterisierung von Wachstum und Aufbau der Laminate Al-O/Ti-O-Dünnschichtlaminate Zusammenfassung der Ergebnisse Bewertung der Ergebnisse hinsichtlich Zielstellung Wirtschaftliche Bedeutung der Forschungsergebnisse Beabsichtigter Transfer der Forschungsergebnisse Veröffentlichungen Patente Erläuterung der Notwendigkeit und Angemessenheit der geleisteten Arbeit Förderhinweis Literaturverzeichnis

6 1 Zusammenfassung Im vorliegenden Projekt arbeiteten die NaMLab ggmbh, das Forschungsinstitut für Leder und Kunststoffbahnen ggmbh, und das Institut für Halbleiter- und Mikrosystemtechnik der TU Dresden gemeinsam an transparenten Wasser- und Sauerstoff-Barriereschichten auf temperaturempfindlichen Substraten zur Verkapselung von organischen Leuchtdioden. Das Hauptziel war eine Barriereentwicklung mit Wasser Diffusionswerten im Bereich von 10-6 g Wasser pro m 2 und Tag. Aus den umfangreichen Datenmengen konnten folgende Ergebnisse erzielt werden: Alle Arbeitspakete wurden erfolgreich bearbeitet und abgeschlossen. Im Vergleich der Foliensubstrate stellte sich die planarisierte PEN Folie als bestes Foliensubstrat für Diffusionsbarrieren heraus. Beste Wasser Diffusionsbarriere Werte (WVTR) wurden mit Al 2 O 3 /TiO 2 Nanolaminaten sowohl auf Teststrukturen als auch auf industriell gefertigten OLEDs der Firma Novaled erreicht. Hierbei konnte die Barriere direkt auf den Teststrukturen bzw. OLEDs oder zunächst auf Folien abgeschieden werden, die zu einem späteren Zeitpunkt auf den OLEDs verklebt wurden. Grundsätzlich ergaben sich beste Barriere Werte für Al 2 O 3 /TiO 2 Nanolaminate gegenüber reinen Al 2 O 3 oder TiO 2 Einzelschichten. Durch eine Verbesserung im Versuchsaufbau zur Bestimmung der WVTR Werte konnten zum Ende des Projektes beste WVTR Werte für reine Al 2 O 3 gemessen werden. Dieser Versuchsaufbau wurde noch nicht an Nanolaminaten eingesetzt. Die Lebensdauer von organischen Leuchtdioden konnte durch den Einsatz von Diffusionsbarrieren auf mindestens 10000h erhöht werden. Während dieser Untersuchung an Luft wurde keine Degradation und keine Entstehung von Defekten beobachtet. Dieses Verhalten konnte sowohl nach einer Direktverkapselung der OLED als auch nach Laminierung einer Folie mit Diffusionsbarriere verifiziert werden. Eine maximale Lebensdauer kann noch nicht angegeben werden, da diese Versuche noch laufen. OLED Direktverkapselungen zeigten geringere Degradation der Leuchtdiode, wenn das aufgebrachte Nanolaminat zuerst unter Verwendung eines Ozon Präkursors abgeschieden wurde. Die Zielwerte für eine Wasser Diffusion durch die Barrieren konnte für einige anorganische Barrieresysteme nahezu erreicht werden. Beste Daten mit Werten von 10-5 g/m 2 /Tag (gemessen bei 38 C, 90 % Luftfeuchte) auf Folien und auf Glas Substraten können bei 20 C und 50 % Luftfeuchte mit Werten im Bereich 10-6 g/m 2 /Tag abgeschätzt werden. Das Ziel des Projektes wurde somit erreicht.

7 2 Einleitung und Motivation Organische Leuchtdioden (OLEDs) und organische Solarzellen sind Halbleiterbauelemente, die auf der Basis organischer Materialien arbeiten und ein breites Anwendungsfeld in bestehenden und schnell wachsenden Märkten abdecken können. Die größte Herausforderung im Herstellungsprozess beider Bauelemente besteht in der Verbesserung der Lebensdauer. Sie benötigen aufgrund ihrer Sensitivität gegenüber Luftfeuchtigkeit und Luftsauerstoff eine hermetische Verpackung, die als Diffusionsbarriere fungiert, gleichzeitig aber auch die Funktionalität des Bauelementes nicht behindert. Eine weitere Herausforderung besteht in der Erweiterung der Substrate um flexible Materialien, die die Beschränkungen der derzeit eingesetzten starren Glassubstrate umgehen können. Für OLEDs existiert bereits ein Markt. Mit OLED-Displays für Handy und MP3-Anwendungen wurden in 2009 ca. 1 Mrd. US$ Umsatz generiert. Es wird ein hohes Wachstum prognostiziert, bei dem schon 2015 ca. 2,6 Mrd.US$ Umsatz auf TV-Anwendungen entfallen sollen. Noch nicht in Marktvorhersagen enthalten sind Anwendungen, welche auf flexiblen oder biegbaren Substraten beruhen. Dies würde der OLED-Penetration in den Markt weiteren Vorschub geben. Der zweite OLED-Markt ist OLED-Licht. Dieser soll in 2014 die 1 Mrd. US$ Umsatzmarke erreichen. Im OLED-Lichtbereich werden flache, transparente und in Zukunft biegbare flächige Lichtquellen verkauft. Hier ist die transparente flexible Verkapselung noch wichtiger als im OLED-Display Bereich. Die Entwicklung von organischen Solarzellen stellt eine weitere Möglichkeit dar, das kostenlos zur Verfügung stehende Sonnenlicht zur Energiegewinnung zu nutzen. Diese Art der Solarzellen steht bereits am Beginn einer kommerziellen Verwertung [1,2,3]. Trotzdem besitzen sie derzeit noch einige Nachteile: Neben einer Erhöhung des Wirkungsgrades der Zellen wird besonders an der Entwicklung von langzeitstabilen Modulen [4] durch den Einsatz effektiver Diffusionsbarrieren gearbeitet. Weitere wünschenswerte Aspekte sind eine ökonomische Herstellung, eine gute mechanische Haftung auf unterschiedlichen Trägern, hier im speziellen flexible Folien, und eine gute Stabilität. Organische Solarzellen, welche diese Eigenschaften besitzen, können in vielen Bereichen wie z. B. der Funktionsbekleidung (Sport, Medizin), in Glasfassaden oder im Automobilsektor eingesetzt werden. Ziel des Projektes war die Ausbildung von transparenten Wasser- und Sauerstoff-Barriereschichten auf temperaturempfindlichen flexiblen Substraten, welche zur Verkapselung von organischen Leuchtdioden und organischen Solarzellen geeignet sind. Die Eigenschaften dieser Schichten sollten gegenüber bisherigen Arbeiten durch einen neuartigen Prozess und/oder durch Abscheidung auf Folien verbessert werden, um die Lebensdauer der organischen Bauelemente zu erhöhen. Das Projekt wurde in fünf Schwerpunkte aufgeteilt. Diese waren: a) die Abscheidung der ALD Diffusionsbarrieren mit O 3 als Sauerstoffpräkursor auf Kalzium- Teststrukturen und/oder OLEDs b) die Modifizierung der Diffusionsbarrieren durch Einführung von Multischichtsystemen 4

8 unter Anwendung des Abscheideverfahrens ALD c) Übertragung der Ergebnisse von starren Teststrukturen auf flexible Polymerfolien d) Verbesserung der Schichtwachstums- und Hafteigenschaften der ALD-Schichten und der Barriereeigenschaften der Schichten durch Verwendung gesputterter Zwischen-, Haft- und Schutzschichten sowie durch Verwendung von siliziumorganischen Schichten (aufgebracht im Normal- und/oder Niederdruck) e) Untersuchungen zur Verklebung der beschichteten Polymerfolien Alle Einkapselungen wurden auf Kalziumteststrukturen und auf OLED-Demonstratoren getestet. 3 Zielstellungen 3.1 Wissenschaftlich-technische Zielstellung Um das Projekt erfolgreich abzuschließen, müssen die Dünnfilmverkapselungen den Industriespezifikationen genügen. Hierbei sind folgende Messgrößen wichtig: Permeationsrate für Wasser (WVTR) bei Raumtemperatur Permeationsrate für Sauerstoff (OTR) Perfektion der Verkapselung Die Anforderungen unterscheiden sich nach der Anwendung, welche verkapselt werden soll (siehe Abb. 1). Zwei der Anwendungen sind: OLEDs Organische Solarzellen Die Anforderungen für OLED sind: Wasserpermeationsrate < 10-6 g/m 2 /Tag Sauerstoffpermeationsrate < cm 3 /m 2 /Tag Perfektion der Verkapselung: keine Defekte (Pinholes) auf 100 cm 2 Fläche, keine Randdiffusion, die zu sichtbarer Permeation innerhalb von 5 Jahren Lagerung führt Abb. 1: Spezifikationen für Wasser- und Sauerstoff-Permeabilitätsraten 5

9 Diese Anforderungen sind extrem hoch. Geringere Anforderungen im Bereich Perfektion lassen sich für bestimmte OLED Anwendungen evtl. akzeptieren. Außerdem lassen sich durch den Einbau von H 2 0- und O 2 -Gettern in die Verkapselung (was nicht Teil dieses Projektes ist, aber nichtsdestotrotz einen technologische Herausforderung darstellt) evtl. durch die Verkapselung dringende Gase (speziell am Rand) abfangen. Für Solarzellen reichen höchstwahrscheinlich Permeationsraten-Grenzen um einen Faktor von 100 geringer aus. Die zulässige Defektdichte ist noch unklar, liegt aber über dem Wert für OLEDs. Defekte führen hier nur zu einem geringeren Wirkungsgrad der Zelle. 3.2 Wirtschaftliche Zielstellung Der Nutzen und die Bedeutung des Projektes für die KMUs liegt in folgenden Aspekten begründet: Die Dünnschichtverkapselung von Bauelementen insbesondere auf flexiblen Substraten der organischen Elektronik ist bisher nicht zufriedenstellend gelöst. Nur bei einer zufriedenstellenden Lösung wird der Markt der organischen Elektronik so schnell wachsen, dass die beteiligten KMUs ihr Geschäftsmodell im Bereich organische Elektronik erfolgreich umsetzen und sich langfristig stabil am Markt aufstellen können. Es existieren viele mögliche Ansätze, wie eine zufriedenstellende Dünnschichtverkapselung realisiert werden kann. Alle sind mit erheblichen Risiken verbunden und erfordern einen hohen Ressourceneinsatz. Das lässt sich durch ein KMU nicht abdecken. ALD (Atomic Layer Deposition) wird allgemein als ein erfolgversprechender Ansatz für Dünnschichtverkapselung angesehen. ALD bei niedrigen Temperaturen (und auf organischen Halbleitern) steht aber noch ganz am Anfang und muss weiterentwickelt werden. ALD (wie alle Dünnschichtverkapselungsverfahren) ist sehr prozessintensiv und sensitiv. Das erfordert ein hohes Maß an Erfahrung, welche bei typischen KMUs nicht vorhanden ist. Die Verbindung von ALD abgeschiedenen Schichten auf flexiblen Folien ermöglicht den Einsatz der Verkapselungen auch auf flexiblen Substraten. Die Verwendung von den in diesem Projekt angestrebten Präkursoren ermöglicht die Benutzung von dünnen Diffusionsbarrieren, so dass die Gefahr eines Ausbrechens bzw. Abplatzens der Barriere nach Biegung der flexiblen Substrate verringert wird. 4 Durchführung der Untersuchungen 4.1 Materialbeschaffung Es erfolgte die Auswahl und Untersuchung verschiedener Polymerfolien hinsichtlich ihrer Eignung für die Beschichtungsprozesse sowie ihrer Barriereeigenschaften. Es werden hohe Anforderungen an Polymermaterialien im Bereich der organischen Elektronik gestellt: gute optische Eigenschaften (hohe Transparenz und geringe Doppelbrechung), 6

10 Chemikalienbeständigkeit, hohe Temperaturstabilität, Flexibilität, leicht, kostengünstig, geringe Rauheit. Folgende Folien (Tab. 1) wurden vom projektbegleitenden Ausschuss zur Verfügung gestellt und im Projekt charakterisiert: Tab. 1: Verwendete Folienmaterialien Bezeichnung Bemerkungen Polycarbonat-Folie (PC) Bezeichnung: Makrofol DE 1-1 CC, Dicke: 125 µm Lieferant: Bayer Material Science unbeschichtet und beidseitig kaschiert (grüne Folie) planarisierte Polycarbonat-Folie (ppc) Polyethylennaphthalat- Folie (PEN) planarisierte Polyethylennaphthalat- Folie (ppen) Polyethylenterephthalat PET-Folie (PET) planarisierte Polyethylenterephthalat- Folie (ppet) Bezeichnung: beidseitig beschichtete Makrofol DE1-1 Dicke: 180 µm Lieferant: Bayer Material Science einseitig kaschiert (durchsichtige Folie) Bezeichnung: einseitig beschichtete Teonex Q65FA Dicke: 125 µm Lieferant: DuPont Teijin nicht kaschiert Bezeichnung: Teonex(R) PQA5M Dicke: 125 µm Lieferant: DuPont Teijin beidseitig kaschiert (durchsichtige/grüne Folie) Bezeichnung: Melinex ST506 Dicke: 125 µm Lieferant: DuPont Teijin nicht kaschiert Bezeichnung: Melinex ST506 Dicke: 175 µm Lieferant: DuPont Teijin nicht kaschiert Die Folien wurden hinsichtlich ihrer Glasübergangs- und Schmelztemperatur, thermischen Stabilität, Transparenz, Quellverhalten in Lösungsmitteln, Biegesteifigkeit und statischen Deformation untersucht. 4.2 Atomic Layer Deposition (ALD) Als Abscheidungsmethode für die Barriereschichten wird ALD (Atomic Layer Deposition) genutzt. Diese Beschichtungsmethode wurde von Dr. Tuomo Suntola in den frühen 1970er Jahren entwickelt, um dünne Schichten mit hoher Konformalität der chemischen Zusammen- 7

11 setzung auf großflächige Substrate aufzubringen [5,6]. ALD ist ein spezielles CVD- Verfahren, bei dem die benötigten Präkursoren sequentiell und voneinander durch Spülzyklen getrennt in eine geheizte Reaktionszone geleitet werden. Der Mechanismus des Schichtwachstums beruht auf dem Unterschied in der Bindungsenergie zwischen chemisorbierten und physisorbierten Spezies. Im Falle der Chemisorption entsteht eine starke chemische Bindung zwischen den Atomen der festen Oberfläche des Substrates und den Atomen des gasförmigen Präkursormoleküls. Die Bindung der physisorbierten Atome hingegen ist deutlich schwächer und kann durch eine Gasspülung aufgebrochen werden. Physisorbierte Moleküle werden auch durch thermische Aktivierung oberhalb der Kondensationstemperatur leicht aufgebrochen. Ein ALD-Abscheidungszyklus besteht typischerweise aus vier sequentiellen Schritten (Abb. 2), die als Präkursorpuls bzw. -spülung und als Oxidationsmittelpuls bzw. -spülung bezeichnet werden. Innerhalb eines Zyklus entsteht weniger als eine Monolage des betreffenden Materials und die gewünschte Schichtdicke kann über die Wiederholung der Zyklen einfach eingestellt werden. Die Spülzyklen mittels Inertgas (N 2 oder Ar) zwischen den Präkursor- bzw. Oxidationsmittelpulsen sind notwendig, um Nebenprodukte und nicht abreagierte Präkursor- bzw. Oxidationsmittelmoleküle aus der Gasphase zu entfernen, bevor der nächste Schritt innerhalb eines Zyklus folgt. Ein wichtiger Parameter des ALD-Prozesses ist die Abscheidetemperatur. Sie wird durch die gewünschten Schichteigenschaften und die thermische Stabilität des Metallpräkursors bestimmt. Erschwerend kommt jedoch hinzu, dass Abscheidungen auf thermisch sensitiven Oberflächen Tieftemperaturprozesse erfordern. Auch unter Berücksichtigung dieser Einschränkungen ist ALD ein ausgezeichnetes Verfahren, um Schichten mit guten Eigenschaften hinsichtlich Dichte und Konformalität abzuscheiden. Dünne Schichten, die mittels ALD aufgebracht werden, weisen eine hohe Dichte und eine geringe Loch (Pinhole)-Dichte auf. Al 2 O 3 Schichten, die mittels TMA (Trimethylaluminium, (CH 3 ) 3 Al) und H 2 O im Temperaturbereich zwischen 250 und 300 C abgeschieden werden, weisen eine Schichtdickengleichmäßigkeit von 1 % für Probendurchmesser von 100 bis 200 mm auf. Oxidschichten, die mittels ALD erzeugt werden, werden in unterschiedlichsten Anwendungen eingesetzt: z. B. Gatedielektrikum in CMOS-Bauelementen, Isolatorschichten in Elektrolumineszenzbildschirmen und als Kondensatordielektrikum [7,8]. 8

12 Abb. 2: Die Schritte 1-6 bilden die Stufen eines ALD-Zykluses: 1: Spülen mit N 2 ; 2: Metallpräkursor- Puls (hier TMA); 3: Adsorption der Präkursormoleküle, Abspaltung und Entstehung der Beiprodukte; 4: Spülen mit N 2 ; 5: O-Präkursor Puls (hier H 2 O oder auch O 3 ); 6: Adsorption der Präkursormoleküle und Entstehung von Al 2 O 3. Niedertemperatur-ALD Da organische Schichten in OLEDs nur bis zu Temperaturen von ~ 100 C stabil sind, ist es nötig die Abscheidetemperaturen von Diffusionsbarrieren unter diese kritische Temperatur zu senken. Typische ALD-Prozesse erfolgen je nach Präkursor in einem Temperaturbereich von C. Am unteren Rand des typischen ALD-Fensters der Präkursoren ist zu erwarten, dass die Liganden der aufgebrachten Metallpräkursormoleküle nur unzureichend abgespalten werden und abgespaltene Ligandenmoleküle auf der Oberfläche wieder readsorbieren. Dies führt zu weniger dichten Schichten oder Defekteinbau in die Schichten, sodass nur unzureichende Barriereeigenschaften erreicht werden. Des Weiteren können sich Löcher (Pinholes) bilden oder eine Schichtinhomogenität erzeugt werden, dadurch dass mehr Beiprodukte am Kammerauslass vorhanden sind als am Einlass. Alle diese Effekte führen dazu, dass ein erhöhter Aufwand nötig ist, um Barriereschichten mit hoher Qualität zu erzeugen. Normale Al 2 O 3 Schichten werden typischerweise mit TMA (Trimethylaluminium) und Wasser als Oxidationsmittel abgeschieden. Hier erfolgt bei tiefen Temperaturen ein erhöhter OH-Gruppen Einbau und es resultieren somit weniger dichte Schichten. Verwendete ALD-Abscheideanlagen ALD-Anlagen werden in unterschiedlichster Konfigurationen Einzelscheiben-, Multiwafer- Anlagen bis hin zu Systemen mit Wafern gebaut. Ihr Einsatz hängt streng vom jeweils erwarteten Durchsatz und von den physikalisch/chemischen Randbedingungen des Prozesses Präkursormaterial, Verarmungseffekte aufgrund großer Oberflächen usw. ab. a) Beneq TFS 500: Im Projekt wurde eine Anlage der Firma Beneq (Abb. 3) verwendet, die einen kleinen Versuchsreaktor (Durchmesser 200 mm) innerhalb eines größeren Kaltwandreaktors enthält. 9

13 Der Vorteil des Systems besteht vor allem darin, dass der Heißwandreaktor sehr einfach ausgewechselt und beispielsweise gegen einen größeren oder anders geformten Reaktor ausgetauscht werden kann. Abb. 3: links: Innenansicht der Beneq ALD-Anlage; rechts: Außenansicht [9] b) FHR ALD 300: Die FHR Anlage (Abb. 4) bietet die Möglichkeit in situ, das heißt ohne Vakuumbruch das ALD-Schichtwachstum zu charakterisieren. Dies erfolgt mittels: Spektroskopischem Ellipsometer (zur In-situ-Schichtdickenbestimmung) Quadrupol-Massenspektrometer (zur In-situ-Prozesscharakterisierung) Quarzkristall-Mikrowaage (zur In-situ-Schichtdickenbestimmung) Röntgen- und UV-Photoelektronenspektroskopie (zur Bestimmung der chemischen Zusammensetzung) Rasterkraftmikroskop und Rastertunnelmikroskop (zur Messung der Topographie) Abb. 4: FHR ALD 300 ALD-Anlage mit In-situ-Charakterisierungsmöglichkeit 10

14 4.3 Plasmaprozesse Magnetron-Zerstäubung Zur Herstellung der Al 2 O 3 -Haftverbesserungsschichten wurde das Magnetronsputtern, welches zu den PVD-Verfahren (Abb. 5) gehört, verwendet. Dieses Verfahren arbeitet im Niederdruckbereich. Zur Beschichtung des Substrates wird dieses in eine Reaktionskammer eingebracht und ein Vakuum von ca mbar erzeugt. In das Vakuum wird anschließend ein Gas eingeleitet und durch eine Energiezufuhr zum Plasma angeregt. Dabei wird die eingebrachte Energie durch geladene Teilchen des Gases absorbiert. Leichtere Teilchen (z. B. Elektronen) werden dabei zuerst angeregt und können ihre Energie durch inelastische Stöße auf die schwereren Teilchen übertragen. Diese geladenen Plasmateilchen werden aufgrund eines anliegenden elektrischen Feldes in Richtung des Targets (Kathode) beschleunigt. Beim Auftreffen auf dem Target erfolgt die Übertragung der Energie des Beschussteilchens durch elastische und inelastische Stöße. Es kommt zu sich kaskardenartig fortpflanzenden Folgestößen und zur Weiterleitung der Energie. Übersteigt die eingebrachte Menge an Energie die Bindungsenergie der Targetteilchen, lösen sich diese aus der Materialoberfläche heraus und scheiden sich auf dem zu beschichtenden Substrat ab. Die Verfahrensvariante des Magnetronzerstäubens bewirkt eine Verminderung der thermischen Belastung des Substrates. Dabei wird an der Rückseite des Targets ein Magnetfeld angelegt. Auf Grund dessen erfolgt eine Zunahme der Elektronendichte (Elektronen des Plasmas, herausgelöste Sekundärelektronen) vor dem Target, wodurch mehr Sputtergasatome ionisiert werden und weniger energiereiche Teilchen auf dem Substrat auftreffen. Außerdem kann die Glimmentladung bei kleinen Drücken aufrechterhalten werden. Abb. 5: PVD-Prozess [11] Beim reaktiven Zerstäuben kommt mindestens eine Komponente der auf dem Substrat abgeschiedenen Schicht nicht vom Target sondern aus der Gasphase. Das zugeführte Gas reagiert mit dem Target oder den daraus herausgelösten Teilchen und das Produkt lagert sich auf dem Beschichtungsmaterial ab. Es wurde ein Target aus Aluminium eingesetzt und als Reaktivgas Sauerstoff hinzugeführt, sodass eine Schicht aus Al 2 O 3 entsteht. 11

15 Plasmamodifizierung im Niederdruckbereich Für die Abscheidung von Plasmapolymerschichten wurde ein Laborreaktor der Firma Roth & Rau AG eingesetzt. Der Laborreaktor erzeugt das Plasma mit Mikrowellen der Frequenz 2,45 GHz, die seitlich eingespeist werden. Die Zündung des Plasmas erfolgt zwischen Kathode und Anode. Die Leistung kann indirekt über die Einstellung der Stromstärke variiert werden. Mittels Vakuumpumpe erfolgt die Evakuierung des Rezipienten auf den gewünschten Arbeitsdruck (10-3 mbar). Auf einem Probentisch, der mit unterschiedlichen Geschwindigkeiten durch das Plasma transportiert werden kann, wird die Probe fixiert. Die Präkursorzufuhr erfolgt durch Erzeugung von Gasmolekülen durch eine Erwärmung auf C. Der gasförmige Präkursor wird zur Steuerung der Menge über GFC (Gas Mass Flow Controller, Dosierung sccm) geleitet. Zusätzlich zu den Präkursoren können auch noch Prozessgase wie z. B. Argon, Sauerstoff oder Stickstoff zugespeist werden. Der fahrbare Tisch gestattet Geschwindigkeiten zwischen 0,03 und 4,2 m/min. Eine Abbildung des Reaktors ist in Abb. 6 ersichtlich. Abb. 6: Niederdruck-Plasmaanlage zum Abscheiden von Plasmapolymerschichten 4.4 Bestimmung der Barriereeigenschaften mittels Kalziumtest Der MOCON-Test zur Bestimmung der Wasser- und Sauerstoffpermeationsraten erlaubt es nicht, die für OLEDs und organische Solarzellen relevanten Permeationsraten zu messen. Daher bedarf es anderer Testmethoden, um diese Permeationsraten mit der erforderlichen Empfindlichkeit zu messen. Eine dieser Methoden ist der sogenannte Kalziumtest. Dabei wird die Degradation von Kalzium an Luft gemessen. Eine Variante davon ist bei Fa. Novaled verfügbar. Er basiert auf der Veränderung der optischen Eigenschaften (alternativ sind Änderungen der elektrischen Eigenschaften messbar), wenn eine dünne Kalziumschicht Wasser und Luft ausgesetzt ist. Aus reflektierendem Kalzium wird durchsichtiges Kalzium. Der Test kann potentiell bis hinunter zu 10-6 g/m 2 /Tag ausgeführt werden. 12

16 Abb. 7: Optischer Aufbau beim Kalziumtest Der oben gezeigte Aufbau (Abb. 7) hat den Vorteil, dass er zum einen Löcher (Pinholes) und zum anderen die mittlere Kalzium-Transmission messen kann. Im Wesentlichen wird das Licht einer stabilen LED-Lampe polarisiert, in einen Probenstrahl und einen Referenzstrahl aufgeteilt, über Shutterblenden und Polarizing Beamsplitters wieder zusammen geführt und auf einer CCD-Kamera abgebildet. Damit lässt sich jederzeit die Transmission gegenüber dem anfänglichen Referenzsignal messen. Der eigentliche Messwert wird dann über folgende Formel aus der Transmissionsänderung bestimmt: Mit p als Prozentsatz der Ca-Transmission: Foliencharakterisierung Dynamische Differenzkalorimetrie (DSC) Mit der DSC werden kalorische Effekte einer Probe im Vergleich zu einer Referenz gemessen, während Probe und Referenz einem geregelten Temperaturprogramm unterliegen. Es wurde das Gerät DSC 204 F1 der Firma Netzsch verwendet, um die Glasübergangs- sowie Schmelztemperaturen der Polymerfolien zu ermitteln. Die Proben wurden in einem Temperaturbereich von 25 bis 300 C kontinuierlich mit einer Heizrate von 13

17 10 K/min erwärmt. Der 1. sowie 2. Heizlauf wurden aufgezeichnet. Die Ermittlung der Glasübergangstemperatur erfolgte aus dem 2. Heizlauf, die Schmelztemperatur aus dem 1. und 2. Heizlauf. Transparenz Das haze-gard plus der Firma BYK-Gardner charakterisiert das visuelle Erscheinungsbild durch objektive Messwerte. Alle wesentlichen Kriterien zur Beurteilung der Transparenz wie die Gesamttransmission, die Trübung (Haze) und die Bildschärfe (Clarity) wurden mit diesem Gerät gemessen. Die Gesamttransmission ist das Verhältnis von durchgelassenem Licht zu einfallendem Licht. Sie ist abhängig von den Absorptions- und Reflexionseigenschaften. Die durchgelassene Lichtmenge besteht aus einer gerichteten und einer diffusen Komponente. Abhängig von der Winkelverteilung der diffusen Komponente zeigt ein transparenter Kunststoff verschiedene Effekte. Unsere visuelle Wahrnehmung kann deutlich zwei verschiedene Phänomene unterscheiden: Großwinkel- und Kleinwinkelstreuung. Das Licht wird gestreut und bewirkt eine Verminderung des Kontrastes und ein milchig-trübes Erscheinungsbild. Die Trübung ist definiert als die Lichtmenge in Prozent, die im Mittel um mehr als 2,5 von der Richtung des einfallenden Lichtstrahls abweicht. Wird das Licht innerhalb eines kleinen Raumwinkels abgelenkt, so konzentriert sich die Streulichtmenge in einer engen Keule. Dadurch werden Konturen verzerrt und erscheinen weniger scharf. Die Bildschärfe wird in einem Winkelbereich kleiner 2,5 gemessen. Thermomechanische Analyse Das Prinzip der Thermomechanischen Analyse beruht auf der Messung von Dickenänderungen in Abhängigkeit von Zeit und Temperatur. Die Kraft von 0,01 N wurde bei allen Untersuchungen konstant gehalten. Die Folienproben wurden auf Druck (Kompressionsmodus) belastet. Mittels Messsonden wird die Materialdicke erfasst und deren Änderung verfolgt. Mit dieser Untersuchungsmethode wurden zum einen Erweichungstemperaturen der Folien bestimmt und zum anderen deren Quellverhalten in verschiedenen Lösungsmitteln charakterisiert. Für die Untersuchungen wurde das Gerät TMA Universal V4.7 der Firma TA Instruments verwendet. Zur Charakterisierung der Quellung der Folien in verschiedenen Lösungsmitteln, wie Wasser, Aceton, Ethanol, Isopropanol und N-Methyl-2-pyrrolidon (NMP), wurde zunächst die Ausgangsdicke der Polymerfolien gemessen. Anschließend wurden die Folienstücke für 5 Minuten im Lösungsmittel gelagert. Danach erfolgte die TMA-Messung zur Bestimmung des Quellverhaltens der Folien über eine Dauer von 30 min. Für die Ermittlung der Erweichungstemperaturen wurden die Folien mit folgendem Temperaturregime beaufschlagt: 1. Aufheizen der Probe auf 80 C mit einer Heizrate von 1 K/min, 2. Isothermes Halten bei 80 C für 120 Minuten. Durch das Aufheizen der Folien kam es zum Einsinken des Stempels. Dies wurde über die Zeit aufgezeichnet und die Folien untereinander verglichen. 14

18 Biegesteifigkeit Die Biegesteifigkeit der Folien wurde am Biegesteifigkeitsprüfer TS der Firma FRANK-PTI ermittelt. Dabei wird die eingespannte Probe gegen die Biegeschneide des Kraftaufnehmers gedrückt und die Kraft kontinuierlich in Abhängigkeit zum Biegewinkel aufgezeichnet. Bei Erreichen des voreingestellten Biegewinkels verharrt die Probe je nach voreingestellter Verweildauer und wird anschließend wieder in die Ausgangsposition zurückgefahren (Abb. 8). Abb. 8: Biegesteifigkeitsprüfer TS Es wurden jeweils 3 Längs- und 3 Querproben und jeweils die Vorder- und Rückseite mit den Maßen (20 x 50) mm 2 untersucht. Bei 3 mm Einspannlänge und 1 /s Prüfgeschwindigkeit wurden Prüfwinkel von 3, 6, 9, 12, 15 angesteuert. Vor jeder Prüfung wurden die Proben für 40 h bei 23 C und 50 % rel. Feuchte konditioniert. Deformation Die Bestimmung der statischen Deformation erfolgte mit dem Universal Surface Tester (UST ) der Firma Innowep (Abb. 9). Es wurde jeweils eine 5-fach Bestimmung der Folien vorgenommen, wobei jeweils die Vorderseite und Rückseite berücksichtigt wurde. Dabei wurden folgende Messparameter verwendet: Taster: Kugel 1,8 mm Kraft Belastung: 100 mn Kraft Entlastung: 10 mn Zeit Be-/Entlastung: 50 s Frequenz: 10 Hz Messbereich: ± 2000 µm 15

19 Abb. 9: Universal Surface Tester UST 1000 Zunächst erfolgte die Prüfung der Proben unter Normklima bei 23 C und 50 % rel. Feuchte. Darüber hinaus wurden die Folienproben bei 80 C für 30 Minuten ausgelagert und nach Auskühlen einer 2. Prüfung unterzogen. 4.5 Schichtcharakterisierung Kontaktwinkelbestimmung Die Kenntnis der Oberflächenenergie, aufgesplittet in einen polaren und dispersen Anteil, gestattet eine Aussage, inwieweit funktionelle Gruppen, wie Keto-, Carboxyl- oder Hydroxyl- Gruppen durch eine Plasmabehandlung in die Polymeroberfläche eingebaut wurden. So wird durch eine Oberflächenfunktionalisierung die Polarität der Oberfläche erhöht. Bei den Plasmapolymerschichten entscheiden die Prozessvarianten wie Präkursor- und Prozessgasart über die Oberflächenpolarität und bestimmen so einen hydrophilen oder hydrophoben Charakter der Schichten. Am FILK erfolgte die Messung der freien Oberflächenenergie, aufgesplittet in polaren und dispersen Anteil, mit einem Kontaktwinkelmessgerät der Firma DataPhysics OCA35 am liegenden Tropfen (statisches Messverfahren). Als Testflüssigkeiten wurden Wasser, Ethylenglykol und Dijodmethan ausgewählt. Für die Berechnung der freien Oberflächenenergie wurde das Auswerteverfahren nach Owens-Wendt-Rabel-Kaelble verwendet. Mechanische Profilometrie Mittels mechanischer Profilometrie können die Rauheit der Polymerfolien vor und nach einer Plasmabehandlung sowie die abgeschiedenen Schichtdicken ermittelt werden. Neben der Schichtabscheidung auf Folien mit verschiedenen Plasmaprozessen wurden zusätzlich Wafer beschichtet, an denen dann direkt die Schichtdicken bestimmt werden konnten. Dazu wird ein Waferstückchen mit einem Klebeband zur Hälfte abgeklebt und zusammen mit der Folienprobe in den Rezipienten eingefahren. Nach Abschluss des Prozesses wird das Klebeband entfernt und die auf dem Wafer entstandene Stufe mittels Profilometer gemessen. Die Messungen erfolgten mit einem Profilometer Dektak3ST der Firma Veeco. Als Styluskraft wurden 10 mg eingestellt. Die Scanlänge betrug 1000 μm. Die Stylusgeschwindigkeit wurde auf 12 Sekunden pro Scanlänge festgelegt. 16

20 Ausgewertet wurde der arithmetische Mittelrauwert R a, welcher die mittleren Abweichungen der absoluten Rauheitswerte von einer Bezugslinie innerhalb einer Messtrecke angibt. Peeltest Die Haftkräfte der Plasmabeschichtungen können mittels Schältest ermittelt werden. Dazu wird ein Tesafilm mit Acrylatklebstoff auf die zu untersuchende Oberfläche aufgeklebt und dann unter einem Winkel von 90 heruntergezogen. Die dafür erforderliche Kraft wird mit einer Kraftmessdose erfasst. Untersuchungen an den gepeelten Oberflächen lassen die Bruchstelle erkennen und damit wird die Kraft zuordenbar. Im Falle der Plasmabeschichtung kann aus der Kombination der Ergebnisse von Peeltest sowie EDX-Analyse am abgezogenen Klebeband eingeschätzt werden, ob die Plasmabeschichtung auf der Folienoberfläche verbleibt oder mit der gemessenen Kraft heruntergezogen wird. Die Messungen wurden mit einem Peeltester vom Typ ROMULUS III-A der Quad Group mit einer Abzugsgeschwindigkeit von 2 mm/s vorgenommen. EDX Analyse Durch Analytik an den Bruchstellen der Plasmabeschichtung und Klebstoffoberfläche kann untersucht werden, ob die Trennung innerhalb der abgeschiedenen Schicht erfolgt. Im Falle geringer innerer Festigkeiten sind mittels EDX-Messungen sowohl auf der Folienoberfläche als auch auf der Klebstoffschicht des Klebebandes Präkursorbestandteile zu finden. Die Untersuchungen erfolgten durch REM-EDX Kombination mit einem Rasterelektronenmikroskop XL 30 von Philips. Energiedispersive Röntgenspektroskopie (Energy dispersive X- ray spectroscopy) nutzt die von einer Probe emittierte Röntgenstrahlung für die Untersuchung einer Polymermatrix. Die örtliche Genauigkeit einer Messung im Rasterelektronenmikroskop wird durch die Eindringtiefe des Elektronenstrahls in das Material begrenzt. Beim Auftreffen des Strahls auf das Material wird dieser in der Probe gestreut, so dass die emittierten Röntgenstrahlen in einem birnenförmigen Raumvolumen mit einem Durchmesser von etwa 2 μm entstehen. Auf Grund der größeren Eindringtiefe des Messstrahls im Vergleich zu ESCA-Messungen wird von der Matrix wesentlich mehr erfasst und mit den Ergebnissen der modifizierten Schicht vermischt. Aus diesem Grund sind nur Elemente eindeutig zuzuordnen, die in der Matrix nicht vorhanden sind. Im Falle der Barriereschichten auf SiO x - und Al 2 O 3 -Basis kann das Silizium oder Aluminium nur aus der Plasmabeschichtung stammen. Um die Nachweisgrenze der Silizium- und Aluminiumatome zu erhöhen, wurde die Eindringtiefe des Elektronenstrahles durch Verringerung der Beschleunigungsspannung von 30 auf 10 kv minimiert. Spektroskopisches Ellipsometer Die Spektroskopische Ellipsometrie (SE) ist ein optisches Messverfahren, das sich durch hohe Empfindlichkeit sowie zerstörungsfreie und berührungslose Messung auszeichnet. Bei der ALD-Prozessentwicklung und bei der generellen Schichtcharakterisierung wird es zur Bestimmung von Schichtdicke sowie von Brechungsindex n und Extinktionskoeffizient k eingesetzt. Grundlage des Verfahrens ist die bei der Reflexion an Grenzflächen auftretende Änderung des Polarisationszustandes von polarisiertem Licht, welche mit der Schichtdicke, 17

Abb. 1: J.A. Woollam Co. VASE mit AutoRetarder

Abb. 1: J.A. Woollam Co. VASE mit AutoRetarder Charakterisierung von Glasbeschichtungen mit Spektroskopischer Ellipsometrie Thomas Wagner, L.O.T.-Oriel GmbH & Co KG; Im Tiefen See 58, D-64293 Darmstadt Charles Anderson, Saint-Gobain Recherche, 39,

Mehr

Atomic Force Microscopy

Atomic Force Microscopy 1 Gruppe Nummer 103 29.4.2009 Peter Jaschke Gerd Meisl Atomic Force Microscopy Inhaltsverzeichnis 1. Einleitung... 2 2. Theorie... 2 3. Ergebnisse und Fazit... 4 2 1. Einleitung Die Atomic Force Microscopy

Mehr

Auflösungsvermögen von Mikroskopen

Auflösungsvermögen von Mikroskopen Auflösungsvermögen von Mikroskopen Menschliches Auge Lichtmikroskopie 0.2 µm Optisches Nahfeld Rasterelektronen mikroskopie Transmissions Elektronenmikroskopie Rastersonden mikroskopie 10 mm 1 mm 100 µm

Mehr

C. Nanotechnologie 9. Chem. Analyse 9.1 Übersicht. Prinzip. Prof. Dr. H. Baumgärtner C9-1

C. Nanotechnologie 9. Chem. Analyse 9.1 Übersicht. Prinzip. Prof. Dr. H. Baumgärtner C9-1 Prinzip 9.1 Übersicht Prof. Dr. H. Baumgärtner C9-1 Um eine Probe analysieren zu können muss sie mit Licht oder Teilchen bestrahlt werden. Die Reaktion der Probe auf diese Anregung führt zur Abstrahlung

Mehr

Rastersonden-Mikroskopie (SPM)

Rastersonden-Mikroskopie (SPM) Rastersonden-Mikroskopie (SPM) Der Rastersonden-Mikroskopie (SPM) liegt eine geregelte rasternde Bewegung einer spitz zulaufenden Messsonde in unmittelbarer Nähe zur Probenoberfläche zugrunde. Die erhaltenen

Mehr

Verfahren der Mikrosystemtechnik zur Herstellung/Charakterisierung von Chemo- und Biosensoren

Verfahren der Mikrosystemtechnik zur Herstellung/Charakterisierung von Chemo- und Biosensoren Verfahren der Mikrosystemtechnik zur Herstellung/Charakterisierung von Chemo- und Biosensoren Teil 8: Analysemethoden zur Charakterisierung der Mikrosysteme II Dr. rer. nat. Maryam Weil Fachhochschule

Mehr

3. Experimenteller Teil

3. Experimenteller Teil 3. Experimenteller Teil 3.. Der Plasma Reaktor Die Plasmapolymerisation wurde in einer vom Labor VIII.3 (BAM) selbstkonstruierten, zylindrischen Plasmakammer durchgeführt. Der Plasmareaktor ist über eine

Mehr

Beschichtungen mit Polyparylen durch (plasmaunterstützte) Dampfabscheidung

Beschichtungen mit Polyparylen durch (plasmaunterstützte) Dampfabscheidung Beschichtungen mit Polyparylen durch (plasmaunterstützte) Dampfabscheidung Gerhard Franz mailto:info @ plasmaparylene.de Kompetenzzentrum Nanostrukturtechnik FH München Plasma Parylene Coating Services,

Mehr

Abscheidung von TCO-Schichten mittels DC-Pulssputtern mit HF-Überlagerung

Abscheidung von TCO-Schichten mittels DC-Pulssputtern mit HF-Überlagerung FVS Workshop 2005 M. Ruske Session VI Abscheidung von TCO-Schichten mittels DC-Pulssputtern mit HF-Überlagerung M. Ruske mruske@ eu.appliedfilms.com M. Bender A. Klöppel M. Stowell Applied Films Bei der

Mehr

Transparente ZnO:Al 2 O 3 - Kontaktschichten für Cu(In,Ga)Se 2 - Dünnschichtsolarzellen

Transparente ZnO:Al 2 O 3 - Kontaktschichten für Cu(In,Ga)Se 2 - Dünnschichtsolarzellen R. Menner Session III FVS Workshop 25 Transparente ZnO:Al 2 O 3 - Kontaktschichten für Cu(In,Ga)Se 2 - Dünnschichtsolarzellen Einleitung Großflächige Cu(In,Ga)Se 2 -Dünnschichtsolarzellen (CIS) haben über

Mehr

Theoretische Modellierung von experimentell ermittelten Infrarot-Spektren

Theoretische Modellierung von experimentell ermittelten Infrarot-Spektren Sitzung des AK-Thermophysik am 24./25. März 211 Theoretische Modellierung von experimentell ermittelten Infrarot-Spektren M. Manara, M. Arduini-Schuster, N. Wolf, M.H. Keller, M. Rydzek Bayerisches Zentrum

Mehr

DSC Differential Scanning Calorimetrie

DSC Differential Scanning Calorimetrie DSC Differential Scanning Calorimetrie Ziel: Ermittlung von Materialeigenschaften aufgrund von Enthalpieänderungen. Grundprinzip: Die Differential Scanning Calorimetrie (DSC) ist definiert als eine Messmethode,

Mehr

Wiederholung: praktische Aspekte

Wiederholung: praktische Aspekte Wiederholung: praktische Aspekte Verkleinerung des Kathodendunkelraumes! E x 0 Geometrische Grenze der Ausdehnung einer Sputteranlage; Mindestentfernung Target/Substrat V Kathode (Target/Quelle) - + d

Mehr

Optische Eigenschaften metallischer und dielektrischer Dünnfilme bei der Ionenstrahlbeschichtung

Optische Eigenschaften metallischer und dielektrischer Dünnfilme bei der Ionenstrahlbeschichtung Optische Eigenschaften metallischer und dielektrischer Dünnfilme bei der Ionenstrahlbeschichtung C. Bundesmann, I.-M. Eichentopf, S. Mändl, H. Neumann, Permoserstraße15, Leipzig, D-04318, Germany 1 Inhalt

Mehr

TA Instruments TGA Q500

TA Instruments TGA Q500 Kunststoffanalyse 2 Kunststoffanalyse Untersuchungsmethode Infrarot ( IR-) Spektralanalyse Thermogravimetrie Differential Scanning Calorimetry ( DSC ) Kurzzeichen FT-IR TGA DSC Prüfnormen Gerätetyp und

Mehr

DIE FILES DÜRFEN NUR FÜR DEN EIGENEN GEBRAUCH BENUTZT WERDEN. DAS COPYRIGHT LIEGT BEIM JEWEILIGEN AUTOR.

DIE FILES DÜRFEN NUR FÜR DEN EIGENEN GEBRAUCH BENUTZT WERDEN. DAS COPYRIGHT LIEGT BEIM JEWEILIGEN AUTOR. Weitere Files findest du auf www.semestra.ch/files DIE FILES DÜRFEN NUR FÜR DEN EIGENEN GEBRAUCH BENUTZT WERDEN. DAS COPYRIGHT LIEGT BEIM JEWEILIGEN AUTOR. Messung von c und e/m Autor: Noé Lutz Assistent:

Mehr

Lehrbuch Mikrotechnologie

Lehrbuch Mikrotechnologie Lehrbuch Mikrotechnologie für Ausbildung, Studium und Weiterbildung von Sabine Globisch 1. Auflage Lehrbuch Mikrotechnologie Globisch schnell und portofrei erhältlich bei beck-shop.de DIE FACHBUCHHANDLUNG

Mehr

Viskosität und Formgebung von Glas

Viskosität und Formgebung von Glas Viskosität und Formgebung von Glas Stefan Kuhn Stefan.Kuhn@uni-jena.de Tel.: (9)48522 1.1 Zielstellung In diesem Praktikum soll der Flieÿpunkt der im Praktikumsversuch Schmelzen von Glas hergestellten

Mehr

Seiko Instruments GmbH NanoTechnology

Seiko Instruments GmbH NanoTechnology Seiko Instruments GmbH NanoTechnology Röntgenfluoreszenz Analyse Eine Beschreibung der Röntgenfluoreszenzanalysetechnik mit Beispielen. 1. Prinzip Röntgenstrahlen sind elektromagnetische Wellen, ähnlich

Mehr

Oberflächen vom Nanometer bis zum Meter messen

Oberflächen vom Nanometer bis zum Meter messen Oberflächen vom Nanometer bis zum Meter messen Dr. Thomas Fries Fries Research & Technology GmbH (FRT), www.frt-gmbh.com In den Bereichen F&E und Produktionskontrolle spielt die präzise Messung von Oberflächen

Mehr

Das Rastertunnelmikroskop

Das Rastertunnelmikroskop Das Rastertunnelmikroskop Die Nanostrukturforschung ist die Schlüsseltechnologie des 21. Jahrhunderts. Das Gebiet der Nanowissenschaften beinhaltet interessante Forschungsgebiete, die einen Teil ihrer

Mehr

Festigkeit und Härte

Festigkeit und Härte Festigkeit und Härte Wichtige Kenngrößen für die Verwendung metallischer Werkstoffe sind deren mechanische Eigenschaften unter statischer Beanspruchung bei Raumtemperatur (RT). Hierbei hervorzuheben sind

Mehr

Messprinzip. Wichtige Kenngrößen für Lackschichten sind:

Messprinzip. Wichtige Kenngrößen für Lackschichten sind: Mechanische Charakterisierung von Lackschichten mit dem instrumentierten Eindringversuch nach DIN EN ISO 14 577 und dem Mikrohärtemessgerät FSCHERSCOPE HM2000 Lackschichten finden eine breite Anwendung

Mehr

6.4. Polarisation und Doppelbrechung. Exp. 51: Doppelbrechung am Kalkspat. Dieter Suter - 389 - Physik B2. 6.4.1. Polarisation

6.4. Polarisation und Doppelbrechung. Exp. 51: Doppelbrechung am Kalkspat. Dieter Suter - 389 - Physik B2. 6.4.1. Polarisation Dieter Suter - 389 - Physik B2 6.4. Polarisation und Doppelbrechung 6.4.1. Polarisation Wie andere elektromagnetische Wellen ist Licht eine Transversalwelle. Es existieren deshalb zwei orthogonale Polarisationsrichtungen.

Mehr

11. ThGOT 2015. Funktionelle Beschichtungen auf Basis der Sol-Gel-Technik

11. ThGOT 2015. Funktionelle Beschichtungen auf Basis der Sol-Gel-Technik INNOVENT e.v. Technologieentwicklung Wirtschaftsnahe Forschungseinrichtung Gründung 1994 11. ThGOT 2015 Funktionelle Beschichtungen auf Basis der Sol-Gel-Technik Grenz- und Oberflächentechnologie Biomaterialien

Mehr

III.2 Prozessierung von Halbleiterbauelementen. Lithografie Abscheidung Dotierung Strukturierung Packaging

III.2 Prozessierung von Halbleiterbauelementen. Lithografie Abscheidung Dotierung Strukturierung Packaging III.2 Prozessierung von Halbleiterbauelementen Lithografie Abscheidung Dotierung Strukturierung Packaging Herstellungstechnologien III.2.1 Lithografie Grundprinzipien der Lithografie Abb. Verschiedene

Mehr

2 Grundlagen der Rasterkraftmikroskopie

2 Grundlagen der Rasterkraftmikroskopie 7 1 Einleitung Mit der Entwicklung des Rastertunnelmikroskops im Jahr 1982 durch Binnig und Rohrer [1], die 1986 mit dem Physik-Nobelpreis ausgezeichnet wurde, wurde eine neue Klasse von Mikroskopen zur

Mehr

MIG-Aluminiumschweißen. Gasfluss. MIG = Metall-Inertgas-Schweißen

MIG-Aluminiumschweißen. Gasfluss. MIG = Metall-Inertgas-Schweißen MIG-Aluminiumschweißen MIG = Metall-Inertgas-Schweißen Inertgase für das Aluminiumschweißen sind Argon und Helium Gasgemische aus Argon und Helium werden ebenfalls verwendet Vorteile: Hohe Produktivität

Mehr

Prof. Dr.-Ing. H. Heuermann

Prof. Dr.-Ing. H. Heuermann Hochfrequenztechnik WS 2007/08 Prof. Dr.-Ing. H. Heuermann Oszilloskope Autor: Jihad Lyamani 1 Geschichte und Entwicklung: Als erstes soll die Frage geklärt werden, warum man ein Oszilloskop erfunden hat

Mehr

Tropfenkonturanalyse

Tropfenkonturanalyse Phasen und Grenzflächen Tropfenkonturanalyse Abstract Mit Hilfe der Tropfenkonturanalyse kann die Oberflächenspannung einer Flüssigkeit ermittelt werden. Wird die Oberflächenspannung von Tensidlösungen

Mehr

1 Abscheidung. 1.1 CVD-Verfahren. 1.1.1 Siliciumgasphasenepitaxie. 1.1 CVD-Verfahren

1 Abscheidung. 1.1 CVD-Verfahren. 1.1.1 Siliciumgasphasenepitaxie. 1.1 CVD-Verfahren 1 Abscheidung 1.1 CVD-Verfahren 1.1.1 Siliciumgasphasenepitaxie Epitaxie bedeutet obenauf oder zugeordnet, und stellt einen Prozess dar, bei dem eine Schicht auf einer anderen Schicht erzeugt wird und

Mehr

2/2: AUFBAU DER ATOMHÜLLE Tatsächlich gilt: Modul 2 - Lernumgebung 2 - Aufbau der Atomhülle

2/2: AUFBAU DER ATOMHÜLLE Tatsächlich gilt: Modul 2 - Lernumgebung 2 - Aufbau der Atomhülle Tatsächlich gilt: Modul 2 - Lernumgebung 2 - Aufbau der Atomhülle Informationsblatt: Zusammenhang von Farbe und des Lichts Die der Lichtteilchen nimmt vom roten über gelbes und grünes Licht bis hin zum

Mehr

14. Minimale Schichtdicken von PEEK und PPS im Schlauchreckprozeß und im Rheotensversuch

14. Minimale Schichtdicken von PEEK und PPS im Schlauchreckprozeß und im Rheotensversuch 14. Minimale Schichtdicken von PEEK und PPS im Schlauchreckprozeß und im Rheotensversuch Analog zu den Untersuchungen an LDPE in Kap. 6 war zu untersuchen, ob auch für die Hochtemperatur-Thermoplaste aus

Mehr

Brücke zwischen der modernen physikalischen Forschung und dem Unternehmertum im Bereich Nanotechnologie. Quantenphysik

Brücke zwischen der modernen physikalischen Forschung und dem Unternehmertum im Bereich Nanotechnologie. Quantenphysik Brücke zwischen der modernen physikalischen Forschung und dem Unternehmertum im Bereich Nanotechnologie Quantenphysik Die Physik der sehr kleinen Teilchen mit grossartigen Anwendungsmöglichkeiten Teil

Mehr

Rastertunnelmikroskopie

Rastertunnelmikroskopie Rastertunnelmikroskopie Michael Goerz FU Berlin Fortgeschrittenenpraktikum A WiSe 2006/2007 20. November 2006 Gliederung 1 Einführung Historischer Überblick Konzept, Zielsetzung und Anwendung 2 Aufbau

Mehr

Herstellung und Analyse eines elektrischen Mikrokontaktes mit Hilfe eines Leitklebers

Herstellung und Analyse eines elektrischen Mikrokontaktes mit Hilfe eines Leitklebers Herstellung und Analyse eines elektrischen Mikrokontaktes mit Hilfe eines Leitklebers von Dr. Jan Albers und Dr. Gerhard Chmiel In diesem Artikel werden Untersuchungen dargestellt, bei denen mit Hilfe

Mehr

Defektanalyse von Photovoltaik-Modulen mittels Infrarot-Thermographie

Defektanalyse von Photovoltaik-Modulen mittels Infrarot-Thermographie Bavarian Center for Applied Energy Research Defektanalyse von Photovoltaik-Modulen mittels Infrarot-Thermographie Ulrike Jahn, Claudia Buerhop, Ulrich Hoyer 4. Workshop PV-Modultechnik, 29./30. Nov. 2007,

Mehr

2. Herstellung dünner Schichten: CVD, LPE, Sol-Gel u.a.

2. Herstellung dünner Schichten: CVD, LPE, Sol-Gel u.a. 2. Herstellung dünner Schichten: CVD, LPE, Sol-Gel u.a. [Aixtron] 1 CVD Chemical vapor deposition(cvd) reaktive Gase im Vakuum Dissoziation unter Energiezufuhr (Substrattemperatur, Gasentladung, Mikrowellen,

Mehr

Innovative Beschichtungskonzepte für die Herstellung optischer Schichten. H. Liepack, W. Hentsch

Innovative Beschichtungskonzepte für die Herstellung optischer Schichten. H. Liepack, W. Hentsch FHR Anlagenbau GmbH Eine Hochtechnologiefirma für Vakuumbeschichtungs- und Strukturierungstechnik 1991-2005: 15 Jahre erfolgreich weltweit tätig! Gründer und geschäftsführende Gesellschafter: Dr.-Ing.

Mehr

Versuch Oberflächenmanagement

Versuch Oberflächenmanagement Versuch Oberflächenmanagement Zielstellung: Einstellung der Benetzungs- und Bindungseigenschaften von Kanal- und Reaktoroberflächen Aufgabenstellung: 1) Bestimmung des Benetzungsverhaltens von Reaktormaterialien

Mehr

VIOSIL SQ FUSED SILICA (SYNTHETISCHES QUARZGLAS)

VIOSIL SQ FUSED SILICA (SYNTHETISCHES QUARZGLAS) VIOSIL SQ FUSED SILICA (SYNTHETISCHES QUARZGLAS) Beschreibung VIOSIL SQ wird von ShinEtsu in Japan hergestellt. Es ist ein sehr klares (transparentes) und reines synthetisches Quarzglas. Es besitzt, da

Mehr

Multiple-Choice Test. Alle Fragen können mit Hilfe der Versuchsanleitung richtig gelöst werden.

Multiple-Choice Test. Alle Fragen können mit Hilfe der Versuchsanleitung richtig gelöst werden. PCG-Grundpraktikum Versuch 8- Reale Gas Multiple-Choice Test Zu jedem Versuch im PCG wird ein Vorgespräch durchgeführt. Für den Versuch Reale Gas wird dieses Vorgespräch durch einen Multiple-Choice Test

Mehr

TU Bergakademie Freiberg Institut für Werkstofftechnik Schülerlabor science meets school Werkstoffe und Technologien in Freiberg

TU Bergakademie Freiberg Institut für Werkstofftechnik Schülerlabor science meets school Werkstoffe und Technologien in Freiberg TU Bergakademie Freiberg Institut für Werkstofftechnik Schülerlabor science meets school Werkstoffe und Technologien in Freiberg PROTOKOLL Modul: Versuch: Physikalische Eigenschaften I. VERSUCHSZIEL Die

Mehr

Abscheidung eines Multilayer-Dünnschichtsystems

Abscheidung eines Multilayer-Dünnschichtsystems Abscheidung eines Multilayer-Dünnschichtsystems mit selbstreinigenden Eigenschaften auf Glas mittels Combustion-CVD und Festkörperzerstäubung (Sputtern) Christian Erbe, Andreas Pfuch, Bernd Grünler, Roland

Mehr

Praktikum Nr. 3. Fachhochschule Bielefeld Fachbereich Elektrotechnik. Versuchsbericht für das elektronische Praktikum

Praktikum Nr. 3. Fachhochschule Bielefeld Fachbereich Elektrotechnik. Versuchsbericht für das elektronische Praktikum Fachhochschule Bielefeld Fachbereich Elektrotechnik Versuchsbericht für das elektronische Praktikum Praktikum Nr. 3 Manuel Schwarz Matrikelnr.: 207XXX Pascal Hahulla Matrikelnr.: 207XXX Thema: Transistorschaltungen

Mehr

22 Optische Spektroskopie; elektromagnetisches Spektrum

22 Optische Spektroskopie; elektromagnetisches Spektrum 22 Optische Spektroskopie; elektromagnetisches Spektrum Messung der Wellenlänge von Licht mithilfedes optischen Gitters Versuch: Um das Spektrum einer Lichtquelle, hier einer Kohlenbogenlampe, aufzunehmen

Mehr

FVS Workshop 2000. TCO in Solarmodulen

FVS Workshop 2000. TCO in Solarmodulen 60 TCO-Schichten in CIGS- Dünnschichtsolarmodulen Michael Powalla*, Mike Oertel und Richard Menner Zentrum für Sonnenenergie und Wasserstoff-Forschung michael.powalla@zsw-bw.de 61 Die CIGS-Modul-Technologie

Mehr

Möglichkeiten im Siebdruck bezogen auf die Solarzellentechnologie

Möglichkeiten im Siebdruck bezogen auf die Solarzellentechnologie Zukunft braucht Erfahrung Möglichkeiten im Siebdruck bezogen auf die Solarzellentechnologie THIEME GmbH & Co. KG Robert-Bosch-Straße 1 79331 Teningen info@thieme.eu Agenda + Vorstellung der Firma + Siebdruck

Mehr

Wiederholung: Duktilität

Wiederholung: Duktilität Wiederholung: Duktilität Bulkmaterial: prozentuale Bruchdehnung ε b lz l0 εb = l Dünne Schicht: 3-Punkt-Biegetest 0 l Z = Länge der Probe nach dem Bruch l 0 = Länge der Probe vor dem Bruch ε B = Bruchdehnung

Mehr

Eignung: Für genehmigungsbedürftige Anlagen und Anlagen der 27. BImSchV. Zertifizierungsbereich zusätzliche Messbereiche

Eignung: Für genehmigungsbedürftige Anlagen und Anlagen der 27. BImSchV. Zertifizierungsbereich zusätzliche Messbereiche Prüfbericht: 936/21213182/A vom 31. März 2011 Erstmalige Zertifizierung: 29. Juli 2011 Gültigkeit des Zertifikats bis: 28. Juli 2016 Veröffentlichung: BAnz. 29. Juli 2011, Nr. 113, Seite 2725, Kapitel

Mehr

Methoden. Spektroskopische Verfahren. Mikroskopische Verfahren. Streuverfahren. Kalorimetrische Verfahren

Methoden. Spektroskopische Verfahren. Mikroskopische Verfahren. Streuverfahren. Kalorimetrische Verfahren Methoden Spektroskopische Verfahren Mikroskopische Verfahren Streuverfahren Kalorimetrische Verfahren Literatur D. Haarer, H.W. Spiess (Hrsg.): Spektroskopie amorpher und kristtiner Festkörper Steinkopf

Mehr

Einzigartiges Analysegerät für Oberflächen

Einzigartiges Analysegerät für Oberflächen Medienmitteilung Dübendorf, St. Gallen, Thun, 22. August 2013 Aus zwei mach eins: 3D-NanoChemiscope Einzigartiges Analysegerät für Oberflächen Das 3D-NanoChemiscope ist ein Wunderwerk modernster Analysetechnik.

Mehr

Einzelmolekülfluoreszenzspektroskopie (EFS)

Einzelmolekülfluoreszenzspektroskopie (EFS) Fortgeschrittenen Praktikum TU Dresden 29. Mai 2009 Einzelmolekülfluoreszenzspektroskopie (EFS) Klaus Steiniger, Alexander Wagner, Gruppe 850 klaus.steiniger@physik.tu-dresden.de, alexander.wagner@physik.tu-dresden.de

Mehr

Si-Solarzellen. Präsentation von: Frank Hokamp & Fabian Rüthing

Si-Solarzellen. Präsentation von: Frank Hokamp & Fabian Rüthing Si-Solarzellen Präsentation von: Frank Hokamp & Fabian Rüthing Inhaltsverzeichnis Vorteile / Nachteile Anwendungsgebiete / Potential Geschichte Silicium Wirkungsweise / Funktionsprinzip Typen / Herstellungsverfahren

Mehr

Kleinster Abstand d zweier Strukturen die noch als getrennt abgebildet werden können.

Kleinster Abstand d zweier Strukturen die noch als getrennt abgebildet werden können. phys4.02 Page 1 1.5 Methoden zur Abbildung einzelner Atome Optische Abbildung: Kann man einzelne Atome 'sehen'? Auflösungsvermögen: Kleinster Abstand d zweier Strukturen die noch als getrennt abgebildet

Mehr

Einführung in die optische Nachrichtentechnik. Herstellung von Lichtwellenleitern (TECH)

Einführung in die optische Nachrichtentechnik. Herstellung von Lichtwellenleitern (TECH) TECH/1 Herstellung von Lichtwellenleitern (TECH) Dieses Kapitel behandelt drei verschiedenen Verfahren zur Herstellung von Vorformen für Glasfasern: das OVD-Verfahren (outside vapour deposition), das VAD-Verfahren

Mehr

Handhabung auf der Nanoskala: Graphen

Handhabung auf der Nanoskala: Graphen Handhabung auf der Nanoskala: Graphen Sören Zimmermann, Albert Sill 1 Motivation Handhabung, Charakterisierung und Montage von nanoskaligen Objekten - - eine der Hauptfragestellungen der Nanotechnologie

Mehr

Materialdatenblatt. EOS Aluminium AlSi10Mg. Beschreibung

Materialdatenblatt. EOS Aluminium AlSi10Mg. Beschreibung EOS Aluminium AlSi10Mg EOS Aluminium AlSi10Mg ist eine Aluminiumlegierung in feiner Pulverform, die speziell für die Verarbeitung in EOSINT M-Systemen optimiert wurde. Dieses Dokument bietet Informationen

Mehr

Organische Solarzellen auf der Basis von Polymer-Fulleren- Kompositabsorbern

Organische Solarzellen auf der Basis von Polymer-Fulleren- Kompositabsorbern Organische Solarzellen auf der Basis von Polymer-Fulleren- Kompositabsorbern I. Riedel J. Parisi V. Dyakonov Universität Oldenburg ingo.riedel@ uni-oldenburg.de Flüssigkeitsprozessierbare, halbleitende

Mehr

Simultane Messungen der magnetischen und elektrischen Eigenschaften von Niobdiselenid (NbSe 2 ) mittels Hall-Magnetometrie

Simultane Messungen der magnetischen und elektrischen Eigenschaften von Niobdiselenid (NbSe 2 ) mittels Hall-Magnetometrie Simultane Messungen der magnetischen und elektrischen Eigenschaften von Niobdiselenid (NbSe 2 ) mittels Hall-Magnetometrie Bachelorarbeit am Fachbereich Physik der Johann Wolfgang Goethe-Universität Frankfurt

Mehr

1 Aufgabe: Absorption von Laserstrahlung

1 Aufgabe: Absorption von Laserstrahlung 1 Aufgabe: Absorption von Laserstrahlung Werkstoff n R n i Glas 1,5 0,0 Aluminium (300 K) 25,3 90,0 Aluminium (730 K) 36,2 48,0 Aluminium (930 K) 33,5 41,9 Kupfer 11,0 50,0 Gold 12,0 54,7 Baustahl (570

Mehr

Photovoltaik. Herstellung und innovative Konzepte. Von Sebastian Illing und Nora Igel

Photovoltaik. Herstellung und innovative Konzepte. Von Sebastian Illing und Nora Igel Photovoltaik Herstellung und innovative Konzepte Von Sebastian Illing und Nora Igel Photovoltaik - Herstellung und innovative Konzepte Inhaltsübersicht 1. Herstellung 1.1 Siliziumproduktion 1.2 Zellenproduktion

Mehr

Kraftmessung an einer Slackline

Kraftmessung an einer Slackline Florian Hairer 1, Demian Geyer 2 Kraftmessung an einer Slackline Experimentelle Bestimmung von Kräften in einem Slacklinesystem mittels Dehnmessstreifen (DMS) 1 Christian-Doppler-Laboratorium für Werkstoffmechanik

Mehr

Prüfstelle Gebäudetechnik. Prüfbericht Nr.: HP-111008-1

Prüfstelle Gebäudetechnik. Prüfbericht Nr.: HP-111008-1 Prüfstelle Gebäudetechnik Prüfbericht Nr.: HP-111008-1 Objekt: Untersuchung eines Toul 300 in einem Operationssaal Auftraggeber: Toul Meditech AB Anghammargatan 4 SE-721 33 Västerâs Schweden/ Suède Datum:

Mehr

Hochdisperse Metalle

Hochdisperse Metalle Hochdisperse Metalle von Prof. Dr. rer. nat. habil. Wladyslaw Romanowski Wroclaw Bearbeitet und herausgegeben von Prof. Dr. rer. nat. habil. Siegfried Engels Merseburg Mit 36 Abbildungen und 7 Tabellen

Mehr

FinalClean, ein neuer Prozess um ENIG/ ENEPIG Leiterplatten zu Reinigen & Reaktivieren

FinalClean, ein neuer Prozess um ENIG/ ENEPIG Leiterplatten zu Reinigen & Reaktivieren FinalClean, ein neuer Prozess um ENIG/ ENEPIG Leiterplatten zu Reinigen & Reaktivieren Inhaltsverzeichnis Wer ist APL Oberflächentechnik GmbH?... 3 Was ist FinalClean?... 3 Wie funktioniert das Verfahren?...

Mehr

Standard Optics Information

Standard Optics Information VF, VF-IR und VF-IR Plus 1. ALLGEMEINE PRODUKTBESCHREIBUNG Heraeus VF - Material ist ein aus natürlichem, kristallinem Rohstoff elektrisch erschmolzenes Quarzglas. Es vereint exzellente physikalische Eigenschaften

Mehr

7. Thermische Eigenschaften

7. Thermische Eigenschaften 7. Thermische Eigenschaften 7.1 Definitionen und Methoden mit der Gibbschen Freien Energie G ist die Entroie S = ( G ) das Volumen V = G T die Enthalie H = G + TS = G T ( G ) die isobare Wärmekaazität

Mehr

Direkt Palladium/Gold (EPAG) auf Kupfer die neue Oberfläche für anspruchsvolle Elektronik

Direkt Palladium/Gold (EPAG) auf Kupfer die neue Oberfläche für anspruchsvolle Elektronik Direkt Palladium/Gold (EPAG) auf Kupfer die neue Oberfläche für anspruchsvolle Elektronik (Teil 2) Von Mustafa Oezkoek, Atotech Deutschland GmbH, Berlin, Daniel Tastl, APL Oberflächentechnik GmbH, Lörrach-Hauingen,

Mehr

Physikalisches Praktikum

Physikalisches Praktikum Physikalisches Praktikum Versuchsbericht M13 Schwingende Saite Dozent: Prof. Dr. Hans-Ilja Rückmann email: irueckm@uni-bremen.de http: // www. praktikum. physik. uni-bremen. de Betreuer: Yannik Schädler

Mehr

Dienstleistungen apparative Ausstattung analytische Möglichkeiten. des Instituts für. Physikalische Chemie

Dienstleistungen apparative Ausstattung analytische Möglichkeiten. des Instituts für. Physikalische Chemie Dienstleistungen apparative Ausstattung analytische Möglichkeiten des Instituts für Physikalische Chemie Röntgendiffraktometrie Phasenidentifikation - Quantifizierung von Phasen in zusammengesetzten Proben

Mehr

Bei Anwendung zu Hause, wo es Netzspannung gibt, raten wir, nur einen Teil der erforderlichen Energie mit Solarzellenplatten zu erzeugen.

Bei Anwendung zu Hause, wo es Netzspannung gibt, raten wir, nur einen Teil der erforderlichen Energie mit Solarzellenplatten zu erzeugen. 1) Solarzellenplatten - Basis Eine Solarzelle oder photovoltaische Zelle wandelt Lichtenergie in elektrische Energie um. Eine einzelne Solarzelle erzeugt eine sehr kleine Energiemenge. Um eine brauchbare

Mehr

Leistungsverbesserung von Umformwerkzeugen durch Beschichtung mit ternären Keramikschichten

Leistungsverbesserung von Umformwerkzeugen durch Beschichtung mit ternären Keramikschichten Leistungsverbesserung von Umformwerkzeugen durch Beschichtung mit ternären Keramikschichten Zielstellung Eine wirksame Begrenzung des Verschleißes sowie die Verbesserung der Standzeit von Umform-werkzeugen

Mehr

Versuch 33: Photovoltaik - Optische und elektrische Charakterisierung von Solarzellen Institut für Technische Physik II

Versuch 33: Photovoltaik - Optische und elektrische Charakterisierung von Solarzellen Institut für Technische Physik II Versuch 33: Photovoltaik - Optische und elektrische Charakterisierung von Solarzellen Institut für Technische Physik II Photovoltaik:Direkte Umwandlung von Strahlungsenergie in elektrische Energie Anregung

Mehr

KLEBETECHNOLOGIE (KLEBSTOFFE & ADHÄSION)

KLEBETECHNOLOGIE (KLEBSTOFFE & ADHÄSION) PRAKTIKUM: KLEBETECHNOLOGIE (KLEBSTOFFE & ADHÄSION) Durchführung: 31.03.2011 Teilnehmer: Michael Haubenhofer Dokumentation Dieses Protokoll wurde ohne Zuhilfenahme von bestehenden Protokollen erstellt.

Mehr

Grenzflächen-Phänomene

Grenzflächen-Phänomene Grenzflächen-Phänomene Oberflächenspannung Betrachtet: Grenzfläche Flüssigkeit-Gas Kräfte Fl Fl grösser als Fl Gas im Inneren der Flüssigkeit: kräftefrei an der Oberfläche: resultierende Kraft ins Innere

Mehr

Protokoll zum Versuch Keramographie

Protokoll zum Versuch Keramographie Protokoll zum Versuch Keramographie Datum: 12.05.2009 Verfasser: Dimitrij Fiz Gruppe: 12 Betreuer: Maren Lepple 1. Einleitung Ziel des Versuchs ist die Präparation und Analyse von Zirkoniumoxidkeramiken.

Mehr

Kunststoffoptiken für CPV Anwendungen

Kunststoffoptiken für CPV Anwendungen Kunststoffoptiken für CPV Anwendungen Thomas Luce Eschenbach Optik GmbH thomas.luce@eschenbach optik.de Spectaris Forum München, Intersolar 2011 Einleitung Optik Spritzguß Primäroptiken Thermoplastische

Mehr

1 mm 20mm ) =2.86 Damit ist NA = sin α = 0.05. α=arctan ( 1.22 633 nm 0.05. 1) Berechnung eines beugungslimitierten Flecks

1 mm 20mm ) =2.86 Damit ist NA = sin α = 0.05. α=arctan ( 1.22 633 nm 0.05. 1) Berechnung eines beugungslimitierten Flecks 1) Berechnung eines beugungslimitierten Flecks a) Berechnen Sie die Größe eines beugungslimitierten Flecks, der durch Fokussieren des Strahls eines He-Ne Lasers (633 nm) mit 2 mm Durchmesser entsteht.

Mehr

Oberflächenaktivierung, partielle Metallschichten und. multifunktionale SiOx-Schichten. mittels Atmosphärendruckplasma

Oberflächenaktivierung, partielle Metallschichten und. multifunktionale SiOx-Schichten. mittels Atmosphärendruckplasma Oberflächenaktivierung, partielle Metallschichten und multifunktionale SiOx-Schichten mittels Atmosphärendruckplasma Standort INOCON Technologie GmbH Munich Vienna INOCON Technologie Das Unternehmen der

Mehr

RASTER-KRAFT-MIKROSKOPIE (ATOMIC FORCE MICROSCOPY AFM)

RASTER-KRAFT-MIKROSKOPIE (ATOMIC FORCE MICROSCOPY AFM) RASTER-KRAFT-MIKROSKOPIE (ATOMIC FORCE MICROSCOPY AFM) Inhaltsverzeichnis 1. Motivation 2. Entwickler des AFM 3. Aufbau des AFM 3.1 Spitze und Cantilever 3.2 Mechanische Rasterung 3.3 Optische Detektion

Mehr

Pflichtpraktikum Methodik

Pflichtpraktikum Methodik Lehrstuhl für Adhäsion und Interphasen in Polymeren Prof. Dr. Wulff Possart Dipl.-Ing. Jan Christoph Gaukler Geb. C6.3, Raum 6.05 Email: j.gaukler@mx.uni-saarland.de Pflichtpraktikum Methodik Versuch:

Mehr

Protokoll zu Versuch E5: Messung kleiner Widerstände / Thermoelement

Protokoll zu Versuch E5: Messung kleiner Widerstände / Thermoelement Protokoll zu Versuch E5: Messung kleiner Widerstände / Thermoelement 1. Einleitung Die Wheatstonesche Brücke ist eine Brückenschaltung zur Bestimmung von Widerständen. Dabei wird der zu messende Widerstand

Mehr

Untersuchungen zur Verbesserung der Auflösung am TTF2 Strahllage-Meßsystem : Knopf-Monitor u. BPM-Elektronik Typ A

Untersuchungen zur Verbesserung der Auflösung am TTF2 Strahllage-Meßsystem : Knopf-Monitor u. BPM-Elektronik Typ A Untersuchungen zur Verbesserung der Auflösung am TTF2 Strahllage-Meßsystem : Knopf-Monitor u. BPM-Elektronik Typ A 1. Ausgangssituation Jorgen Lund-Nielsen, Wolfgang Riesch DESY, Standort Zeuthen, 18.08.2005

Mehr

Schnelle und hochgenaue Brennwert, Heizwert und Wobbe-Index Messung im Erdgas

Schnelle und hochgenaue Brennwert, Heizwert und Wobbe-Index Messung im Erdgas Schnelle und hochgenaue Brennwert, Heizwert und Wobbe-Index Messung im Erdgas Einleitung Das Precisive Erdgasanalysegerät ist das erste optische System, welches die Unterscheidung von verschiedenen Kohlenwasserstoffen

Mehr

@ Anmelder: VACUUMSCHMELZE GMBH Bereich Verträge und Patente Grüner Weg 37 Postfach 109 D-6450 Hanau 1(DE)

@ Anmelder: VACUUMSCHMELZE GMBH Bereich Verträge und Patente Grüner Weg 37 Postfach 109 D-6450 Hanau 1(DE) Europäisches Patentamt European Patent Office Veröffentlichungsnummer: 0 009 603 Office europeen des brevets A1 EUROPÄISCHE PATENTANMELDUNG @ Anmeldenummer: 79103096.8 @ Int. Cl.3: B 22 D 11/06 (22) Anmeldetag:

Mehr

2 Physikalische Eigenschaften von Fettsäuren: Löslichkeit, Dissoziationsverhalten, Phasenzustände

2 Physikalische Eigenschaften von Fettsäuren: Löslichkeit, Dissoziationsverhalten, Phasenzustände 2 Physikalische Eigenschaften von Fettsäuren: Löslichkeit, Dissoziationsverhalten, Phasenzustände Als Fettsäuren wird die Gruppe aliphatischer Monocarbonsäuren bezeichnet. Der Name Fettsäuren geht darauf

Mehr

Hahn-Meitner-Institut Berlin

Hahn-Meitner-Institut Berlin Nickel-induzierte schnelle Kristallisation reaktiv gesputterter Wolframdisulfid-Schichten Stephan Brunken, Rainald Mientus, Klaus Ellmer Hahn-Meitner-Institut Berlin Abteilung Solare Energetik (SE 5) Arbeitsgruppe

Mehr

Fragen zur Lernkontrolle

Fragen zur Lernkontrolle Fragen zur Lernkontrolle 1) a) Erläutern Sie die Zusammenhänge zwischen Masse, Kraft und Gewicht! b) Beschreiben Sie die Vorgänge bei der Elektrolyse und geben Sie die dafür von Faraday gefundene Gesetzmäßigkeiten

Mehr

Untersuchung des Gefügeeinflusses auf das plastische Verformungsverhalten gekerbter cp-titan Proben

Untersuchung des Gefügeeinflusses auf das plastische Verformungsverhalten gekerbter cp-titan Proben Untersuchung des Gefügeeinflusses auf das plastische Verformungsverhalten gekerbter cp-titan Proben Claudia Kühn, Christoph Ruffing, Tobias Junker, Eberhard Kerscher Arbeitsgruppe Werkstoffprüfung (AWP),

Mehr

Praktikumsprotokoll. vom 25.06.2002. Thema: Radioaktiver Zerfall, radioaktive Strahlung. Tutor: Arne Henning. Gruppe: Sven Siebler Martin Podszus

Praktikumsprotokoll. vom 25.06.2002. Thema: Radioaktiver Zerfall, radioaktive Strahlung. Tutor: Arne Henning. Gruppe: Sven Siebler Martin Podszus Praktikumsprotokoll vom 25.6.22 Thema: Radioaktiver Zerfall, radioaktive Strahlung Tutor: Arne Henning Gruppe: Sven Siebler Martin Podszus Versuch 1: Reichweite von α -Strahlung 1.1 Theorie: Die Reichweite

Mehr

Michelson-Interferometer & photoelektrischer Effekt

Michelson-Interferometer & photoelektrischer Effekt Michelson-Interferometer & photoelektrischer Effekt Branche: TP: Autoren: Klasse: Physik / Physique Michelson-Interferometer & photoelektrischer Effekt Cedric Rey David Schneider 2T Datum: 01.04.2008 &

Mehr

Inhalt der Demonstrator-Vitrine. Stand: 2. März 2011

Inhalt der Demonstrator-Vitrine. Stand: 2. März 2011 Inhalt der Demonstrator-Vitrine Stand: 2. März 2011 Elektrolumineszenz-Demonstrator Frontelektrode: Leuchtstoff: Dielektrikum: Rückelektrode: Maske: PET-Folie ATO oder PEDOT:PSS ZnS:Cu, ZnS:Mn BaTiO3 Silber

Mehr

5.3 Weitere Wechselwirkung mit Photonen: Spektroskopie

5.3 Weitere Wechselwirkung mit Photonen: Spektroskopie Dünnschichtanalytik Teil 2 5.3 Weitere Wechselwirkung mit Photonen: Spektroskopie [Schmidl] 1 5.3.1 Wechselwirkungen mit Photonen A - Elastische Wechselwirkung: - sekundäre Strahlung - Beugungsexperimente

Mehr

IU3. Modul Universalkonstanten. Lichtgeschwindigkeit

IU3. Modul Universalkonstanten. Lichtgeschwindigkeit IU3 Modul Universalkonstanten Lichtgeschwindigkeit Die Vakuumlichtgeschwindigkeit beträgt etwa c 3.0 10 8 m/s. Sie ist eine Naturkonstante und soll in diesem Versuch bestimmt werden. Weiterhin wollen wir

Mehr

Projektname: PVD-Beschichtung 2 Projektstart: März 2016

Projektname: PVD-Beschichtung 2 Projektstart: März 2016 Projektziel Ziel des Projektes ist es, mit dem PVD-Verfahren dekorative DLC-Schichten für edle Schwarzchrom-Optiken mit und ohne Schutzlack sowie weitere Farbgebungen durch die Kombination mit unterschiedlichen

Mehr

Silber-Beschichtung und Implantation von Implantatschrauben

Silber-Beschichtung und Implantation von Implantatschrauben Silber-Beschichtung und Implantation von Implantatschrauben M. Schlegel, K. Barucki, S. Mändl, M. Kunert Mühlleiten 02.-04. März 2010 1 Gliederung 1. Einleitung (herkömmliche Implantatbeschichtungen +

Mehr

Kristallwachstum. Epitaxie C10.2-1. Epi (altgr): gleiches Material z.b. Si auf Si. anderes Material z.b. Ge auf Si

Kristallwachstum. Epitaxie C10.2-1. Epi (altgr): gleiches Material z.b. Si auf Si. anderes Material z.b. Ge auf Si Kristallwachstum Epitaxie Taxis (altgr): Epi (altgr): Ordnung oben Homoepitaxie gleiches Material z.b. Si auf Si Heteroepitaxie anderes Material z.b. Ge auf Si Prof. Dr. H. Baumgärtner C10.2-1 C10.2-1

Mehr

Grundlagen der Elektro-Proportionaltechnik

Grundlagen der Elektro-Proportionaltechnik Grundlagen der Elektro-Proportionaltechnik Totband Ventilverstärkung Hysterese Linearität Wiederholbarkeit Auflösung Sprungantwort Frequenzantwort - Bode Analyse Der Arbeitsbereich, in dem innerhalb von

Mehr

8.2 Höchst einfach mit Rose K höchst individuell mit Mk Pro

8.2 Höchst einfach mit Rose K höchst individuell mit Mk Pro 8.2 Höchst einfach mit Rose K höchst individuell mit Mk Pro Galifa, Oliver Hoppe Kontaktlinsenanpassungen bei Keratokonus stellen eine Herausforderung dar. Viele Keratokonusfälle können mit vordefinierten

Mehr